Оптическое устройство позиционирования

Оптическое устройство позиционирования

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

K АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ он652436 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено05.04.74 (21) 2018226/25-28 с присоединением заявки № (23} Приоритет (51) М. Кл.

q 01 В 11/00

Государственный комитет

ССС Р по делам изобретений и открытий (53) УДК 531.715. 27 (088. 8) Опубликовано 150379. Бюллетень № 10

Дата опубликования описания 150379.

A.Ñ. Егудкин, М.М. Фойгель и В.T. Сино енко ." .-;. ». ф.у., »„ " =.

Особое конструкторское бюро станкостроения

P1) Заявитель (54) ОПТИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО ПОЗИЦИОНИРОВАНИЯ

Изобретение относится к области контрольно-измерительной техники.

Устройство может быть использовано, в частности, при автоматизации высокоточного углового или линейного позиционирования подвижных узлов.

Известны оптические устройства позиционирования подвижных узлов станков, содержащие проекционную систему, марку в виде штриха и экран ® с индексом, который совместно с гла-. зом наблюдателя образует анализирующую систему (1).

Точность и стабильность позиционирования с помощью укаэанных устройств 15 ограничены 5-ю угловыми секундами при угловом позиционировании и

0,005 мм при линейном позиционировании, что не удовлетворяет требованиям современной прецизионной техники. 20

Наиболее близким по технической сущности к изобретению является опти.ческое устройство ИЗП-ЗбБМ, содержащее марку в виде штриха, нанесенного на стЕклянной пластинке, закрепленной на поворотном столе станка, и установленные на неподвижной части станка осветитель марки, проекционную систему и экран с индексом в виде биштриха, образующего визуальный ЗО анализирующий элемент (21. Недостатками этого устройства являются невысокие точность и стабильность позиционирования вследствие наличия осветителя с лампой накаливания, а так>ке большого числа оптических элементов в проекционной системе.

Целью изобретения является повышение точности и стабильности позиционирования.

Указанная цель достигается тем, что марка выпблнена в виде полупроводникового светоизлучающего слоя, а анализирующий элемент расположен в плоскости этого слоя.

На фиг. 1 изображена принципиальная схема устройства; на фиг. 2 показан вид А на фиг, 1.

Оптическое устройство позиционирования содержит проекционную систему, в частности автоколлимационную в виде вогнутого сферического зеркала 1, закрепляемого на подвижном узле (на фигурах не показан),установленный на неподвижном узле (на фигурах не показан) блок 2, в котором в одной и той же плоскости расположены марка 3 в виде полупроводникового светоизлучающего слоя и анализирующий элемент 4 — фотоприемник в виде полу652436

Формула изобретения

ФЬг. z

Составитель Л. Лобзова

Техред 0.Андрейко Корректор И. Ковальчук

Редактор Т. Юрчикова

Заказ 1038 39 Тираж 865 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035 Москва Ж-35 Рараская наб ° д. 4 5

Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 проводниковых светочувствительных слоев. Последние соединены дифференциально и включены в мостовую схему индикации. Марка и анализирующий элемент с помощью зеркала 1 оптически сопряжены в автоколлимационном ходе лучей. 5

Устройство работает следующим образом.

В процессе позиционирования подвижного узла при входе зеркала 1 в зону действия блока 2 изображение марки 3 ц> в автоколлимационном ходе лучей попадает на один из светочувствительных слоев анализирующего элемента 4. Происходит разбаланс мостовой схемы и появляется сигнал рассогласования, используемый для позиционирования подвижного узла. Когда изображение марки придет в положение, симметричное относительно светочувствительных слоев, сигнал рассогласования становится равным нулю. Этим обеспечивается угловое или линейное позиционирование подвижного узла в местах установки зеркала.

Оптическое устройство позиционирования, содержащее проекционную систему, марку и анализирующий элемент, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения точности и стабильности позиционирования, марка выполнена в виде полупроводникового светоизлучающего слоя, а анализирующий элемент расположен в плоскости этого слоя.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Варявичус А.П. и др. Оптические устройства металлорежущих станков, ЭНИМС, Вильнюсский филиал, М., 1969, с. 8-12, 24-30, 40-46, 49-53 °

2. Там же, с. 99-103.