Позитивный фоторезист

Позитивный фоторезист

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

и 11 Sl I I 95

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик (61) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 24.07.78 (21) 2648496/23-04 с присоединением заявки №вЂ” (23) Приоритет (43) Опубликовано 07.03.81. Бюллетень № 9 (45) Дата опубликования описания 07.03.81 (51) М. К .

G ОЗС 1/68

Государственный комитет (53) УДК 771.5 (088.8) по делам изобретений и открытий (54) ПОЗИТИВНЪ|Й ФОТОРЕЗИСТ

0 0

С-R-3H С

Н2 0Изобретение относится к позитивным фоторезистам, используемым в фотолитографическом процессе изготовления микросхем и фотошаблонов.

Известен позитивный фоторезист, вклю- 5 чающий светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и растворитель — диоксан (1).

Недостатками известного фоторезиста 10 являются неудовлетворительно низкая щелочестойкость, низкие адгезионные свойства фоторезистивной пленки и наличие в ней дефектов в виде трещин и проколов.

Целью изобретения является повышение 15 щелочестойкости, адгезионных свойств фоторезистивной пленки и уменьшение плотности дефектов.

Поставленная цель достигается тем, что позитивный фоторезист, включающий свето- 20 чувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и диоксан, дополнительно содержит пластификатор-уретановый эластомер общей формулы 1 25 где R — полиокситетраметиленгликоль — „Π— (— (СН,),— Π— J-; т=2 — 5, при следующем соотношении компонентов, вес. %: (.веточувствительный продукт на основе нафтохинондиазида 6,5 — 7,5

Фенолформальдегидная смола 10,5 — 12,5

Уретановый эластомер формулы 1 2 — 5

Диоксан Остальное

В качестве светочувствительного продукта на основе нефтохинондиазида используют 1,2-нафтохинондиазид (2) -5-сульфоэфир новолака.

В качестве уретанового эластомера формулы 1 используют синтетический каучук уретановый полифуритный литьевой ТУ

38103 — 137 — 72 (СКУ вЂ” ПФП) — продукт взаимодействия диизоцианата с простым или сложным олигоэфиром.

Пример. Для получения фоторезиста смешивают фенолформальдегидную смолу, светочувствительный продукт — 1,2-нафтохинондиазид(2) — 5-сульфоэфир новолака, уретановый эластомер и диоксан. Смесь выдерживают 12 ч в месте, защищенном от актиничного излучения.

811195

Перед применением фоторезист отфильтровывают.

Показатели полученных фоторез истов приведены в таблице.

Содержание компонента, вес. О

Время стойкости фоторезистивных пленок в 10 »-ном растворе

КОН, сек

Величина разрешающей способности, л/мм

1,2-нафтохинон-диазид (2)-5сульфоэфир новолака

Адгезионные свойства, гс/мм

Плотность дефектов, мм

Номер примера фенолформальдегиная смола уретановый эластомер диоксан

10,5

10,5

10,5

12,5

12,5

12,5

6,5

6,5

6,5

7,5

7,5

7,5

81

78

78

77

75 где R — полиокситетраметиленгликоль — О -(- (СН,), — О -I-.; т = 2 — 5, Использование в предлагаемом фоторезисте пластификатора — уретанового эластомера — позволяет повысить адгезионные 5 свойства, щелочестойкость фоторезистивных пленок и снизить плотность дефектов. при следующем соотношении компонентов, в вес, %..

Светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида 6,5 — 7,5

Фенолформальдегидная смола 10,5 — 12,5

Уретановый эластомер формулы 1 2 — 5

Диоксан Остальное

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Справочник «Химические материалы», Технические условия, т. III, Соли и основания, светосоставы, НПО, 002.008, МЭП, 1974 г.

Формула изобретения

Позитивный фоторезист, включающий 10 светочувствительный продукт на основе нафтохинондиазида, фенолформальдегидную смолу и диоксан, отличающийся тем, что, с целью повышения щелочестойкости, адгезионных свойств фоторезистив- 15 ной пленки и уменьшения плотности дефектов, он дополнительно содержит пластификатор — уретановый эластомер общей формулы 1

О 0

«»

С вЂ” NH — R-С г

-0 1111 2

0 Ю

С вЂ” R — Ь11- С г

12N ОСоставитель Т. Пономарева

Техред А. Камышникова Корректор P. Беркович

Редактор 3. Бородкина

Заказ 635/3 Изд, Ко 259 Тираж 530 Подписное

НПО «Поиск» Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

2

4

6

Прототип

400

0,1

0,1

0,1

0,09

0,12

0,10

0,5

180 †2

240 †2

280 †3

180 †2

220 †2

280 †3

10 — 15