Способ изготовления фотошаблонов

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

(и) 860363

Союз Советсиик

Социапистичесиик

Республик

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. саид-ву (22) Заявлено 22.06.79 (21) 2783951/18-21 с присоединением заявки рй (28) Приоритет (53)М. Кл.

Н 01 1 21/302

Н 05 К 3/06

G 03 F 7/20

Ртаударстееаиый кеткитет

СССР ав делам изобретений и отерьпий

Опубликовано 30.08.81. Бюллетень М 32

Дата опубликования описания 30.08.81 (53) УД3(621.7..382.002 (088.8) В. Н. Гусев, Л. Б. Дуков и Б. П. Мазанько (72) Авторы изобретения (71 ) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНОВ

Изобретение относится к методам изготовления фотошаблонов печатных плат, интегральных схем и других приборов с использованием координатографов и может быть использовано. в приборостроении,, электронной и радиопромьтшленности.

Известен способ изготовления фотошаблонов, включающий выполнение схемных элементов в увеличенном масштабе на фотооригинале, фотографирование его с уменьшением на фотопленку (1), Недостатком способа является его сложность, необходимость использования высокоточного оборудования.

Наиболее близким техническим решением к предлагаемому является способ изготовления фотошаблонов, включающий позиционирование фотопластины. относительно схемных элементов и их проецирование на фотопластину в уменьшенном масштабе, проявление фотопластины, позиционирование фотопластины относительно заготовки фотошаблона и экспонирование заготовки фотошаблона через фотопластину.

В способе создается библиотека схемных элементов, положение которых постоянно по отношению к установленной на фиксатротмнное место заготовки фотошаблона.

При таком нрннципе построения библиотеки схемных элементов на промежуточном оригтьнале или библиотечном диапазоне — эталоне хранятся геометрические данные схемы: реперы фотошаблоиов и полупроводниковых пластин, конфигурации резисторов, базовых,, змиттерных коллекторных окон н т. п. Эти изображения проецируются через уменынающий объектив на фотопластину поочередно н таким образом получается изображение всего технологического слоя, которое используется как уменьшенный оригинал для мультипликации (2).

Недостатком указанного способа являетс» низкая технологичность, вызванная необходимостью последовательной взаимной юстировки осн схемного элемента и центра выбранного участка фотопластины ио тому же закону, по которому схемный элемент смещается механизмом позиционирования, а также необходи860363

ВНИИПИ Заказ 7578/32 Тираж 784 Подписное

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 мостью точной установки всего фотошаблона относительно механизма позиционирования.

Цель изобретения — упрощение процесса изготовления фото шаблонов, Указанная цель достигается тем, что в способе изготовления фотошаблонов, включающем позиционирование фотопластнны относительно схемных элементов и их проецирование на фотопластину в уменьшенном масштабе, проявление фотопластины, позиционирование фотопластииы относительно заготовки фотошаблона и экспонирование эагоювки фотошаблона через фотопластину, все упомянутые операции выполняют при закреплении фотопластины в базирующей технологической рамке, причем позиционирование фотопластины относительно схемных элементов и позиционирование ее относительно заготовки фотошаблона проводят на одном и том же механизме позиционирования.

Изготовление фотошаблонов в соответствии с предлагаемым способом осуществляют следующим образом.

Предварительно изготавливают оригиналы схемных элементов на отдельных пластинах для создания библиотеки элементов.

В базирующую технологическую рамку закрепляют фотопластину; совмещают уменьшающую проекционную систему устройства для репродуцировании с механизмом позиционирования координатографа и устанавливают рамку с фотопластиной в механизм позиционирования.

Устанавливают один из схемных элементов в устройство дяя 1жпродуцирования, выводят механизмом позиционирования рамку с фотопластиной в нужную позицию, производят репродуцирование схемного элемента с уменьшением, например, в масштабе 10:1. Этн операции повторяют до получения на фотопластине всего набора схемных элементов. Далее прово. дят проявление фотопластииы, не освобождая ее иэ технологической рамки, обеспечивающей точное базирование каждого из схемных элементов как в процессе изготовления фотопластины, так и при использовании ее в процессе вычерчивания фотошаблоиов.

Отсоединяют устройство для репродуцирова ния с уменьппиощей проекционной системой от механизма позиционирования коордииатографа и устанавливают рамку с фотоцластиной в тот же механизм позиционирования. Устанавливают механизм позиционирования с фотопластиной в исходное положение и приступают к вычерчи ванию фотошаблоиа.

Полученную фотопластину в рамке используют при вычерчивании фотошаблонов в той же световой головке, на которой она изготовлена.

Это обеспечивает высокую повторяемость позиционирования каждого схемного элемента во время изготовления фотопластнны и при ее использовании в процессе вычерчивания фотошаблонов н как следствие, высокую точность вычерчивания фотошаблоков в пределах одного

to слоя, а при изготовлении нескольких фотошаблонов многослойных печатных плат — точное совмещение элементов рисунков различных слоев.

В предлагаемом способе возмож о упрощение

15 конструкции механизма, так как при работе по этому способу достаточно добиться высокой . повторяемости позиционирования (а не абсолютной точности перемещений при позиционировании), кроме того, возможно отказаться от громоздкого репродукционного аппарата высокой точности.

Формула изобретения

Способ изготовления фотошаблонов, включающий позиционирование фотопластины относительно схемных элементов и их проецирование на фотопластнну в уменьшенном масштабе, про30 явление фотопластины, позиционирование фотопластины относительно заготовки фотошаблона и экспонирование заготовки фотошаблона через фотопластину, о т л и ч а ю щ н и с я тем, что, с целью упрощения процесса и заготовления фотошаблонов, все упомянутые операцж вы- (нолняют при закреплении фотопластины h базирующей технологической рамке, причем позиционирование фотопластнны относительно схемных элементов и позиционирование ее относительно заготовки фотошаблона проводят на

4О одном и том же механизме позиционирования.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Каплан Л. М., Масютин Г. Г., Томашев45 ский Д.И. и Кранивина Г.А. Изготовление фотошаблона полосковых линий СВЧ узлов на программ ном коордннатографе. — "Обмен опытом в радиопромышленности", 1973, И 10, с. 55-56.

2. Введение в фотолиюграфию. Под ред.

В. П. Лаврищева, "Энергия ", 1977, с. 80 (прототип) .