Способ проявления экспонированных черно-белых особомелкозернистых фотоматериалов с фоточувствительным галогенидосеребряным слоем

Способ проявления экспонированных черно-белых особомелкозернистых фотоматериалов с фоточувствительным галогенидосеребряным слоем

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Союз Советских

Социалистических

Республик

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ((() 862108 (6I ) Дополнительное к авт. свкд-ву (22) Закалено 21.11.79 (21) 2841522(18.10 с присоединением заявки М (28) Приоритет (5I )M. Кл.

G 03 С 5/26

Гвсударстввииый комитет

СССР по делам изобрвтеиий и открытий

Опубликовано 07.09.81. Бюллетень J% 33 (53) УДК 772.15.

- (088.8) Дата опубликования описания 07.09.81

А. М. Недув и П. К. Пудожгорский

Филиал Всесоюзного государственного научно-исследовательского . i и проектного института химико-фотографической промышленностц, (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) СПОСОБ ПРОЯВЛЕНИЯ ЭКСПОНИРОВАННЫХ ЧЕРНΠ— БЕЛЫХ

ОСОБОМЕЛКОЗЕРНИСТЫХ ФОТОМАТЕРИАЛОВ С ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЪ|М

ГАЛОГЕНИДОСЕРЕБРЯНЫМ СЛОЕМ

Изобретение относится к способу нооявления экспонированных черно-белых особомелкоэернистых фотоматериалов для микроэлектроники с галогенндосеребряными слоями.

Известен способ проявления эксповированных фотоматериалов, включающий химическое про5 явление с последующим фиксированием иэображения (1J.

Недостатком указанного способа проявле- . ния являетея то, что не удается получать

10 одинаковые оптические плотности изображении, имеющих равные экспозиции, при различных интервалах времени хранения между экСлониро ванием и проявлением.

Иэ."естен способ проявления экспонированных

5 черно- белых особомелкоэернистьтх фотоматериа-, лов с фоточувствителвным галогенидосеребряным слоем.. включающий хиьптческое проявление, тепловую обработку и фиксированне (2).

Однако в указанном способе при многократном экспонировании материала, с интервалом экспозиции в несколько часов, не удается, достичь равных оптических плотностей для совмещенных различных изображении, что Oipaничинает область применения материалов в микроэлектронике.

Целью изобретения является устранение влияния регрессии скрытого фотографического изображения на получаемые величины оптических плотностей.

Указанная цель достигается тем, что в известном способе, включающем химическое проявление, тепловую. обработку и фиксироваwe, тепловая обработка производится перед о проявлением прн температуре 40 — 60 С в течение 10 — 14 ч.

Сущность способа заключается в том, что при тепловой обработке экспонированного фотослоя возникает тепловое движение межузельных ионов серебра, что приводит к рассасыванню центров скрытого иэображения. Однако этот процесс небеспределен, так как оставши.еся ионы серебра связаны амина- и карбоксильными группами желатины с образованием комплексных соединений. Таким образом, независимо от времени хранения скрытого изображения, тепловой обработкой можно вызвать предельную регрессию центров, а затем латен3 . 862108 4 сификацией проявления достичь необходимые Экспонированные материалы подвергали теплопоказа тели. вой обработке в сушильном шкафу при темпеПри использовании особомелкоэериистых ратуре 40 С, 50 С и 60 С в течение 10 — 14 ч. галогенидосеребряных фотопластин со средним Затем производили их охлаждение в эксикатораэмером зерен 0,05 мкм и So = 0,04 ед, ре и обработку в метол — гидрохиноновом

ГОСТа с толщиной эмульсионного слоя 6 мкм проявителе в течение 5 мин в стандартных и противоореольнь1м слоем экспонирование условиях. Отфиксированные материалы после проводили в сенситометре ФСР— 41 (выдержка сушки контролировали на денситометре ДФЭ вЂ” 10.

30 с, расстояние по шкале прибора 515 мм, Полученные оптические плотности приведены экспозиция за первым полем 10240 лк с). 1О в таблице.

Время хранения после экспонирования ч

L Г

Рабочая плотность

И при мера

1 1 3 1 6

12 24

1,5 1,5

1,3 1,3

1,0 1,0

1,5

1,5

1,5

1,3

1,3

1,3

1,3

1,0

1,0

1,0

1,5

1,5

1,5

1,5

1,5

1,3 1,3

1,0 1,0

1,3

1,3

1,3

1,0

1,0

1,0

1,0

1,5

1,5 1,5

1,5

1,5

1,5

1;3

1,3

1,3 1,3

1,3

1,3

1,0

1,0

1,0

1,0

10.1,0

Предлагаемый способ позволяет устранить влияние регрессии скрытого фотографического 4о изображения íà получаемые величины оптических плотностей и позволяет использовать особомелкозернистые материалы для микроэлектроники.

we, тепловую обработку н фиксирование, о тл и ч а ю шийся тем, что, с целью устранения влияния регрессии скрьгтого фотографического изображения на получаемые величины оптических плотностей, тепловую обработку производят перед проявлением при темперао туре 40 — 60 С в течение 10-14 ч.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. К. Миз. Теория фотографического процесса. М., Гостехиэдат, 1949, с. 211 — 382.

2. Авторское свидетельство СССР У 197397, кл. G 03 С 5/26, опубли. 3105.67 (прототип).

Формула изобретения. Способ проявления экспонированных черно-белых особомелкозернистых фотоматериа- 50 лов с фоточувствительным галогенидосеребряиым слоем, включающий химическое проявлеВНИИПИ Заказ 6609/42 Тираж 506 Подписное

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4