Система управления корректировкой растворов ванн химического фосфатирования

Система управления корректировкой растворов ванн химического фосфатирования

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О В.И С А Н И Е

ИЗЬБРЕТЕ Н ИЯ

Союз Советских

Соцналнстнческнх

Рес убпнк (» 628184

И АВТОРСКОМУ СВИДВТВЛЬСТВУ (61)Лополннтельное к авт. свнд-ву(И) Заявлено 01,0g 77 (21) 2456732/22-02

Я (51) М. Кл.

С 25Ф21/12 с присоединением заявки М (23) Приоритет (43) Опублнковано18.10.78.бюллетень .¹38 (45) Дата опубликования описания И.О9.78 вфудерстэевьй аФмвтО

Сеевта Мвв1раа СССР

66 диан иэ06Р8тйнмх н етхрыткй (53) ÓÄÊ621.7Е4, 62 (088.8) /

Н. Н. Попов, А. В. Моыбеали и О. А. Чфткии (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ КОРРЕКТИРСВКОЙ

РАСТВОРОВ ВАНИ ХИМИЧЕСКОГО ФОСФАТИРСИАНИЯ

1.

Изобретение относится к области гальванотехннки, s частцости к устройствам автоматического управления концентрацией компонентов технологических растворов ванн химического фосфатирования.

Известна система управления корректировкой растворов ванн химического фосфатировання, содержащая устройства измерения определяющих физико-химических параметров, рН растворов, концентрации компонентов, дознрующне устройства и управляю1цее вычислительное устройство, состоящее нэ устройства ввода, процессора и устройства вывода, подключенное своими входами к выходам датчиков, а выходами к дозирующнм устройствам 111.

Недостатком известного устройства является низкая точность регулирования состава растворов и качество покрытий.

Цель изобретения — повышение точности регулирования состава раствора н качества покрытий.

Поставленная цель достигается тем, что система дополнительно снабжена датчиком счета покрываемых деталей, контурами регулирования температуры н уровня, устройством регулирования длительности нане2 сепия покрытий, причем выходы датчика счета, датчиков температуры и уровня и устройство регулирования длительности нанесения покрытий соединены со входами управляющего вычислительного устройства.

На чертеже приведена функциональная схема системы управления.

Система управления корректировкой ванн фосфатирования состоит иэ участка 1 фосфатнрования изделий, рабочих ванн 2 с одинаковым составом раствора, входящих в состав автоматических линий фосфатирования (не показаны), измерительного уст-. ройства 3 контура управления температурой, устройства 4 регулирования длительностью нанесения покрытий, датчика счета деталей 5 узла 6 централизованной корректировки раст15 воров, включающего циркуляцнонный бак 7, фильтр 8, насос 9, измерительное устройство 10 контура управления уровнем, дозирующне устройства 11 вводимых компонентов, емкости 12 с вводимыми компонентами, клапан 13, насос 14, отстойник 15, клапан 16 для сброса осадка в канализацию; управляющего устройства 17, реализованного на базе мини- илн микро-УВМ, включающего устройство 18 ввода аналоговой и дискрет628184 ного значения, открывается клапан 13 н насосом 14 раствор из циркуляционного бака перекачивается в отстойник 15, где раствор отстаивается в течение определенного времени (прнблизительно 1 сут,), шлам вы» падает в осадок, а раствор перекачивается обратно в циркуляцнонный бак 7.

Формула изобретения

3 ной информации, процессора 19 и устройства вывода 20 управляющих сигналов как аналоговых, так и дискретных.

Работает система управления корректировкой растворов ванн фосфатирования следующим образом.

После приготовления фосфатного раствора последним заполняется циркуляционный бак до заданного уровня, включается насос 9 и раствор через фильтр 8 для удаления твердых примесей подается в рабо- О

:чне ванны с одинаковым составом раствора и индивидуальным нагревом автоматических линий (не показаны) фосфатирования ротор. ного или, операторного типа. . Рабочие ванны соединены каскадно между собой. Избыток раствора из-.последней 1s ванны сливается в трубопровод 21 и самотеком поступает в циркуляционный бак 7..

Циркуляция раствора в рабочих ваннах осуществляется, как правило, со скоростью

0,5 — 3;0 объема в час. Клапаны 22 предназначены для аварийного сброса фосфатного раствора в циркуляционный бак.

При поступлении деталей в загрузочные устройства (не показаны) автоматических линий с выхода, установленных там датчиков 5 счета деталей илн группы деталей появляется сигнал, по которому происходит запись. «!» в содержимое. счетчиков соответствующих модулей ввода число-импульсных сигналов устройства: 18 УВМ нли в ячейки памяти ОЗУ УВМ. С устройств 3 и 4 вводится в УВМ информация о текущих зна-. ЗО чениях температуры н длительности нанесения покрытий.

На основании поступающей в нее инфор- мации УЙМ, согласно заложенного в нее алгоритма, рассчитывает объемное истощение раствора, которое пропорционально произведению площади покрытых деталей на осредненный во времени удельный объемный расход соответствующих компонентов раствора с учетом текущих значений температуры и длительности нанесения покрытий, 4о

При достижении физического объемного истощения раствора заданного значения, фиксированного ранее, сигналы с устройства 20 вывода управляющих сигналов УВМ.:

-поступают на вход дозирующих устройств и происходит корректировка раствора com45 ветствующими компонентами.

При дальнейших расчетах раствор считается восстановленным по данному компо.ненту.

При достижении в растворе содержания двухвалентного железа (шлама) определенВ осадок в отстойнике заливается вода.

С помощью сжатого воздуха производится вспучивание осадка и во взвешенном состоянии через открытый клапан !6 он сливается в канализацию.

Так как фосфатирование деталей производится, как правило, в горячих растворах, то,зная суммарный объем, заданный уровень расхода раствора в циркуляционном баке, поверхность испарения, скорость испарения, компонентов раствора, время испарения, текущий объем (уровень), можно определить объем свежего раствора, который надо добавить, чтобы .скомпенсировать неизбежные потери раствора от утечки и уноса деталями при фосфатировании нли эквивалентное количество компонентов.

Система управления корректировкой растворов ванн химического фосфатирования, содержащая устройства измерения определяющих физико-химических параметров, например, рН растворов, концентрации компонентов, дозирующие устройства н управляющее вычислительное устройство, состоящее.из устройства ввода, процессора и устройства вывода, подключенного своими входами к выходам датчиков, а выходами к дозирующнм устройствам, огличамнцееся тем, что, с целью повышения точности регулирования состава раствора и качества покрытий, она дополнительно снабжена датчиками счета покрываемых деталей, контурами регулирования температуры и уровня, устройством регулирования длительностью нанесения покрытий, причем выходы датчика счета, датчиков температуры и уровня и устройство регулирования длительности нанесения покрытий соединены со входами управляющего вычислительного устройства, Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:

l. Авторское свидетельство СССР № 514276, кл. б 05 D 11/00, 1974.

62В184

Составитель.А. Абросимов

Редактор H. Батанова Техред О. Луговая Корректор Л. Веселовская

Заказ 5744/23 Тираж 738 Подписное

ИНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

I 1 3035, Москва, )К-35, Раушская наб. д, 4/5

Филиал ППП «Патент>, г. Ужгород, ул. Проектная, 4