Интерференционный длинноволновый отрезающий фильтр
Иллюстрации
Показать всеРеферат
О П И С Х "и "ИМ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
Союз Советскни
Соцналнстнчеснн к
Рес убпнн (foal 606 l 52
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (6т) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 09л176 (21) 24) 7993/18-10 с присоединением заявки М (Я) М. К .
G 02 В 5/28 (23) 11риоритет (43) Опубликовано0505.78, Бюллетень Рй
Т»6}ЩЬТЬ»»»Ъ6%»»ТЬ»ТЬТ
Вьььть »т»ь»»тр»» И»р
»» РЬ»ЬВ »ЬЬРРЬТЬПР
» »т»рыт»)Т (53) УДК 535.345.8 (088.8) (45) Дата опубликования описания17, оЬ.7 8 (72) Двторьт изобретения
H.Ô.Ìàêàðoâ и Е.Г.Столов
Pl) Заявитель (54) ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ ДЛИННОВОЛНОВЫЙ
ОТРЕЗАЮЩИЙ ФИЛЬТР
Изобретение относится к оптическому приборостроению и может найти применение в спектральных приборах.
В настоящее время испытывается острая потребность в длинноволновых от резающих фильтрах. Такие фильтры должны обладать ступенеобразной спектральной характеристикой с высоким пропусканием в длинноволновой рабочей области спектра и низким пропусканием в приле- 10 гающей к ней широкой коротковолновой зоне (зоне подавления) .
i,çâåñòíû конструкции отрезающих фильтров на основе тонкослойных оптических покрытий (1),(2). )б
Недостатком известных конструкций является наличие большого количества неравнотолщинных слоев. Небольшие ошибки в оптических толщинах слоев, неизбежные в процессе изготовления покры- 3) тия, приводят к резкому снижению пропускания фильтров в рабочей области спектра. Указанное обстоятельство делает промышленное изготовление фильтров черезвычайно затруднительным. 25
Ближайшим прототипом является система, образованная несколькими элементарными фильтрами, каждый из которых состоит иэ чередующихся равнотолщинных слоев с низким(п „) и высоким (п 1 показателями преломления, отличающимисяя оптическими толщи н ами слоев. Зоны подавления элементарных фильтров смещены и перекрываются (Зj.
Недостаток такой системы заключается в том, что на спектральной характеристике имеются глубЬкие провалы коэффициента пропускания Т в рабочей области спектра.
Целью изобретения является создание простого в изготовлении оптического интерференционного длинноволнового отрезающего фильтра с высоким пропусканием в рабочей области спектра, центр которой расположен на длине волны 5. .
Сущность изобретения заключается в том, что .в интерференционную систему, состоящую иэ Р элементарных равнотолщинных фильтров из нечетного числа чередующихся слоев из веществ с низким (т„ ) и высоким (6, ) показателями преломления, оптические толщины которых возрастают по мере удаления от подложки с показателем преломления т н < "я » и отношение оптических толщин любых соседних элементарных фильтров равно 1,0 : (1,4:l,á), введены слои: между системой и подложкой с показателем преломления Ь я оптичес.кой толщиной (0,4+0,5)1, где 1 - опти606152
Формула изобретения
Составитель В.Ванторин
Редантор Н.АХмедова Техред А.Алатырев Корректор С.Гарасинян
Заказ 2467/43 Тираж 621 Подписное
ЦИНИПИ Государственного номигета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, %-35, Раушсная наб., л, 4/5
Филиал ППП Патент, r. Ужгород, ул. Проектная, 4 ческая толщина слоя первого, считая оТ подложки, элементарного фильтра систе-, ьы; между 1 и (i,+ 1) элементарными фильтрамн(слой с оптической толщинОй (1,4 1,6) 1,251о ((, е2,3. ° .р-1), и 5 между системой и воздухом введены слои р-1 с оптичесними толщинами (1,4о1,6) 0 5ф( и (0,2-:0,3)Лр и показателями преломления п и а„ соответственно.
На чертеже схематически изображена 10 конструкция фильтра. Она состоит иэ подложки 1, элементарных фильтров
2,3...Р+1 и введенных слоев, обозначенных заштрихованными прямоугольниками Р+2, Р+3...2р+3. 15
Такая система обладает высоким коэффициентом пропускания в рабочей облас". ти спектра и несложна в изготовлении.
Высокий коэффициент пропускания достигается эа счет введения вьаыеуказанных слоев.
При выборе (о (оптической толщины слоя первого, считая от подложки, элементарного фильтра) следует исходить иэ соотношения (î (0,3-;0,35)3ь,1 гдеЛ1коротноволновая граница зоны подавления, Интерференционный длинноволновый отрезающий фильтр, содержащий интерференционную систему, состоящую иэ P элементарных равнотолщинных фильтров,каждый из которых содержит нечетное число чередующихся равнотолщинных слоев иэ веществ с меньшим (я„) и большим (ъ ) показателями преломления, расположенную на подложке с показателем преломления „: п„с и„< 6, причем оптические толщйны слоев фильтров системы возрастают по мере удаления от подложки,и отнсхвенке оптических толщин любых соседних элементарных фильтров равно 1,0:(1,4-:1,6),о т л и ч а юшийся тем,что,с целью увеличения пропускания фильтра в рабочей области спектра, центр которой расположен на длине волны Лр,введены слои:между сис" темой и подложкой слой с показателем преломления я4 и с оптической толщино(й (0,4:0,5)1о,гдe(о-оптическая толщина слоя первого, считая от подложки,элементарного фильтра; между 1 и ((+1) элементарными фильтрами слой с оптической толщиной (1, 4 41, 6) 1, 25 ( и между системой и воздухом введенй слои с оптическими толщинами (1,44
1,6)р 0,5(о и (0,2:0,3)Лр и показателями преломления lip ив„соответственно.
Источники. информаций, принятые во внимание:при экспертизе:
1. Авторское свидетельство СССР
)О 367401,кл. О 02 В 5/28, 1970.
2. Крылова Т.Н. Интерференционные покрытия, Л., 1973, с. 144.
3. Хасс Г. и др. Физика тонких пленок, т. 5, М., 1972„ с. 72.