Раствор для травления пленок окисла железа

Раствор для травления пленок окисла железа

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Союз Советских

Социалистииесиих

Республик

ОП ИСАНИ Е

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВ ИВЛЬСТВУ (61) Доаолиитецьное. к авт. саид-ву (22) Заявлено 09.10.75(21) 2179962/21 с присоедииевием заявки М (23) Приоритет (43) Опубликоваио25.09.77Зюллетень И 3 (4S) Дата опубликования описании 24»10.77

t

Гаеударствеенай еоиатат

Совета Меиестраа СССР ю делам азебретеней а еткрмткй

82.002

8. 8) (72) Авторы изобретения

Б. Е. Раснецова, Г. Я. Колмаковв и Ш. Л. Кегеттес (71) Заявитель (54) РАСТВОР ДЛЯ ТРАВЛЕНИЯ ПЛЕНОК ОКИСЛА ЖЕЛЕЗА

Изобретение относится к вешествам, используемым при изготовлении изделий электронной техники, а именно полупрозрачных фотошаблонов с маскируюшим покрытием из окисла железа. б

Известен раствор для травления пленок окисла железа, например,. при получении рисунка фотошаблона, содержаший соляную кислоту, воду, гайогеннд калия и соединение меди с хлором (1) .

Однако при использовании етого раство ра скорость травления ограничена и точность воспроизведения рисунка фотошаблона недостаточна.! а

Бель изобретения - увеличение скорости травления.и повышение точности воспроизведения рисунка фотошаблона.

Это достигается тем, что раствор для

rpa8ã..íèÿ пленок окисла железа, например прн получ нии рисунка фотошаблона, содержаший соляную кислоту, воду, галогенид калия н соединение меди с хлором, в качестse галогеиида к; дия сод ржиц бромисгый ка..ий, а в кач .стве согдиец имя м .ди с хло-2ч ром - хлористую медь при следуепшем соотношении исходных компонентов, г:.

Бромистый калий 3»»25

Хлористая медь 1, 1-16

Вода 20 -80

Соляная кислота Ос тальное.

Раствор готовится следуюшим образом.

Растворяют в воде бромистый калий, растворяют в соляной кислоте хлористую медь, после чего оба раствора сливают н перемешивают, Порядок операпий при получении железоокисного рельефа на стекле с использованием предлагаемого раствора следуюшнй: нанесение позитивного фоторезиста иа пленку окисла åïoàà, осажденную на стеклянную подломяу; термообработка фоторезистивного покрытия; экспонирование через эталонный фотошаблон; птюявление и промывка; сушка на воздухе; избирательное травление пленки окисла через фоторезистивную зашит ую маску; промывка; удаление фоторезиста и промывка.

Дялее дривед :кы примеры использования ит» для&<.мого гравителя при изготовлении

Раствор для травления пленок окисла железа, например при получении рисунка фо

5 тошабпона, содержащий соляную кислоту, воду, галогенид калия и соединение меди с xltoром, о т л я ч а ю ш и и с я тем, что;

c Izettblo увеличения скорости rpaaneHEH и повышения точности воспроизведения ри<О сунка фотошаблона, в качестве галогенида калия он содержит бромистый калий, а в

Ka tecr@e coeggtHeHHH меди с хлором - хло22истую медь при следуюшем соотношении

HCXOjlHbfX КОМПОНеитОВ, Г:

Бромнстый калий

Хлористая медь

Вода

Соляная кислота

3 — 25

1, 1-16

20 — 80

Ос тальное.

Источники информации, принятые во внимание нри экспертизе:

1. Патент ФРГ N 1 102517,кл.480 1/00, l

25 28,09.6 1.

573510 полупрозрачных фотошаблонов путем фотолигогрвфической обработки пиролигическнх пленок Ге О, осажденных нв стекле прн 140-200 С.

Пример 1.

НС „», „— 100

KBr — 3

Cu C(— 1,1

НΠ— .20

Пример 2.

НС8 у» д

KBr — 14

C e, — 2 5

H Ь вЂ” 45

2 о

Температура осаждения пленки 170 С; скорость травления 40 А/сек; мяннмальный размер штриха 3 мкм.

Пример 3.

НСЕ„.„, — 100

5Br — 25

Си С вЂ” 16

H 0 — 80

2 о

Температура осаждения пленки 200 С; скорость травления 30 A/ñåê; минимальный размер штриха 3 мкм.

Формула изобретения

Составитель 3. Лякишев

Редактор О. Стеннна Техред 3. фанта Корректор А. Ланида

Заказ 3717/21 Тираж 1 130 Подписное

11ПИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

1 13035, Москва, >V-35, Рвушская нвб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, r. Ужгород, ул. Проектная, 4