Устройство для нанесения фоторезиста на пластины

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

(72) Автор изобретения

Н. И. Никулин (7l ) Заявитель

C (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСГА

HA ПЛАСТИНЫ

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий посредством центробежной силы и может быть, в.частности, использовано для нанесения светочувствительного слоя (фотореэиста) на

5 пластины и фотошаблоны при химической фотогравировке.

Известно устройство для нанесения . светочувствительного слоя на пластины при химической фотогравировке, содержащее сборник фоторезиста, установленную внутри него вращающуюся оправку с вакуумной полостью и каналом для подвода вакуума, вакуумное уплотнение и электродвигатель flj.

Недостатком его является большая сложность конструкции и изготовления, а также низкая эксплуатационная надежность.

Известно также устройство для нанесения фоторезиста на пластины, содержа- .

mee вертикально установленный барабан со столиком и расположенные по перифе2 рии барабана держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости 2), Данное устройство является наиболее близким к изобретению по технической сущности и достигаемому результату.

Недостатком его является т©, что оно не обеспечивает надежной фиксации обрабатываемых пластин, вследствие чего при раскрутке барабана пластина ударяется о держатели, При нанесении фотореэиста на пластины из хрупких материалов, например германия или кремния, ато ведет к образованию сколов по краям пластин и микротрещин в теле пластины, и существенно снижает процент выхода годных на после дующих операциях изготовления микросхем, Целью изобретения является исключение повреждения пластин.

Указанная цель достигается тем, что держатели установлены с воэможностью поворота на закрепленных в барабане осях и снабжены грузами, расположенными на их нерабочих концах.

595 1

66 ч

Кроме того, с целью регулирования эажимного усилия, грузы установлены с воэможностью перемещения вдоль нерабочих концов держателей.

Устройство для нанесения фотореэиста на пластины изображено па чертеже.

Устройство содержит вертикально установленный барабан 1 со столиком 2 и расположенные по периферии барабана 1 держатели 3 для закрепления пластин 4

s горизонтальной плоскости.

Держатели 3. установлены с возможностью йоварота на закрепленных в барабане 1 ооях 5 и снабжены грузами 6, расположенными на их нерабочих концах.

Грузы 6 ус гановлены-с возможностЬю йеремещения вдоль нерабочих концов держателей 3 и фиксируются на них при помощи гаек 7.

Устройство для нанесения фоторезиста на пластины .работает следующим образом.

Пластину 4 укладывают на поднятый в крайнее верхнее положение столик 2, после чего столик 2 под действием привода возвратно-поступательного перемещения (на чертеже не показан) опускается в крайнее нижнее положение и пластина

4 ложится на барабан 1. При этом между пластиной 4 и.столиком 2 образуется зазор. После этого на центр пластины 4 наносят дозу фотореэиста и сообщают барабану 1 вращательное движение с большой скоростью. Под действием центробежйых сил грузы 6 -отходят от оси вращения барабана 1. При этом держате-ли 3 поворачиваются вокруг осей 5 и своими рабочими концами надежно зажи мают пластину 4. После того как под действием центробежных сил фотореэист растечется по пластине 4, барабан 1 останавливают. При этом держатели 3 под действием грузов 6 принимают пер воначальное вертикальное положение и освобождают пластину 4.

Под действием привода столик 2 поднимается, и пластина 4 с нанесенным слоем фоторезиста выгружается. Цикл повторяется. Зажимное усилие держателей 3 регулируется путем перемещения

4 грузов 6 вдоль нерабочих концов держателей 3. Фиксация грузов в требуемом положении -осуществляется гайками 7.

Данная конструкция устройства для

-нанесения фотореэиста на пластины исключает повреждение краев пластины и образование микротрещин в теле пластины эа счет обеспечения надежной фиксации пластин. Это способствует увеличе10 нию процента выхода годных на последующих операциях изготовления микросхем.

Кроме того, конструкция устройства позволяет осуществлять фиксацию пластин, а также снятие фиксирующих усилий

1 при остановке барабана автоматически эа счет использования центробежных сил. Испытания макета предлагаемого устройства для нанесения фотореэиста на пластины показали, что оно полностью исключает повреждение обрабатйваемых пластин, в то время как при нанесении фоторезиста на известных устройствах до 3% пластин повреждаются.

Формула изобретения

1. Устройство для нанесения фоторээиста на пластины, содержащее вертикально установленный барабан со столиком и расположенные по периферии барабана держатели для закрепления пластин в горизонтальной плоскости, о т л и ч аю щ е е с я тем, что, с целью исключеикя повреждения пластин, держатели установлены с возможностью поворота на закрепленных в барабане осях и снабжены грузами, расположенными на их нерабочих концах.

2, Устройство по и. 1, о т л и ч а-ю щ е е с я тем, что, с целью регулирования эажимного усилия, грузы установлены с воэможностью перемещения вдоль нерабочих концов держателей.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР

NII 358019, кл. В 04 В 5/OU, 1970.

2. Авторское свидетельство СССР

Ии 360110, кл. В 04 В 5/00, 1970.

66595 1

Составитель А. Чал-Борю

Редактор В. Смиригина ТехредМ. Келемеш Корректор М. Вигула

Заказ 3032/7 " — Тираж 821 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета СССР цо делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-Ç5, Раушскаи наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, r. Ужгород, ул. Проектная, 4