Фокусирующий монохроматор рентгеновского излучения

Фокусирующий монохроматор рентгеновского излучения

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

: л::.

681358

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

Союз Советских

Социалистииеских

Республик

К АВТОРСХОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свил-ву (22) Заявлено 27.09.74 (21) 2067230(25 с присоединением заявки № (23) Приоритет г (51) М. Кл.

6 О! N 23(22

Гасударственный камнтет ссср

Il0 делам изобретений и еткрытнй

Опубликовано 25.08.79. Бюллетень № 31 (53) УДК 62138б:

: 543.5 (088.8) Дата опубликования описания 29.08.79 (72) Авторы изобретения

Г. К. Андрижиевский, А. Е. Глауберман, В. Ф. Катриди, А. Н. Межевич, А. А. Ханонкин, В. И. Столин и В. И. й!аензон

Одесский ордена Трудового Красного Знамени государственный университет им. И. И. Мечникова и Специальное конструкторское бюро рентгеновской аппаратуры (71) Заявители (54) ФОКУСИРУЮКИЙ МОНОХРОМАТОР

РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ

Изобретение относится к рентгеновской аппаратуре и может быть использовано в дисперсион ном рентгеноспектральном анализе.

Известен фокусирующий монохроматор, в которых кристаллическая пластина соединена с пластиной-держателем из более упругого материала, обе пластины установлены в поворотные стойки, установленные на находящихся в зацеплении зубчатых колесах (1).

Также известен фокусирующий кристалл-монохроматор, в котором изгиб осуществляется на трех опорах, две из которых расположены по краям пластины-держателя с кристаллом, а третья подвижная воздействует на центральную часть пластины держателя с противоположной по отношению к первым двум опорам стороны (21.

В этих монохроматорах крепление кристалла не препятствует выходу дислокаций на его поверхность, а следовательно и растрескиванию кристалла при изгибе. Схема изгиба также не позволяет реализовать оптимальное распределение напряжений при изгибе.

Известен фокусирующий монохроматор рент- геновского излучения, содержащий кристаллическую пластину, обжимаюшие пластины из материала, упругие свойства которого выше, чем у кристаллической пластины, средства для совместного изгиба кристаллической и обжимаюших ее пластин, включающие две подвижные внешние и две неподвижные внутренние опоры (3).

Недостатком этого устройства является недостаточная предельная кривизна изгиба, при которой не наблюдается растрескивание кристалла.

Цель изобретения заключается в том, чтобы увеличить предельную кривизну изгиба кристалла без растрескивания.

Это достигается тем, что внешние опоры выполнены в виде поворотных призм, каждая из которых содержит две опорные грани, а внутренние опоры выполнены в виде поворотных сегментов с цилиндрической опорной поверхностью.

На чертеже изображена принципиальная схема монохроматора.

681358

Формула изобретения

Я Составитель К. Кононов

Редактор Н. Хлудова Техред Л.Алферова Корректор А.Гриценко

Тираж 1090 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 5078/40

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул, Проектная, 4

Фокусируюший монохроматор содержит кристаллическую пластину 1, обжимающие кристалл пластины 2 из материала, упругие свойства которого выше,чем у кристалла, причем в одной пластине по крайней мере выполнено окно для прохождения рентгеновских лучей, две внутренние опоры в виде поворотных сегментов 3 с осями поворота 4, подвижные внешние опоры в виде поворотных призм 5 с двумя опорными гранями на каждой, поворачивающиеся вокрут осей 6, Внешние опоры 5 установлены на поворотных держателях внешних опор 7 с общей осью поворота 8, Направления действующих усилий, которые передаются на внешние опоры

5, показаны стрелкой 9.

При приложении усилий 9 внешние опоры 5 поворачиваются на осях 6 в соответствии с изгибом кристалла. Возможность поворота внешних опор уменьшает напряжения, возникающие на опорах. Конструкция внутренних опор 3 также предусматривает распределение напряжений, возникающих на опорах при изгибе пластин. По мере изгибания кристалла 1 в соприкосновение с пластинами 2 приходит все возрастающая площадь внутренних опор 3. Радиус опор 3 может быть выбран равным минимальному требуемому радиусу изгиба кристалла в области упругости последнего.

При изгибе искривление. крайней части пластины, в силу выбора схемы нагружения, идет интенсивнее, чем.средней ее части, по позволяет получить равномерную кривизну на большой рабочей поверхности кристалла, А равномерная кривизна, в свою очередь, обусловливает равномерное распределение напряжений в кристаллической пластине.

Предлагаемое устройство позволяет изогнуть монокристаллы фтористого лития до цилиндрической поверхности с радиусом до 60 мм без образования трещин.

Фокусирующий монохроматор рентгеновского излучения, содержащий кристаллическую пластину, обжимающие пластины из материала, упругие свойства которого выше, чем у кристаллической пластины, средства для совместного изгиба кристаллической и обжимающих ее пластин, включающие две подвижные внешние и две неподвижные внутренние опоры, отличающийся тем, что, с целью увеличения предельной кривизны изгиба кристалла без растрескивания, внешние опоры выполнены в виде поворотных призм, каждая из которых содержит две опорные грани, а внутренние опоры выполнены в виде поворотных сегментов с цилиндрической опорной поверхностью.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Патент США Р 2543630, кл. 250-77, 1951.

2. Патент США И 3200246, кл. 250-51.5, 1965.

3. Авторское свидетельство СССР N 88047, кл, G 01 N 2233//2222, 1949.