Способ получения асферических поверхностей

Способ получения асферических поверхностей

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИЛЕТЕЛЪСТВУ

Союз Советским

Социалистических

Республик (>) 585l33 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 05.04,76 (21) 2341504/29-33 с присоединением заявки № (23) Приоритет— (43) Опубликовано 25.1277, Бюллетень № 47 (45) Дата опубликования описания 27.1277 (5!) М. Кл.

С 03 С 17/30

focf4cpcT$clllbl1 ввматьт

6евьта Мвнавтрвв CCCP вв 4ввам вавврьтаввй а вткрытвй (53) УДК 666.1 ° 056 (088. 8) (72) Авторы изобретения

Г.И.Голубева, А.И.Клочков, Б.A.Øàïî÷êèí, .Т.И.Белозерова и К.Н.Афанасьев (71) Заявитель (54) СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АСФЕРИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ

Изобретение относится к области оптической технологии изготовления асферических поверхностей на оптических деталях.

Известен способ получения асфе- 5 рических поверхностей путем нанесения на заготовку разделительного асферизующего слоя иэ моноокиси кремния в вакууме (1).

Наиболее близким по технической 10 сущности и достигаемому результату к предлагаемому способу является способ получения асферических поверхностей путем нанесения на подложку слоев моноокиси кремния переменной толщины через маску электронно-лучевым методом 121. Этот способ заключается в том, что наносится асфериэующий слой моноокиси кремния термическим испарением в вакуумной камере в два этапа: вначале на заготовку, нагретую до 300-400 С, осаждается равномерный подслой моноокиси кремния, а затем через маску осаждается раэнотолщинный слой моноокиси кремния при обычной — . температуре заготовки около 30 С.

Однако известные способы обладают следующими недостатками: требуют специального нагрева заготовки, удлиняю-. щего технологический процесс; при термическом испарении моноокись кремния трудно стабилизируется по показателю преломления, что приводит к дополнительным ошибкам геометрической .толщины асфериэующих слоев, т.е. снижению качества асферической поверхности; кроме того, такие способы обладают недостаточно вйсокой прочностью.

Цель изобретения — повышение качества и прочности асферизуюших слоев.

Это достигается тем, что в качестве окисла кремния используют кварц, а нанесение слоев ведут дискретно с толщиной каждого слоя 0,1-0,2 мкм с интервалами, равными времени осаждения одного слоя.

Такой режим позволяет уменьшить поверхностные и внутренние напряжения в слоях и благодаря этому сохранить правильную форму асферической поверх. ности, а также исключить растрескивание и отклонение.

Данный режим нанесения слоев обеспечивает достаточную производительность, так как позволяет получать полный асферизующий слой, например, в 1 мкм эа время 30 минут.

Использование изобретения позволит повысить процент выхода годных изделий при вакуумной асфериэации и улучшить

585133

Формула изобретения

Составитель Г.Буровцева Техред Н.Вабурка Корректор П.Макаревич

Редактор А.Морозова

Заказ 4953/14 Тираж 583 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, г.ужгород, ул.Проектная, 4 качественные показатели асферических поверхностей.

Способ получения асферических поверхностей путем нанесения íà подложку слоев окисла кремни я переменйой толщины через маску электронно-лучевым методом, отличающийся тем, что, с целью повышения качества и прочности слоев, в качестве окисла кремния используют кварц, а нанесение слоев ведут дискретно с толщиной каждого слоя 0,1-0,2 мкм с интервалами, равными времени осаждения одного слоя

Источники информации,. принятые во внимание при экспертизе:

1. Авторское свидетельство СССР

10 Р 268621, кл. С 03 С 17/06, 1968.

2. Авторское свидетельство СССР

М 381622, кл. С 03 С 17/30, 1971.