Устройство для стабилизации процессапсевдоожижения

Устройство для стабилизации процессапсевдоожижения

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Союз Советскик

Социалистических

Республик

<»)798555 (61) Дополнительное к авт. саид-ву— (22) Заявлено 02 ) 47 9 (21) 2761400/18-25 с присоединением заявки М— (23) Приоритет—

Опубликовано 23.01.81, Бюллетень Н9 3

Дата опубликования описания 230 1„81 (51)м. кл.з

G 01 N 15/02

Государственный комитет

ССС Р по делам изобретеиий и открытий (53) УДХ б б . 0 96 . 5 (088 ° 8) (72) Авторы изобретения

В.A.Ïoïoâ, В.В.Ермаков и М.Н.Майданик

Государственный научно-исследовательский энергетический институт им. Г.М.Кржижановского (71) Заявитель (54) устРОйство дЛЯ СтАВИЛИВАциИ

ПРОЦЕССА ПСЕВДООЖИЖЕНИЯ

Изобретение относится к области аналитического приборостроения и может быть использовано при разработке устройств для измерения параметров псевдоожиженного слоя.

Известно устройство, относящееся к измерителям параметров псевдоожиженного слоя, содержащее датчик, погруженный в среду (1), 10

Однако известное устройство не дает однозначного выходного сигнала, так как порозность порошка изменяется в процессе измерений.

Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности является уст- 1з ройство для стабилизации процесса псевдоожижения, содержащее горизонтально расположенную в кипящем слое решетку (2).

Недостаток устройства заключается 20 в том, что оно не позволяет стабилизировать в необходимых пределах llpo» цесс псевдоожижения.

Целью изобретения является повышение однороцности кипящего слоя.

Це-чь достигается тем, что устройство снабжено, по крайней мере, одной дополнительной решеткой, с шагом S между стержнями, равным расстоянию между стержнями основ»ой решетки, причем стержни дополнительной решетки расположены по отношению к основной в шахматном порядке, расстояние между плоскостями решеток равно Й/2 $ .

Расстояние S между стержнями каждой иэ решеток определяется иэ выражения

2сР g S(50с1 1l5 при й(5,85 и S)2d при d>5,85 где d — диаметр частиц твердой фракции, мм.

На фиг, 1 изображены элементы решеток; на фиг. 2 — график, поясняющий приведенное выше соотношение, т.е. зависимость S = f(d)l S = f (D) °

Устройство содержит расположенную в кипящем слое основную решетку со стержнями 1 и дополнительную со стержнями 2 с шагом S, равным шагу между стержнями основной решетки. Расстояние между плоскостями решеток равно ф . Стержни дополнительной решетки расположены по отношению к стержням основной в шахматном порядке.

На фиг. 2 кривая 1, отображает зависимость S = 2d, а кривая 2 — заъВ

-ИЪ висимость 50д

При любом .циаметре частиц d шаг решетки S öîëæåí удовлетворять уел >вию S)2d 2 .

798555

Формула изобретения ф М

80 фиг.7

При диаметре частиц твердой фракции, меньшем й„ = 5,85 мм, на величину шага решетки накладывается дополнительное ограничение (см. кривую 2, фиг. 2) .

Заштрихованные области на графике фиг. 2 соответствуют рабочим значениям шага решетки.

Минимально допустимое расстояние между элементами решетки опрзделяется самой воэможностью псевдоожижения. (p

Дополнительное ограничение по максимально допустимому расстоянию между элементами решетки определяется величиной газового пузыря, образующегося при данном диаметре частиц кипящего слоя.

Расположение стержней парных решеток в шахматном поряцке необходимо для более эффективного рассекания объема пузырей (уменьшение гидродинамического сопротивления при совмещении решеток практически незначительно, Отмеченные соотношения получены опытным путем для различных материалов с различной формой частиц, в различных режимах псевдоожижения, 25

Обеспечение однородности пузырьковой фазы псевдоожиженного слоя, предотвращение уноса твердой фазы позволяет интенсифицировать процессы, происходящие в кипящем слое и повысить их эффективностЬ.

ВНИИПИ Заказ 10010/51

Тираж 918 Подписное

Филиал ПЛП "Патент", г.ужгород,ул.проектная,4

Устройство для стабилизации процесса псевдоожижения, содержащее горизонтально расположенную в кипящем слое решетку, выполненную из стержней о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения однородности кипящего слоя, оно снабжено, по крайней мере, одной дополнительной решеткой, с расстоянием между стержнями S равным расстоянию между стержнями основной решетки и определяемом следующим: соотношением

213 Sc50d при d (5,85 и Б ) 2d при и )i 5,85, где d — - диаметр частиц твердой фракции, мм, причем стержни дополнительной решетки расположены по отношению к основной в шахматном порядке, а расстояние между плоскостями решеток равно

ЛЬс.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР

9 139217, кл. G 01 F 23/16, 1960.

2. Галерштейн Д.М, и др. О средней скорости пузырей в псевдоожиженном слое с насадкой,- Инженерно-физический журнал, 197 6, т. ХХХ1, 94 с. 601 (прототип).