Способ изготовления фольговых тензорезисторов
Иллюстрации
Показать всеРеферат
О П И С Л" Н И Е .,У)2651
ИЗОБРЕТЕНИЯ
Союз Советских
Соцналнстнческнх
Республик
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (б1) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 07.08.78 (21) 2652421/25-28 с присоединением заявки № (23) Приоритет (43) Опубликовано 30.01.80, Бюллетень ¹ 4 (45) Дата опубликования описания 30.01.80 (51) M. Кл.
G 01В 7/16
Гасударственный комитет
СССР по делам наобретеннй н открытнй (53) Ъ ДК 531.7812 (088.8) (72) Авторы изобретения
Ф. А. Гордеева и С. А. Николаева
Научно-исследовательский и конструкторский институт испытательных машин, приборов и средств измерения масс (71) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОЛЬГОВЫХ
ТЕНЗОРЕЗИСТОРОВ
Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к измерениям механических величин электрическими параметрами.
Известен способ изготовления печатных форм с использованием фоточувствительной эмульсии, заключающийся в том, что наносят на очищенную поверхность заготовки фоточувствительный раствор поливинилового спирта, фоторепродуцируют нанесенное покрытие, задубливают его и вытравливают форму в водном растворе хлорного железа, промывают в воде, просушивают и удаляют задубленную пленку в растворе из смеси щавелевой кислоты (150—
200 г/л) и хлорного натрия (50 †1 г/л) при 85 — 95 С в течение 3 — 5 мин (1).
Недостатком этого способа является длительность процесса удаления задубленной пленки и необходимость механического вмешательства при удалении.
Наиболее близким по технической сущности к изобретению является способ изготовления фольговых тензорезисторов, заключающийся в том, что наносят на очищенную поверхность фольговой пластинки фоточувствительную эмильсию поливинилового спирта, фоторепродуцируют нанесенное покрытие, задубливают его, наносят на его противоположную поверхность клеевую основу, травят задубленную пленку в водном растворе хлорного железа и промывают ее в воде (2).
Недостатком этого способа является то, что нити тензорезпсторов подвергаются боковому растравлпванию, а это ведет к большому разбросу по сопротивлению рабочего поля фольги п браку, а также низкая производительность.
»О Целью изобретения является повышение точности изготовления тензорезистора за счет уменьшения разброса по сопротивлению и повышение производительности.
Это достигается тем, что задубленную
»б пленку удаляют в водном растворе перекиси водорода концентрации 1: 2 при 60—
80 С в течение 20 — 40 с.
Способ осуществляется следующим образом.
20 Поверхность фольговой пластинки тщательно очищают от жира и грязи и наносят на нее фоточувствительную эмульсию поливинилового спирта. С целью равномерного распределения эмульсии на поверхности
25 пластинки ее обрабатывают в центрифуге.
Затем высохшую пленку фоточувствител»ной эмульсии фоторепродуцпруют и задубливают при 120"С в течение 1 — 1,5 ч.
После охлаждения пластинки на ее проЗ0 тивоположную поверхность наносят клее712651
Составитель В. Пискарев
Техред А. Камышмикова
Редактор T. Морозова
Корректоры: А. Галахова и О. Данишева
Заказ 2790/13 Изд. ¹ 124 Тираж 810 Подписное
НПО «Поиск» Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, 3(-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2 вую основу, что придает фольге жесткость, протравливают задубленную пленку в водном растворе хлорного железа и промывают пластинку в воде.
Задубленную пленку удаляют в водном растворе перекиси водорода концентрации
1: 2 при 60 — 80 С в течение 20 — 40 с.
Введение метода химического снятия задубленной пленки улучшит качество изготовления тензорезисторов и повысит производительность за счет снижения брака.
Формула изобретения
Способ изготовления фольговых тензорезисторов, заключающийся в том, что наносят на очищенную поверхность фольговой пластинки фоточувствительную эмульсию поливинилового спирта, фоторепродуцируют нанесенное покрытие, задубливают его, наносят на его противоположную поверхность клеевую основу, травят задубленную пленку в водном растворе хлорного железа и промывают ее в воде, отличающийся тем, что, с целью повышения точности из5 готовления тензорезистора за счет уменьшения разброса по сопротивлению н повышения производительности, задубленную пленку удаляют в водном растворе перекиси водорода концентрации 1: 2 при 60—
10 80 С в течение 20 — 40 с.
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
1. «Справочник по печатным платам», перевод с английского под ред. Файзулаева
15 Б. Н. и Квасницкого В. Н. М., «Советское радио», 1972, с. 85 — 90.
2. Анкунданов Д. Т. и Мамаев К. Е. Малобазисные тензодатчики сопротивления.
M., «Машиностроение», 1968, с. 37 — 41
20 (прототип).