Диафрагма для электролитических процессов
Иллюстрации
Показать всеРеферат
! ° 4rLR (. С
KA
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
Союз Советских
Социалистических
Республик (<>) 602б10
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свил-ву (22) Заявлено 12.03.76 (2!) 2332462/23-26 с присоединением заявни ЭВ (23) Приоритет— (43) Опубликовано 15.04.78.6воллетень % 14 (5l) М. Кл.
С 25 В 13/02
Гооуднротввнныу NNMNTIT
Ооввтв Мнннотров CCCP но,нвлвм наоорвтвннй
r отнрытнй (53) УДК621. 357. 12 (088. 8) (45) Дата опубликования описания 240378 (72) Pâòîðû изобретения
В.С.Бобрин, Г.И.Волков, В.А.Ильин, В.Л.Кубасон и В.Г.Приходченко (71) Заявитель (54) ДИАФРАГМА ДЛЯ ЗЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ
ПРОЦЕССОВ
Изобретение относится к электрохимическому произчодству, в частности к диафрагмам для элекролитических процессов.
Известна диафрагма для элекролитических процессов, представляющая собой пористую перегородку, препятствующую смешению анодных и катодных продуктов
11(. Ее недостатком является повышен« ное омическое сопротивление. l0
Наиболее близким к описываемому изобретению по технической сущности и достигаемому результату является диафрагма для электролитических процессов, t. в которой выполнены сквозные отверстия (5 цилиндрической Формы. Перфорируют диафрагму электронным лучем (2) . Недостатком известной диафрагмы является значительное омическое сопротивление при сохранении ее прочности на разрыв gg которая должна быть не ниже 100 кг/см для диафрагм из полимерных материалов.
Целью настоящего изобретения является уменьшение омического сопротивления диафрагмы при сохранении ее 25 прочности на разрыв.
Поставленная цель достигается тем, что сквозные отнерстия в диафрагме для электролитических процессов выполнены в форме усеченных конусов. Такая, 3(j
Форма отверстий дает возможность, ос-. тавив оптимальное расстояние между отверстиями, предотвращающее слияние нескольких отверстий, расширить их в напранлении к противоположной стенке диафрагмы.
Расширение отверстий приводит к увеличению среднего суммарного сечения отверстий, а следовательно и к уменьшению омического сопротивления диафрагмы.
На чертеже представлена диафрагма, сквозные отверстия которой выполнены в форме усеченных конусов. В диафрагме 1 из фторопласта сделаны отверстия
2 в форме усеченного конуса.
Указанную диафрагму из Фторопласта толщиной 200 мкм испытывают при электролизе хлоридов с концентрацией 300305 г/л КаСР при плотности
2,5 кА/м и концентрации едкого натра
120 г/л. Для сравнения испытывают известную диафрагму со сквозными отверстиями цилиндрической формы диаметром 200 мкм и шагом между ними 300 мкм.
Предлагаемая диафрагма выполнена с отверстиями н виде усеченного конуса, при этом на одной из сторон диафрагмы диаметр и шаг сохраняется таким же, как и для известной диафрагмы, но н
602610
3 снижении диафрагмы сквозными отверстиями в форме усеченного конуса иллюстРирует приведенная ниже таблица.
Из таблицы видно, что если попы:аться увеличить злектропрс:.одность путем увеличения диаметра цилиндричес кого отверстия до объема, равного коническому, зто приведет к резкому снижению прочности на разрыв до пределов, не допустимых для диафрагмы.
Падение напряжения в диафрагме, В рочность а разрыв, кг/см
Объем отверстия, мм
Форма и размер отверсти ди афрагмы, мкм
Цилиндр
% = 100
И 200
110
0,3
0,006
Усеченный конус Я = 150
100
К= 200
100
0,18
0,01
Цилиндр
% = 125
К= 200
0,01
0,13
П р и м е ч а н и я: % — радиус; — ма, .ый радиус;
Н вЂ” высота, Формула изобретения
Ист очки ки информации, прин ятые во внимание при экспертизе:
2. Заявка ФРГ М 2037904, кл. 12 и 3, 1972.
Составитель Н.Грехнева
Техред Н.Андрейчук Корректор@.Гоксич
Редактор Л.Новожилова
Заказ 1798/26 Тираж 738 Подписное
ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП Патент, r. Ужгород, ул. Проектная, 4 отличие от нее отверстия расширяются направлении противоположной сторонь на конус, наибольший диаметр усеченно .го конуса составляет 300 мкм.
При указанных условиях электролиза напряжение на злектролизере с предложенной диафрагмой-3,3 В, с известной—
3,5 В, при сохранении прочности на .разрыв.
Уменьшение элекропроводности (падение напряжения в диафрагме) при iO,Циафрагма для электролитических процессов со сквозными отверстиями, о т.л и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью уменьшения ее омического сопротивления с сохранением прочности на разрыв, сквозные отверстия выполнены в форме усеченных конусов.
1. Якименко Л.И. Производство хлора каустической соды и неорганических хлорпродуктов, 1974, с. 41-43.