Фотошаблон

Фотошаблон

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советсиых

Соцйаяыетычйскых

Республик

< > 715362 (61) Дополнительное к авт, свид-ву (22) ЗаЯвлено 30.12.74 (21) 2092087/28-12 с присоединениеа1заявки Рй (5I)M. Кл.

В 41 М 3/08

Н 05 К 3/00

6ааущара1вамма ква1ктвт

ЫФР

1 ааааа к абратеивй н еткрыткв (23) приоритет

Опубликовано 15.02.80 Бюллетень At 6 (53) УДК

778.644 (088.8) Дата опубликования описании 20.02.80

Г, П, Сергйенко, А..П. Кауфман и В. И. Кимарский (54) ФОТОИАБЛОН

Изобретение относится к технологии произ. водства радиоэлектронной аппаратуры, в част ности, к изготовлению фотошаблонов, применяемых в фотолитографических процессах при производстве интегральных схем.

Известен фотошаблон, состоящий из про5 зрачной стеклянной подложки, с нанесенным на нее маскирующим металлическим слоем, в котором выполнено изображение требуемого рисунка, и защитным слоем, расположенным на маскирующем слое (1).

Недостатком известного фотошаблона являются скрытыетрудно контролируемые дефекты в поверхностном слое стеклянной подложки (выколки стекла, царапины, выступы). Эти

15 дефекты появляются во время механической и химической обработки подложки и являются причиной образования проколов в металлиэированном слое (на месте буторков и выступов в подложке), плохой адгеэии металлизированного слоя к стеклу и включении невьправленной металлической пленки в светлом поле азотошаблона (на месте царапин и выколок в подложке).

Целью изобретения является повышение качества фотошаблона путем исключения влияния дефектов на маскирующий слой.

Это достигается тем, что защитный слой размещен между подложкой и маскирующим счоем.

Обеспечение поверхностного слоя стеклянной подложки защитным слоем нитрида кремния предупреждает трансформацию дефектов подложки в маскирующий слой.

На чертеже показан предлагаемый фотошаблон.

Фотошаблон состоит иэ прозрачной стеклян: ной подложки 1, поверхность которой защищена слоем 2 ннтрнда кремния. Изображение требуемой функциональной схемы выполнено в маскирующем слое 3, например, их хрома, нанесенном на защитный слой 2.

Защитный слой 2 наносится на поверхность стеклянной подложки 1 после подготовки последней известными методами механической и химической обработки.

В процессе химической и механической обработки стеклянной подложки 1 в ее поверхСоставитель В. Юсков

Техред Н Бабурка Корректор М. Шароши

Редактор Н. Козлова

Заказ 9426/15 Тираж 434

ЦНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открьпий

113035, Москва, Ж вЂ” 35, Раутпская наб., д. 4/5

Подписное

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

3 71 ностйом Слое образуются дефекты (выколки, бугорки, царапины), являющиеся практически. единственной причиной выхбда из строя -фотошаблонов во время эксплуатации.

Нанесение нитрида кремния на подложку

1 производится в камере реактивного распы"ления, например, с помощью установки УРМЗ.

279.013.

Условия режима нанесения нитрида кремния: давление азота в вакуумной камере

3 10 мм рт.ст; анодный ток 1а к = 80 ма; напряжение распыления мишени Орасп. =

= 1,25 кв; скорость роста пленки нитрида кремния

U = 12 А/мин. температура подложки в процессе осаждения пленки 280 С; толщина наносимой пленки нитрида кремния d "1000 А.

В процессе нанесения нитрида кремния на стекло обеспечивается высокая адгезия этих слоев, благодаря, тому, что коэффициенты линейного расширения стекла и нитрида кремния имеют противоположные знаки.

Маскирующий слой 3, в данном случае из хрома, наносят на слой 2 известными метода5362 4 ми вакуумного распыления и создают в нем требуемое изображение, пользуясь известными методами фотолитографии.

Благодаря размещению слоя нитрида кремния между подложкой и маскирующим слоем обеспечивается . стабилизация поверхностного слоя стекла неразрушаемым в дальнейшем технологическом процессе слоем нитрнда кремния. Это предупреждает трансформацию де10 фектов поверхности стекла в маскирующий слой, благодаря чему повышается качество фотошаблона по сравнению с известным.

Формула изобретения

Фотошаблон, содержащий стеклянную подложку с маскирующим слоем и защитным слоем из нитрида кремния, отличающийся эо тем, что, с целью повышения его качества ny ì исключения влияния дефектов на маскирующий слой, размещен между подложкой и маскирующим слоем.

Источники информации, 25 принятые во внимание при экспертиэе

1. Авторское свидетельство СИ Р И 329501, кл. Н 05 К 3/00, 1970 (прототип).