Распылительная камера

Распылительная камера

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

с.". .." .", .". ", О Л Й С А И Й Е

ЙЗОБРЕТЕН ЙЯ (11) 558868 (6l) Дополнительное к авт. свил-ву (51) M. Кл.

С 23 С 15/00 (22) Заявлено 29.12.73 (21) 1980970/26 с присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликовано25,05.77.Бюллетень № 19 (45} Дата опубликования описания 12.08.77

ПВударатвенный номитет

ЯаВата Министров СССР аа делам изобретений и атирнтий (53) УДК 678.026.34 (088.8) (72) Авторизобретения

Н. М. Рахманин

Ленинградский электротехнический институт связи им. проф. М. А. Бонч-Бруевича (71) Заявитель (54) РАСПЬИИТЕЛЬНАЯ КАМЕРА

Изобретение относится к технологии осаждения тонких проводящих и диэлектрических пленок на плоские подложки методами катодного, ионно-плазменного и ВЧраспыления.

Широко известны распылительные камеры с плоско-параллельной системой мишеньподложка, в которых используются мишени дисковой или прямоугольной формы fl).

l0

Однако у таких камер ограниченные возможности по обеспечению высокой степени равномерности толщины осаждаемых пленок на подложки, размеры которых соизмеримы с размерами мишени. Способ увеличения д плошади равномерного осаждения за счет увеличения площади распыляемой поверхности плоской мишени, как правило, связан со снижением КПД распылительных систем, а в ряде случаев он принципиально не может о быть реализован. Вчастности,,в триодных системах ионно-плазменного распыления, где относительно однородная плазма локализована в ограниченном пространстве, увеличение линейных размеров мишени влечет за собой неоднородность распыления ее поверхности.

Стремление разрешить это противоречие привело авторов (1) к идее использования составной мишени из кольца и диска, Недостаток такого технического решения состоит в необходимости применения дополнительного высоковольтного источника питания.

Увеличение площади равномерного осаждения без увеличения габаритов камеры может быть достигнуто путем искривления рабочей поверхности мишени. Так например, конструкция распылительной камеры с мишенью представляет собой часть сферы и выполнена со специальными "монокристальными" выступами для усиления эффекта фокусировки имитируемых частиц (2). Подложка размещалась в центре диаметральной плоскости сферы. Необходимый оельеф пленки обеспечивался перемещением подложки в горизонтальной плоскости относительно отверстия в заслонке. Технологическая сложность получения фокусирующих выступов на распыляемой поверхности мишени и необ