Устройство для литья пленки
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Сотоэ Советских
Социалистииеских
Республик
ОП ИКАНИЕ
ИЗОБРЕТЕН ИЯ
К ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
<
В 05 С 5/00
С ПРИСОЕДИНЕИИЕМ ЗаЯВКИ №Гоаударстееийый еамптет
СССР ае делам нзеаретеней и юткритей (23) Приоритет -
Опубликоваио25 01.795юллетеиь № 3 (53) УДК 66.012-52(088,8) Дата опубликования. описания 29.01.79 (?2) Авторы изобретения с
1
Я ., „
Ю. В. Кодра и Б. А. Пальчевский
Львовский ордена Ленина политехнический инс (?1) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛИТЬЯ ПЛЕНКИ
Изобретение относится к устройствам для изготовления пленочных покрытий и может быть использовано в радиоэлект-. ронной промышленности, Известно устройство, содержащее датчик толщины пленки, датчик толщины подложки, соединенный со станиной и с первым торцом первого сильфана, второй то рец первого сильфона соединен с первым торцом второго сильфона )3) .
При использовании известного устрой ; ства для литья пленки не обеспечивается постоянство величины зазора между датчиком толщины пленки и отливаемой
1 пленкой, что приводит к понижению стабильности толщины отливаемой пленки из-за смещения рабочей точки датчика толщины пленки.
Целью изобретения является повьчпь иие стабильности толщины отливаемой пленки.
Это достигается тем, что в известном устройстве для литья пленки, содержащем датчик толщины пленки, датчик толщины
2 подложки, соединенный со станиной и с первым торцом первого сильфона, второй торец первого сильфона соединен с первым торцом второго сильфона, литейная головка соединена с вторым торцом. второго сильфона, а датчик толщины пленки соединен с вторым торцом первого сильфона и первым торцом второго сильфона.
В предложенном устройстве датчики толщины пленки и подложки предпочтительно выполнены в виде пар дроссель-сопло, нри этом входы дросселей соединены с источником питания, выход дросселя датчика толщины подложки соединен с входом первого сильфона, а выход дросселя датчика толщины пленки соединен с входом второго сильфона.
На чертеже приведена функциональная схема устроиства.
Устройство для литья пленки содержит станину 1 для подложки 2, литейную го ловку 3;второй сильфон 4, первый торец
Л которого соединен с вторым торцом пер aoro сильфона 5, датчик 6 толщины под6432 10 ложки 2, датчик 7 толщины пленки. Датчик 6 толшины подложки 2 соединен механически со станиной 1 и с первым тор- цом первого сильфона 5, литейная голов ка 3 соединена с вторым торцом второго сильфона 4, а цатчик 7 толщины пленки соединен с первым торцом второго сильфона 4 и с вторым торцом первого си .ь фона 5. Датчик 6 толщины подложки 2 соцержит первый цроссель 8„а датчик 1о
7 толщины пленки содержит второй цроо сель 9»
Межцроссельиая камера 1О датчика 6 толщины подложки соецинена с первым снльфоном 5, а междроссельная камера З
11 цатчика 7 толщины пленки соединена с вторым сильфоном 4, Сопло 12 цмчи ка 6 толщины подложки расположено пад подложкой 2, а сопло 13 цатчика 7 толщины пленки расположено над отливаемой 20 пленкой. Питание на первый 8 и второй
9 цроссели поступает от источника питания 14.
Устройство для литЬя пленки работает слецующнм образом» $
Прн изменении Величины зазора между соплом 12 н поверхностью движущейся подложки 2, вызванном изменением толщины подложки, изменяется -gaatreme в межцроссельной камере 10 и соответсч 36 венно в первом сильфоне 5., Иа-за изме.нения давления первый сильфон 5 либо сжимается, либо растягивается, поднимает прн уменьшении зазора или опускает при увеличении зазора второй сильфон 4 35 вместе с подвешенной к нему литейной головкой 3 на величину изменения зазора. Одновременно на ту же величину смещается датчик 7 толщины пленки, Таким образом, зазор между подложкой 2 и ли 40 тейной головкой 3 остается постоянным.
При изменении величины зазора между соплом 13 датчика 7 толщины пленки, вызванном изменением толщины пленки, причиной которого может быть, например, изменение текучести литейной жнцкости, изменяется давление в междроссельной камере 11 и соответственно во втором сильфоне 4. Второй сильфон 4 срабатьвает и перемешает литейную головку 3 до тех пор, пока зазор между соплом 13 и поверхностью пленки не достигнет заданной величины.
Формула изобретения
\ ,1 Устройство цля литья пленки, содержащее дагчик толщины пленки, атчик толщины подложки, соединенный со с. аниной и с первым торцом первого сильфона, второй торец перви о сильфона соединен с первым торцом второго силь фона, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что с целью повьппения стабилькости толщигы отливаемой пленки, литейная головка соединена с вторым торцом второго счльфона, а датчик толщины пленки соединен ,с вторым торцом первого сильфона и первым торцом второго сильфона, 2. Устройство по п, 1, о т л и ч аю щ е е с я тем, что цатчики толщины пленки н подложки выполнены в виде пар дроссель сопло, при етом входы цросселей соединены с источником питании, выход дросселя датчика толщины подложки соединен с входом первого сильфона, а выход дросселя датчика толщины пленки соецинен с входом второго сильфона.
Источники информации, принятые во вникание при экспертизе;
L, Воло .ов C. С..Основы автоматизации измерений, М., Стандарты, 1974, . 99-аО2.
64321О
Заказ 7894/8
Тираж 821 Подписное
ЫНИИПИ Госуцарственного комитет СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская иаб., д, 4/5 филиал ППП «Патемт", r, Ужгород, ул, Проектная, 4
Составитель Л. Александров
Редактор. Е, Полионова Техреду Ц. Яабурка Корректор Е. Пади