Устройство для дозирования одного газа в другой, преимущественно для систем газового легирования
Иллюстрации
Показать всеРеферат
(Й) Доподиитевьиое к авт. свид-Ву
Щ) аинлено04.07.75 (21)2151б33/18 10 е ирисоедииением эаяаки № (23) Приоритет (43) Опубликовано}5.11.7 Бюллетень № 43 (45) Дата опубликовании описании О8.12.77 (5l) М. Кл, 2
С О1 Г 1ЗГОО (53) УДК66.028
{088.8) Э. Б. Сигепов и A. A. Бардин (64) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДОЗИРОВАНИЯ ОДНОГО ГАЗА
В ДРУГОЙ, ПРЕИМУШЕСТВЕННО ДЛЯ СИСТЕМ
ГАЗОВОГО ЛЕГИРОВАНИИЯ
Изобрзтение Относи.».ся K устройствам для дозированно добавки одного газа В другой, преимуиественной дйя систем ГазОВОГО лего рования s Области полупроводникового маши построении» 6
Известны устройства для дозирования
ОДИОГО газа В друГОЙ» содержешие два кла пана с мерным объемом между ними и труб ку основного потока геза 11). Однако такие устрОйства не Обеспечивая}т смешения дозируемого газе с основным потоком дру гого газа при сохранении высокой точноо ти дОзиpGBBiNR имек}т узкий диапазон расходов дозируемого газа и не приспособ» лены для работы и системах Газового ле !
Гировення»
Из известных устройств наиболее близким по. технической сушиости к предлагаемому являетси устройство для дозирования однОГОЩ
Газе в другой для систем ГазовОГО легиро » вения полупроводникового материала, со перин}лее корпус, два клапана с мерным объе мом между ними, источник дозируемого, газе и трубку основного потоке Газа $2$ б
B известном устройстве произвпдит до зирование легирук}шей примеси в виде до банки гезообРЯзных гидРидов{ РН>» Вк HO, m ДР.) к основному потоку газе, содержащему Водород и тетрахлорид кремния. Дози
; рование,добавки проводят путем многократ
НОГО разбавления ГидридОВ водородом со сбросом большей чести газовой смеси в атмосферу. Недостатком известного устрой ства является невозможность дозирования без сброса дорогостояших газов в атмосферу, что ведет K низкой тОчнОсти позирования и неэкопомнчн1йтя устройстВе
Цель изобретении - повышение точности
ДОЗИРОВЕНИЯ И ЭКОНОМИЧНОСТИ УстРОйСТВа.
Это пост иГеется тем» чт о. Трубке основ" ного потока rasa снабжена сужеюшим ус г
« ройством и соединена со вторым по ходу дозируемого газа клапаном посредством ка нала, выполненного в стенке корпусе, выходящего к месту сужения сужеюшего устрой тве Кроме того, суже}ощее устройство выполнено из двух суженных навстречу друг другу честей трубки основного потока газа, Фбраз чоших эжекторный есм .
5813
Действие предлагаемого устройства основано на том, что наличие сужаюшегО устройства в трубке основного потока и соединение ее каналом со. вторым по ходу дозируемого газа клапаном приводит к созданию разряжении в месте сужении эа счет местного увеличении скорости основного потока газа, что способствует отсосу очередной дозы добавки из мерного объема, заключенного между клапанами, гри QT . З крытии второго клапана.
На чертеже пока и но предлагаемое устройство(пример выполнения его дна системы газового легироиаииа в оборудова иии дла эпитаксии кремнии из газовой фа- И зы, которое широко расщюстранепе в технологии шлунроводиикового щмэизвоуР чва) е
Устройство состоят из кщ6фса 1 с тремя песаеаоватеиьно-соединенными внут ренними кенапами 2 и 3 полостями, в двух иэ. которых размещены заиориые кла паны 4 и 8 с мерным объемом 8 между ними, а через третью полость 7 щюпущена трубка 8 основного потока. Газа, имею щая две суженные навстречу друг другу, части, I образующие эжекториый насос 9.
Мерный объем 8 имеет.ответвненне, ос пашенное норшием. ХО, имеющим возмож ность возвратно-поступательногю переме щения дни регулироеания величины мерного объема 8.
Устройство работает следующим Обре зом.
Водород, содержащий иегирукиную до бавку в виде например, фосфинв (Нд+ РЯ ), З через канал 3 иодв@ден и клапану 4. Йе трубке Э ирекЩ3ит основной поток 8 +
+ gkCtg сэщ6цмй,рьзрижение в месте су" щвниа 9 э полос%и 7, В канале 3 и и БВ" ности корпуса за клапаном 5. Открытие илвпвна 4 сопровождается наполнением мерного Офьемв 6 легияъяпнм газому ) после чего клапан 4 закрываетса и открывается клапан 5, При этом доза (В + РНЗ) из мерного объема 6 ПОступает ПО каналу 3
В полОсть 7 и далее B выхОдную часть трубки 8 за счет Отсасывающего действии эжекторного насоса 9. Затем клапан 5 закрывается. Частота следования импульсов определяется электромеханическим или другим устрой -твом, включающим приводы клапанов 4 g 5 (на черт. Не показан).
Переход на другой уровень расхода ли
Гатуры достигается при сохранении частоты срабатывания клапанов 4 и 5 перемещением поршни 1G s ответвлении мерного Объема
6.
1. Устройство для дозирования Одного
Газа в другой, преимущественно gag сис тем газового легнрояанна„с Одержащее хорнуc два клапана с мерным Объемом между ними, источник дозируемого газа и трубку ОсновнОГО потока B38ð О t л и ч а ю щ е е с а тем, что, с нелью новы щения тОчностн позирования н экономнч» ности устройства,, трубка основнОГО BGTG ка газа снабжена сужающнм устройством и. Соединена со вторым по ходу дозируемо го газа кпап»аном поСредством канала, виполйМйого в стенке корпуса, выходащеГО K меСФу сужении сужающего устройст ваэ
2. Устройство no n. 1, о т л и ч а юя е е с и тему чтО сужающее устройствО выполнено из двух суженных навстречу друг другу Частей трубки ОсновнОГО потока Га за1 образуюшж эжекторный насос.
Истопники информапииу принятые Bo в ни манне при sKcBBptB¹»
1. Патент CIA % 32295GG, кл. 73-19, опубл. 1986.
2. Патент ФРГ M 1289571 кл. 12 Я 1 7/32, 1969.
581377
Составитель Н, Ермолаева
Редактор Н. Козлова Техред 3. Фанта Корректор Н. Ковалева
Заказ 4562/33 Тираж 907 Подписное
ОНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР пао делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП Патент", r. Ужгород, ул, Проектная, 4