Устройство для нанесения фоторезиста на пластины
Иллюстрации
Показать всеРеферат
(ii) 555%7
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Ооез Советских
Социалистических
Республик (51) М. Кл. В 05С 11/02
В 04В 5/00 (б1) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 29.12.75 (21) 2307518/05 с присоединением заявки № (23) Приоритет
Опубликовано 30.04.77. Бюллетень № 16
Дата опубликования описания 20.0б.77
Государственный комитет
Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий (53) УДК 66,067.57 (088.8) (72) Авторы изобретения
В. H. Комаров, Н. И. Никулин и И. И. Поярков (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ HAHECEHHSJ ФОТОРКЗИСТА
НА ПЛАСТИНЫ
Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий с помощью центробежной силы, и может быть, в частности, использовано для нанесения светочувствительного слоя (фоторезиста) на пластины при химической фотогравировке.
Известно устройство для нанесения светочувствительного слоя на пластины при химической фотогравировке, включающее барабан и держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости (1).
Однако в таком устройстве имеет место проскальзывание обрабатываемой пластины относительно барабана в начальный момент нанесения фоторезиста, что является основной причиной получения неравномерного по толщине слоя фоторезиста на пластине. Кроме того, в процессе обработки пластины фоторезист попадает на обратную сторону пластины и на фиксирующие штыри, что влечет за собой необходимость проведения дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины, промывки фиксирующих штырей после обработки каждой пластины.
Известно устройство для нанесения фоторезиста па пластины, содержащее сборник фоторезиста, установленную внутри него приводную оправку с вакуумной полостью (2).
Конструкция известного устройства не исключает возможности попадания фоторезиста на обратную сторону пластины, что ведет к необходимости введения в технологический процесс дополнительной операции отмывки обратной стороны пластины и является недостатком конструкции, загрудняющнм автоматизацию процесса.
Недостатком известного устройства является также сложность конструкции и изготовления, обусловленная подводом вакуума к
10 вращающейся оправке.
Цель изобретения — исключение попадания фоторезиста на обратную сторону пластины.
Для этого предлагаемое устройство снабжено крыльчаткой, соосно установленной с зазо15 ром на оправке. Кроме того, в стенках оправки выполнены радиальные отверстия.
На фиг. 1 изображен общий вид устройства в разрезе; на фиг. 2 — разрез по А — А на фиг. 1.
20 Устройство содержит корпус 1, сборник фоторезиста 2, оправку 3 с вакуумной полостью
4 и радиальными отверстиями 5, электропривод б оправки, крыльчатку 7 с электроприводом 8.
25 Устройство работает следующим образом.
Пластину 9 устанавливают на оправку 3 и включают электропрнвод 8 крыльчаткп 7. Под действием крыльчатки 7 воздух через радиальные отверстия 5 оправки 3 откачивается из
30 вакуумной полости 4. В вакуумной полости 4
555917
Щи. 2
Составитель Ю. Введенский
Редактор Т. Никольская Техред 3. Тарасова
Корректор О. Тюрина
Заказ 1157 13 Изд. ¹ 428 Тираж 944 Подписное
ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 создается раз1)ежсние, !!адe>!
По истечении определенного времени приводы
6 и 8 отключают, пластину 9 снимают с оправки 3 и передают на операцию сушки фоторезиста. Цикл повторяется.
Описанная конструкция устройства полностью исключает попадание фоторезиста на обратную сторону пластины. Кроме того, устройство, по сравнению с известным, имеет более простую конструкцию, обладает повышенной надежностью в работе, проще в эксплуатанин за счет исключения элементов подвода вакуума к вращающейся оправке.
Формула изобретения
5 .. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины, содержащее сборник фоторезиста, установленную внутри него приводную оправку с вакуумной полостью, о т л и ч а ю щ ее с я тем, что, с целью исключения попада)0 ння фоторезиста на обратную сторону пластины, оно снабжено приводной крыльчаткой, соосно установленной с зазором на оправке.
2. Устройство для нанесения фоторезиста на пластины по п. 1, о т л и ч а ю щ е е с я тем, 15 что в стенках оправки выполнены радиальные отверстия.
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:
1. Авт. св. № 360110, кл. В 04 b 5/00, 1972.
2. Авт. св, № 358019, кл. В 04 b 5/00, 1970 (прототип).