Устройство для осаждения композиционных электрохимических покрытий

Устройство для осаждения композиционных электрохимических покрытий

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

< ты .а тт..к

OllHCAHHE

ИЗОБРЕТЕНИЯ

xiii 3504S5

Союз Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 06.10.75 (21) 2178286/02 с присоединением заявки № (23) Приоритет

Опубликовано 15.03.77. Бюллетень № 10

Дата опубликования описания 15.04.77 (51) Ч. Кл. -С 25D 17/02

Государственный комитет

Совета Министров СССР по делам изобретений н открытий (53) УДК 621.357.77. .002. 52 (088.8) (72) Авторы изобретения

Н. С. Перене, Д. К. Раманаускене, К. И. Гайгалас и Л. И. Тайцас

Институт химии и химической технологии АН Литовской ССР (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ

КОМПОЗИ11,ИОН HblX ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ

Изобретение относится к области электрохимии, в частности к устройствам для осаждения композиционных электрохимических покрытий.

Известно устройство для осаждения композиционных гальванических покрытий, содержащее механизм для перемешивания суспензии (1).

Известно также устройство для осаждения композиционных электрохимических покрытий, содержащее ванну с электродами, барботажную трубку и перемешивающее устройство, выполненное в виде перфорированной горизонтальной пластины (2), При использовании указанного устройства создается более упорядочное движение частиц вдоль катодной поверхности, увеличивается среднее время пребывания частиц у поверхности катода, Однако при этом необходимо понижать интенсивность перемешивания вблизи катода, что, в свою очередь, требует снижения общей интенсивности перемешивания в ванне и, следовательно, неизбежно приводит к уменьшению концентрации частиц в верхнем слое электролита.

Целью изобретения является повышение содер>кания керамической фазы в композиционных электрохимических покрытиях путем обеспечения упорядоченного и замедленного движения твеодых частиц около катода. Это достигается тем, что устройство снабжено дополнительным дном, расположенным с зазором относительно боковых стенок ванны, а оарботажная трубка находится в пространстве между основным и дополнительным дном и смещена от центра к аноду.

Кроме того, устройство оборудовано направляющими с прижимными болтами, что позволяет регулировать величину зазоров под элек10 тр одам и.

На чертеже показано предлагаемое устройство с разрезами по А — л и Б — Б.

Устроиство содержит ванну 1 с анодом 2 и катодом 3, барботажную трубку 4 и допол15 нительное дно о. Кроме того, устройство снабжено направляющими б с прижимными болтами 7.

В процессе работы пузырьки воздуха BbIxo дят из отверстия, устремляются по пути наи20 меньшего гидравлического сопротивления в ближайший зазор В. Над этим зазором по. мещен анод 2, У противоположной стенки интенсивность перемешивания уменьшается и частицы под действием силы тяжести оседа25 ют вдоль катода 3, Благодаря наличию разности давлений в зазорах В и Г суспензия всасывается в зазор Г и в пространство между основным и дополнительным дном. Таким образом осуществляется общая циркуляция зо суспензии в аппарате и создается область с

550465

3 меньшей интенсивностью перемешивания и упорядоченным движением частиц около катода.

Интенсивность перемешивания около катода и анода можно регулировать изменением величины зазоров перемещением дополнительного дна в горизонтальной плоскости. Для этого оно может лежать на направляющих 6, снабженных прижимными болтами 7.

При помощи описываемого перемешивающего устройства создаются благоприятные условия для включения твердых частиц в металлическое покрытие и в результате содержание их в покрытии увеличивается. Так, при осаждении с никелем порошков карборунда

SiC МЗ и М7 (средний размер частиц 3 и

7 мкм) в устройстве, имеющем только барботажную трубку, содержание SiC в покрытиях

1 — 2 вес, /о при концентрации частиц в суспензии 100 — 200 г/л и плотности катодного тока 5 А/дм .

По итогам проведенных испытаний предлагаемого устройства видно, что при тех же условиях в нем осаждаются покрытия, содержащие до 10 вес. о/о SiC. Такое увеличение содержания керамики может повысить износостойкость покрытий в 50 раз.

Интенсивное перемешивание в области анода предотвращает прилипание частиц к его поверхности и вызываемую вследствие этого экранизацию анодной поверхности. Таким образом, в устройстве создаются благоприятные условия для течения не только катодного, но и анодного процесса.

Формула изобретения

У . Устройство для осаждения композиционных электрохимических покрытий, содержа10 щее ванну с анодом и катодом и барботажную трубку, отличающееся тем, что, с целью повышения содержания керамической фазы в композиционных электрохимических покрытиях путем обеспечения упорядоченного и

)5 замедленного движения твердых частиц около катода, оно снабжено дополнительным дном, расположенным с зазором относительно боковых стенок ванны, а барботажная трубка размещена в пространстве между ос20 новным и дополнительным дном и смещена от центра к аноду.

2. Устройство по п. 1, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью регулирования величины зазоров под электродами, оно снабжено на25 правляющими с прижимными болтами.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Патент Великобритании Мо 1329081, кл.

С 7В, опубл, 1970.

ЗО 2, Патент Великобритании Ме 1.347.184, кл.

С 7В, опубл. 1972.

55О465

Воздух.Впздд

Составитель И. Саакова

Текред А. Камышникова

Редактор Н. Корченко

Корректор 3. Тарасова

Типография, пр. Сапунова, 2

Заказ б97/б Изд. ¹ 344 Тираж 499 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, К-35, Раушская наб., д, 4/5