Фототермопластический материал

Фототермопластический материал

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Союз Советских

Социалистических

Республик (ii) 726492

К АВТОРСКОМУ СВИ ЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву— я)м. кл. а 03 G 5/04 (22) Заявлено 270378 (21) 2620265/23-04 с присоединенИем заявки №вЂ” (23) Приоритет—

Государственный комитет

СССР по делам изобретений н открытий (53) УДК 771. 5 (088. 8) Опубликовано. 050480. Бюллетень ¹ 13 !

Дата опубликования описания 07.0480 (72) Авторы изобретения

Ю. A. Черкасов, М. С. Бородкина, Л..И. Зеленина, A. А. Постников, Т. В. Чельцова и A. Д. Лопатко (71) Заявитель (54 ) ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ

Изобретение относится к фототермопластическим материалам, которые могут быть использованы для записи оптической информации, например, в телевидении, голографии и т.д. S

Известен фототермопластический материал, состоящий из металлизированной подложки и фотопрсводящего слоя,. включающего поли-N-винилкарбазол (IIBK) и теломер стирола с дивинилом (1). с

Недостатком этого материала является его относительно низкая электрофотографическая чувствительность.

Наиболее близким к предложенному является фототермопластический материал, состоящий из подложки, инжекционного слоя селена и фотопроводящего слоя, включающего пВк и теломер 20 стирола с дивинилом (21, Укаэанный материал имеет более высокую, чем первый электрофотографическую чувствительность к коротковолновой (синей) области спектра, 25 но неудовлетворительно низкую чувствительность к длинноволновой (крас" ной) области спектра.

Целью изобретения является увеличение электрофотографической 30 чувствительности материала к длинноволновой области спектра °

Поставленная цель достигается тем, что фототермопластический материал, состоящий из металлизированной подложки, инжекционного слоя селена и фотопроводящего слоя, вклю; чающего ПВК и теломер стирола:с дивинилом, в фотопроводящем слое дополнительно содержит 2, 4, 7-тринитрофлуоренон-9 (ТНФ) и родамин Б при следующем соотношении компонентов, вес.Ъ:

ПВК 34-65

ТНФ : 1-4

Родамин Б 0 05-0,30

Теломер стирола с дивинилом Остальное

Пример ы 1-6.На пслиэтилентетрефталатную основу толщиной 100 мкм, покрытую прозрачным электропроводя- щим слоем никеля, наносят слой аморфного сейена толщиной 0,05 мкм.Затем методом купающего ролика из толуольного раствора наносят фототермопластическую композицию, состав которой указан в табл. 1.

Приготовленный образец высушивают в вакуумном сушильном шкафу при комнатной температуре в течение 2 ч.

726492

Таблица 1

Номер примера

Состав композиции, вес. %

Толщина полимерного покрытия после сушки, мкм арактеристика еломера стиола с дивиниом

ПВК ТНФ теломер стирола с дивинилом родамин

Б одержа- мол. ие ди- масса инила,В

18 20000 4

18 I 10000: 4

1 " 60,0

2 48,0 3 48,0

4 48,0

5 64,6 б 33,7

40,0

48,0

48,0

48,0

34,4

62,8

3,95

0,05

0,10

0,30

0i10

0,10

3,90

3,70

0,90

3,40

15 20000 4-5

20 15000 4,5

25 20000 4

15 20000 4-5

Т а б л и ц а 2

Светомодуляционная способность, Ъ

Светопропускание при

Л б33 нм, %

Светопропускание при

Л 441 нм

Номер примера увствительость при

Л 633 нм, м /эрг, увствительость при

Л 441 нм, м /эрг

8.10, 35.10

60.10

80 ° 10

40.10

32.10

23.10

25.10

25.10

25.10

23.10

22.10

91

90

55

15

54,5

74

4

5 б

70

55

Филиал ППП Патент . r. ужгород, ул. Проектная, 4

Б табл. 2 приведены сравнительные характеристики приготовленных образцов фототермопластического материала..Гак видно из табл. 2, чувствитель-

НоС1Ъ предлагаемого материала при

Л 633 нм в 4-10 раз выше чувстви" тельности материала, полученного по прототипу (2), без снижений чувствительности при Л 441 нм, а также практически без снижения коэффициен— та светопропускания при достаточно высоком значении светомодуляционной способности.

Предлагаемый материал может быть использован в голографических устройствах, где требуется эапиСь на длинах волн 441 и 633 нм и восста= новление изображения на длине волны 633 нм, а также в устройствах записи иэображений с белым светом и работающих на просвет, например в аппаратах микрофильмирования.

Формула изобретения

Фототермопластический материал, состоящий из металлизированной под. ложки, инжекционнoro слоя селена и

ЦНИИПИ Заказ 649/35

Измерения электрофотографической чувствительности приведены при спаде потенциала ь0 /ц О, 1. фотопроводящего слоя, включающего поли-N-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью увеличения электрофотографической чувствительности к длинноволновой области спектра, в фотопроводящем слое он дополнительно содержит 2,4,7-тринитрофлуоренон-9 и родамин Б при следующем соотношении компонентов, вес.Ъ:

Поли-N-винилкарбазол 34-65

2,4,7-Тринитрофлуоренон-9 1-4

Родамин Б 0,05-0,30

Теломер стирола с, $$ дивинилом Остальное.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР

В 312232, кл. G 03 G 5/04, 04.0170.

2. Авторское свидетельство СССР

В 336638, кл. 6 03 6 5/08, 090170 (прототип) .

Фираж 526 Подписное