Фототермопластический материал

Фототермопластический материал

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ тн1689586

Союз Советских

Социалистических

Реслублик (61) Дополнительное к авт. свид-ву

{22) Заявлено 03.04.78 (21) 2602266/28-12 с присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликовано 07.08.81. Бюллетень ¹ 29 (45) Дата опубликования описания 07.08.81 (51) М. Кл.з

6 03Ст 5/08

Государственный комитет (53) УДК 772.93 (088.8) ло делам изобретений и открытий (72) Авторы изобретения Л. И. Зеленина, А. А. Постников, Д. Г, Табатадзе и А. В. Павлов (71) Заявитель Всесотозный государственный научно-исследовательский и проектный институт химико-фотографической промышленности (54) ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ

Изобретение касается фототермопластического материала, который может быть использован для оперативной регистрации, представления и хранения информации в обычной и голографической форме. 5

Известен фототермопластический материал, содержащий подложку, инжекционный слой неорганического фотопроводника — аморфного селена, и органический фототермопластический слой из поли-N-ви- 10 нилкарбазола и связующего — теломера стирола с дивипилом (11.

Данный фото-.;рмопластический материал является однородным, прозрачным и обладает достаточно высокой интегральной элек- 15 трофотографической чувствительностью.

Недостатком этого материала является низкая электрофотографическая чувствительность в длинноволновой области спектра и его недостаточная термостабильность. 20

Целью изобретения является расширение электрофотографической чувствительности в длинноволновую область спектра без снижения интегральной электрофотографической чувствительности и повышение тер- 2G мостабильности фототермопластического материала.

Создание такого материала необходимо в связи с тем, что в голографических устройствах требуется возможность осуществления 3р записи и восстановления изображения с помощью лазера с длиной волны 633 нм. Кроме того, такой фототермопластический материал предназначен для многократной записи информации. Проявление и стирание осуществляется с помощью нагрева материала до температуры 90 †1 С. B связи с этим требуется достаточно высокая термостабильность всех составляющих фототермопластического материала, в том числе и инжекционного слоя.

Поставленная цель достигается тем, что инжекционный слой выполнен из двух слоев фотопроводников сульфида кадмия и трехсернистой сурьмы, при этом толщина каждого слоя составляет 0,05 — 0,1 мкм.

Установлено, что такое сочетание тонких слоев сульфида кадмия и трехсернистой сурьмы приводит к существенному повышению электрофотографической чувствительности в длинноволновой области без снижения интегральной электрофотографической чувствительности. Кроме того, указанная система неорганических фотопроводников обладает высокой термостабпльностью.

Следует отметить, что при раздельном использовании сульфида кад, ня или трехсернистой сурьмы в качестве инжекционных слоев в фототермопластическом материале не достигается электрофотографическая чув689586

Формула изобретения

Составитель А. Алексеев

Корректор Е. Хмелева

Рсдактор Л. Утехина

Заказ 2345 20 Изд. М 411 Тира>к 581 Подписное

НПО «Поиск» Государственного комитета СССР по делам изобретений открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская иаб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 ствительность, сравниваемая с чувствительностью фототермопластпческого материала с инжекционным слоем из аморфного селена. Это объясняется тем, что сульфид кадмия без термической обработки при

400 — 600 С не обладает существенной фоточувствительностью, а фоточувствительность трехсернистой сурьмы значительно уступает фоточувствительности аморфного селена.

Материал работает при заряжении в от- 10 рицательном коронном разряде.

П р и мер 1. На металлизированную никелем полиэтилентерефталатную основу последовательно напыляют слои фотопроводников сульфида кадмия и трехсернистой 15 сурьмы толщиной по 0,1 мкм каждый. Затем методом купающего ролика из толуольного раствора наносят фототермопластическую композицию состава поли-N-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом 20 в соотношении 1: 1. Толщина полимерного покрытия составляет 1 — 4 мкм. Приготовленный материал высушивают в вакуумном сушильном шкафу при комнатной температуре в течение 2 ч. 25

Пример 2. Аналогично получают фототермопластический материал при использовании в качестве слоев фотопроводников сульфида кадмия и трехсернистой сурьмы толщиной по 0,05 мкм каждый.

Фототермопластический материал, содержащий последовательно расположенные подложку, инжекционный слой неорганического фотопроводника и органический фототермопластический слой, включающий поли-N-винилкарбазол и связующее — теломер стирола с дивинилом, о т л и ч а юшийся тем, что, с целью расширения электрофотографической чувствительности в длинноволновой области спектра без сии>кения интегральной электрофотографической чувствительности и повышения термостабильности, ин>кекционный слой выполнен из двух слоев фотопроводников сульфида кадмия и трехсернистой сурьмы, при этом толщина каждого слоя составляет

0,05 — 0,1 мкм.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР № 336638, кл. G 03G 5/08, 1970.