Устройство для гидравлической очистки плоских изделий

Устройство для гидравлической очистки плоских изделий

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИ САНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

СОЮЗ СОВЕТбкиХ

СОЦИаЛИСтИЧЕСКИХ

Республик

«» 710671

К АВТОРСКОМУ СВИДНВДЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 27.04.77 (21) 2480109/28-12 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет— (51) М. Кл

В 08 В 3/02

Гооударотеенный ноинтет

СССР оо делам нзооретеннй н открытнй (53) УДК 621.7. .022.6 (088.8) Опубликовано 25.01.80. Бюллетень № .".

Дата опубликования описания 03.02.80 (72) Авторы изобретения

В. И. Ситников и А. М. Копытин (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГИДРАВЛИЧЕСКОЙ

ОЧИСТКИ ПЛОСКИХ ИЗДЕЛИЙ

Изобретение относится к оборудованию для гидравлической очистки плоских изделий и может быть использовано, в частности, на технологических операциях при изготовлении полупроводниковых приборов и ин гегральных схем.

Известны устройства для гидромеханической очистки плоских изделий, содержащие щетки, соединенные с приводом, транспортирующий механизм с гнездами для изделий, например центрифугу, и средства для подачи обрабатывающей жидкости в зону очистки (1) .

Известны устройства для гидромеханической очистки плоских изделий, в которых процесс обработки осуществляется с помощью мягких беличьих флейц (2) .

Одним недостатком известных устройств является низкое качество очистки изделий от загрязнений, имеющих хорошее сцепление с обрабатываемой поверхностью, например при очистке полупроводниковых пластин после химико-механической полировки.

Другим недостатком известных устройств является то, что очистка изделий осуществляется одними и теми же щетками и удаленные загрязнения частично или полностью задерживаются на щетинках щеток, а затем переносятся на обрабатываемые поверхности последующих изделий, что значительно снижает качество очистки. Этот недостаток устранен в устройстве, где по радиусу обрабатываемого изделия, нацример полупроводниковой пластины, непрерывно вводят чистую влажную ткань (3).

Однако практически известное устройство в массовом производстве не используется, так как необходим большой расход технически чистой ткани.

Наиболее близким решением из известных является устройство для гидромехани, ческой очистки плоских изделий, содержащее установленный с возможностью вращения держатель в виде диска с закрепленными на нем одним концом моечными элементами и систему подвода к ним рабочей жидкостиГ4Х

20 Недостатки известного устройства имеют тот же характер, что и у вышеописанных аналогов. Это исключает возможность использования указанного устройства в тех71067(Форму га изобретен!!я нологических:!роцессах. требующих высокого кз >ества < чистки плоских издел:«й, в части(>ст . Оно >!å может былгь использовано в полу«>роводи)>ковом производстве для очистки кремниевых плас. ин, после механической или химико-механической полировки.

Целью настояще"o изобретения является повышение качества очистки.

Указанная цель достигается тем, что в устройстве для очистки плоских изделий, включающем установленный с возможностью вращения держатель в виде диска с закрепленными на нем одним концом моечными элементами и систему подвода к ним рабочей жидкости, держатель выполнен полым, а моечные элементы — — в виде полых 1$ эластичных трубок с лепестками на свободных концах, причем эластичные трубки закреилеиь: иа держателе радиальными рядами и имеют щелевые отверстия, расположенные на стороне, обращенной к периферии

iH(ка.

Такое Вь полнение устройства обуславливает возникновение избыточного давления в эластичных трубках (моечных элементах), что Обеспечивает как вибрацию упомянутых моечных элементов, так и отмывку 2$ осевших па них загрязнений. Вибрация эластичных трубок. а следoBBTcëüío, лепсcTKoB, способствует более интенс:!впому разрушению слоя загрязнений на поверхности обрабатываемо)о изделия, что повышает качест30 во очистки.

На фиг. 1 изображен продольный разрез устройства для гидравлической очистки плоских изделий; на фиг. 2- разрез А-А на фиг

1; на фиг. 3 — разрез Б-Ь иа фиг. 1. х стройс130 л;Iя ГI!дравл!1 !Вской Очистки 3$ плоских изделий содержит лсржатель 1, Bhlиолнеиный полым и устап;>Вле)шый с Воз)и:жностью врашат(л; i!oão,: . озвратно-поступательного движ<ч(ия. Б,г:p+:1!lc.l!:з;а креплены полые эл;i<, . !Иыс T)>бки 2 с лепестками 3 иа свободны; концах. Ле;i(c-ки

3 выполнены путем на,;реза концов Tp>,бси; 2

I«четырех мсстах с последуloILLHM утоиеиием.

Полые аласT:> !H!>Ir< трубки 2 закреплены !!не. <.!)и i1Ll(<11!()11 1< и риф:. рии д! ока. Обрабить<1<ис."<ые изделия 5 укс!ад!.)В>>юг B гнез

;i 6 тр)HOHîðTHðóþùåcî ме;анизма 7, размещенного под моечными элементами-труб1<(<,Iè 2. В держателе имеется осевое отвсрс, Ie 8.

У< тройство для гидравлической очистки работает следую!цим Образом.

Изделия 5 укла,лыв;«к)",l 1«зла 6 транспортируюгцего механизма i i!! >;<,)IIì(р цент рифугу) и перемегцак>т под моечными элементами. Моющую жидкость, например деионизованную воду, подают в отверстие 8 держателя 1. Жидкость юд действием центробежных сил, возникающих при вра!цении держателя 1, поступает по трубкам 2 в зону обработки. Между обрабатываемыми изделиями 5 и концами полых эластичных трубок 2 имеется гарантированный зазор

S =0,1-0,2 мм, который устанавливается предварительно путем перемегцения держателя 1 0верх или вниз в вертикальном направлении относительно поверхности изделий 5, что в дальнейшем при подаче жидкости обеспечивает возникновение избыточного давления в трубках 2, вследствие чего моющий раствор поступает в зону обработки не только через зазор, но и через щелевые отверстия 4. Причем струя жидкости, поступающая через щель 4, направлена на ближайшую трубку радиального ряда, удаленную от центра, и обеспечивает одновременно вибрацию трубок 2 и отмывку осевших на них загрязнений. Кроме того, под действием избыточного давления лепестки 3 отгибаются до соприкосновения с поверхностью изделия 5. Под действием струи жидкости, поступак)щей через зазор 3. а также вследствие механического воздействия .и пестков 3 06Рспечивается удаление загрязнений с поверхности изделий 5.

Толщина загрязненного слоя на изделии

5 в процессе очистки уменьшается, зазор увеличивается, что ведет к уменьшению механического воздействия лепестков 3 на изделия 5, а также и уменьшению вибрации трубок 2, в результате чего исключается возможность порчи очищс!«ной поверхности изделия и обеспечивается их очистка с небольшим разбросом Времени независимо От толгцины слоя загрязнения.

Моющий раствор, вытекающии из трубок

2. создаст тонкую Водяную прослойку между .1(пестками 3 <1 ()ч1, !И<1е !ым х <час < H<>х! ГIОВерх

I!OCT!I Из I(1 И!> 5 i ;<> "." 1 < 1ОЖ1!ОСТЬ

В()ЗНИК1«(>B<,!IHH C C. (<">I О 1 "<СНИЯ ". а это В сВОю Оч(.рель позволяст Ос> !Исствлять отмывку при боль!!1!!х скоростя, ;1>а пения дсржагсля l.

Использование ус«ройства. в частности

В !И>лу«!ровол «ик<>вом произвоlcTBE, лля

О Iистки крем <1Iи Вых и., !В(ти1! пОсл(. механическойй и.!и химико-механической полировки обе(печивает «ювыш. Иие качества очистки изделий, а также повышение производительilOCTH.

Устройство для гидравлической очистки

11лоских из.!елий. Вклк>чающее установленныйй с Возможностью ", <>;i< !та",и и систему llo;(Фиг.1 фиг. Я б-б

ЦНИИ ПИ Заказ вй 5г7 Тираж а36 Подписное

Филиал П П П к Патент», r. Ужгород. Ул. Проектная, 4 вода к ни м рабочей жидкости, отлп ча кпие<ся тем, что, с целью повыьчсйия качества очистки, держатель выполнен полым, а моечные элементы — в виде полых эластичных трубок с лепестками на свободных концах, причем эластичные трубки закреплены на держателе радиальными рядами и имеют щелевые отверстия, расположенные на стороне, обра!ценной к периферии диска.

Источ)!!!ни !!н(1)о! 1,i: !i!>!

r!ри и яTые Б(! в !! i! 1! г!!!е ос !i = кл . о . : i

1. Авторское с в!!детсдьство СССР № 442477, кл. В 08 В 1,04, 1969.

2. Патент ГДР ¹ 86655, кл. 2lo . 11/02, 1971.

3. «Electruriic Neur». 1973, № 943, р.:! !.

4. Патент СИ1А ¹ 3946454, кл. Л 46 В 13!04, 1976.