Способ нанесения пленки для изготов-ления мембранного модулятора cbeta

Способ нанесения пленки для изготов-ления мембранного модулятора cbeta

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Оп ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советския

Социалистические

Республик

«ii 853591 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 07.12.79 (21) 2852610/18-25 с присоединением заявки М (28) Прчоритет (51)М. Кл.

6 02 Е 1/19

ГОоударстееииый комитет

СССР до делам изо4ретений и открытий

Опубликовано 07.08.81. Бюллетень Рй 29

Дата опубликования описания 07.08.81 (53) УД К 535.8 (088.8) (72) Авторы изобретения

И. В. Кирющева н В. А. Рабинович

Одесский ордена Трудового Красного Знамени политехнический институт (71) Заявитель (54) СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНКИ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

МЕМБРАННО О МОДУЛЯТОРА СВЕТА

Изобретение относится к области техноло- гии изготовления элементов вычислительной техники, в частности элементов параллельных оптоэлектронных вычислительных c:õòåì н приборов — мембранных модуляторов света.

Известен способ нанесения пл нкн для изго. товления мембранного модулятора своза (11, по которому на поверхность перфорированной подложки наносится слой фоторезиста, заполняющий отверстия. После просушивания фото. резист полируют до тех пор, пока его поверхность не сравняется с подложкой. Образец покрывают тонким слоем желатины, на поверхность которой равномерно осаждают мелкие частицы, а затем наносят металлическую пленку напылением в вакууме. Образец протирают влажной тканью, удаляют выступающие частицы и промывают. В металлической пленке -- мембране Образуются мелкие поры. Затем удаляют фоторезист, для чего образец погружают в растворитель, который диффундирует сквозь поры в металлической мембране, и растворяют фото. резист, заполняющий Отверстия.

Недостатками способа являются сложность технологии и большая трудоемкость.

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату к изобретению является способ нанесения пленки для изготовления мембранного модулятора света, Основаи т ный на использовании в качестве исходного материала мембраны модулятора раствора коп. лодия, включающий нанесение на подложку раствора коллодия н последующую сушку (2).

Такой способ не позволяет наносить пленочную мембрану на перфорированную поверхность.

Целью изобретения является нанесение пленочной мембраны на еофорированную по. верхность.

Эта цель достигается благодаря тому, что по способу нанесения пленки для изготовления мембранного модулятора света, основанному на использовании в качестве исходного материала мембраны модулятора раствора коллодия, включающем нанесение на подложку раствора коллодия и последующую сушку, после сушки подлож

icy c нанесенной пленкой погружают s cocyg c

853591 4 ки для подведения опорного электрического потенциала.

Предложенный способ обеспечивает достаточную адгезию мембраны к подложке н воз-. можность металлизации мембраны напылением

5 в вакууме.

Использование способа значительно упрощает технологию изготовления мембранных модуляторов.

Брак при изготовлении минимален.

Экономический эффект от использования способа изготовления мембранных матричных модуляторов света с количеством ячеек 32х32 составляет ориентировочно 50 руб. на каждый модулятор.

При изготовлении мембранного модулятора на пластину из кремния с управляющими электродами наносили слой диэлектрика, в котором методами фотолитографии делалась перфорация в виде матрицы круглых отверстий. При- этом отверстия перфорации расположены над управляющими электродами.

Для изготовления мембраны был взят раствор коллодия, представляющего собой 3k ный раствор коллоксилина в смеси этилового спирта и эфира. Раствором поливали промежуточную подложку из окиси кремния. После сушки на воздухе при комнатной температуре образовывалась тонкая пленка. Подложку с образовавшейся пленкой погружали в сосуд с водой, где происходило ее отделение от подложки. Затем в тот же сосуд с водой погружали подложку с перфорированным слоем (диаметр отверстий 50-200 мкм, глубина перфорации 2-4 мкм) и подводили ее под отделившуюся пленку. На этой же пластине извлекали иэ воды пленку и высушивали при

20 C на воздухе в горизонтальном положении.

Толщина полученной пленки менее 5 мкм. Высыхая, пленка приклеивалась к верхней плоскости подложки и натягивалась в местах над отверстиями, причем остатки воды испарялись из-под пленки, так как пленка коллодия проницаема для молекул воды. Затем на пленку, равномерно натянутую и приклеенную к перфо-. рированному слою, наносили напылением зеркальный слой алюминия и контактные плошадСоставитель Н. Назарова

Редактор Л. Утенина Техред Ж. Кастелевич Корректор Н, Бабинец

Заказ 5669/23 Тираж 539 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

3 водой, отделяют пленку, помешают в тот же сосуд пластину с перфорированной поверхностью, подводят под отделившуюся пленку и вместе с пленкой извлекают из сосуда, после чего повторяют процесс сушки.

Полученная мембрана металлизируется напылением в вакууме для обеспечения достаточной электрической проводимости и отражательной способности, Формула изобретения

Способ нанесения пленки для изготовления мембранного модулятора света, основанный на использовании в качестве исходного материала мембраны модулятора раствора коллодия, включаюший нанесение на подложку раствора коллодия и последующую сушку, о т л и ч аю ш и и с я тем, что, с целью нанесения пленочной мембраны на перфорированную поверхность, после сушки подложку с нанесенной пленкой погружают в сосуд с водой, отделяют пленку, помещают в тот же сосуд пластину с перфорированной поверхностью, подводят под отделившуюся пленку и вместе с пленкой извлекают из сосуда, после чего повторяют процесс сушки.

35 Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. 1.. F. Cosentino, W. F. Stiwart А

membrane page composer", RCA Review, 1973, ч. 34, Х l, р. 45.

2. ФТМ "Микросхемы, фотошаблоны прецизионные", Типовые технологические процессы

НбкО 054002, ред. 1-68, с. 23.