Способ обработки полупроводниковых структур

Способ обработки полупроводниковых структур

Реферат

Способ обработки полупроводниковых структур на основе соединений типа A^III B^V, включающий приведение поверхности структуры в контакт с раствором-расплавом, содержащим 3-10 вес.% алюминия и 90-97 вес.% галлия и высокотемпературный отжиг, отличающийся тем, что, с целью получения варизонных гетероструктур с высоким градиентом ширины запрещенной зоны, отжиг проводят при температурах 850-1000^oC в течение 10-100 минут.