Способ негативно-позитивного градационного маскирования

Способ негативно-позитивного градационного маскирования

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Класс 570, 1о № 84532 ссср

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Б. В. Коваленко, Г. H. Бабинский и В. Д. Глушко

СПОСОБ НЕГАТИВНО-ПОЗИТИВНОГО ГРАДАЦИОННОГО л1АСКИРОВАН ИЯ

Заявлено 9 августа 1948 г. за ¹ 382523 в Комитет по изобретениям и открытиям при Совете Министров СССР

В настоящее время при фотомеханическом воспроизведении одноцветных и многоцветных тоновых оригиналов производится градационная ретушь. Процесс градационной ретуши, т. е. корректирования на фотографических формах передачи градаций изображения в производстве, обычно выполняется вручную. Этот процесс весьма трудоемкий и требует большого опыта и художественной подготовки мастера-ретушера.

Описываемый способ негативно-позитивного градационного маскирования при фотомеханической репродукции позволяет устранить указанные недостатки тем, что, с целью градационного исправления при воспроизведении одноцветных и многоцветных оригиналов, светлые тона маскируются на негативе, а тени — на диапозитиве, причем маски изготавливаются со значительной недодержкой, но с повышенным контрастом в маскируемой части полутонов изображения.

Сущность способа негативно-позитивного градационного маскирования характеризуется следующими основными моментами:

1. Изготовление с тонового оригинала двух негативов на пленке: одного — основного, с,пропорциональной передачей средних полутонов изображения, фотографически мягких; второго — дополнительного, являющегося маской для корректирования оптических плотностей основного негатива в светлых деталях рисунка. На этом, более слабом против основного, негативе-маске должна быть пропорционально передана только светлая часть шкалы полутонов оригинала, но с повышенной контрастностью против основного негатива, что достигается режимом недодержки и увеличенного времени проявления.

Этот негатив-маску светов лучше изготавливать на диапозитивной фотопленке.

2. Совмещение и склеивание основного негатива с негативной маской светов. При этом маска помещается со стороны целлулоидной подложки основного негатива.

3. Изготовление контактным или проекционным путем двух диапозитивов: одного, основного, с правильной передачей светлых и средних полутонов оригинала, но с учетом особенностей последующего растрового процесса; второго — более слабого, на котором должны быть переданы только темные полутона оригинала, причем контрастнее, чем они переданы на основном диапозитиве. Зто достигается недодержкой и удлиненным временем IIpoBBëåíèÿ.

Второй диапозитив является маской для корректирования оптических плотностей основного диапозитива в темных деталях рисунка.

4. Совмещение и склеивание основного диапозитива с диапозитивной маской теней.

Дальнейшие операции — обычные и зависят от способа печати и принятой технологии производства.

Чтобы избежать возможной при широкой шкале полутонов ориги. нала потери деталей яркости в крайних светлых и крайних темных тонах оригинала, следует вручную увеличить оптические плотности наиболее ярких деталей оригинала (бликов) — на негативной маске светов. а наиболее темных деталей — на диапозитивной маске теней.

Сенситометрическая характеристика основных негативов и диапозитивов и масок определяется для разных модельных оригиналов (шкал), отличающихся интервалом яркостей, контрастностью и способом исполнения применительно к используемым негативному и позитивному фотографическим материалам.

Контроль процесса осуществляется по эталонным негативным и диапозитивным шкалам, изготовленным по предлагаемому способу с модельных оригиналов, которые фотографируются вместе с репродукционными оригиналами.

Настоящий способ применим и в процессе многоцветной репродукции. При этом сначала каждый из частичных цветоразделенных негативов маскируется по светам изображения, а после изготовления диапозитивов последние маскируются по теням изображения.

Цветокорректирующая ретушь, в случае применения этого способа, частично может быть выполнена обычным путем на негативах, а в основном должна быть произведена на растровых диапозитивах химическим путем (химическая ретушь).

Предмет изобретения

Редактор Б. И. Новиков Текрсд А. А. Камышникова Корректор Г. Голубятникова

Г!сдп. к печ. 26.IV-61 г

Зак. 2855

Формат бум. 70XI08 /1б

Тираж 220

ЦБТИ при Комитете по делам изобретений и при Совете Министров СССР

Москва, Центр, М. Черкасский пер., д.

Объем 0,17 усл. п. л

Цена 3 ко;т. открытий

2/6

Типография ЦБТИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР, Москва, Петровка, 1:1.

Способ негативно-позитивного градационного маскирования при фотомеханической репродукции, о тл и ч а ю щи и с я тем, что, с цель1о градационного исправления при воспроизведении одноцветных и многоцветных оригиналов, светлые тона маскируются на негативе, а темнь;е — на диагозигиве, причем маски изготавливаются со значительной нсдодержкой, но с повышеннь|м контрастом в маскируемой части полутонов изображения.