Способ изготовления фотошаблонов растровых мер

Способ изготовления фотошаблонов растровых мер

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

А. А, Баракаускас, Л. И. Герберене, Эу;А,, Даукша и А. Т. Ушинскас

4

Вильнюсский филиал Экспериментального научно- =" -. = 1 исследовательского института металлорежущих станков (72) Авторы изобретения (73) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНОВ РАСТРОВЫХ МЕР

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано преимущественно в производстве, занятом изготовлением высокоточных растровых мер.

Известен способ изготовления фото5 шаблонов растровых мер, заключающийся в том, что нарезают на делительной машине по металлизированному покрытию матрицу, которую используют эа10 тем в качестве фотошаблона для изго-. товления рабочих растровых мер методом контактной фотопечати D3.

Недостатками этого способа являются .сравнительно низкая точность из35 готовления фотошабло нов, обусловленная кинематическими погрешностями делительной машины, а также малый срок службы фотошаблонов, обусловленный хрупкостью растровой дорожки, нарезанной по металлизированному покрыTHIO °

Ф

Наиболее близким по технической сущности к данному изобретению является способ изготовления фотошаблонов растровых мер, закпючакщийся в том, что заготовку, фотошаблона и матрицу устанавливают с равномерным зазором друг относительно друга и экспонируют заготовку со стороны матрицы коллимированным пучком света 2).

Недостатком данного способа является сравнительно низкая точность изготовления фотошаблонов, обусловленная тем, что все погрешности матI рицы переносятся на изготавливаемый фотошаблон.

Цель изобретения — повышение точности изготовления фотошаблонов растровых мер.

Цель достигается тем, что экспонирование заготовки осуществляют участками, а угол падения<Ц„. коллимированного пучка света на t-ый участок матрицы устанавливают равным асс я (+ tgd;).

Ki где с „ — угол падения пучка на первый участок матрицы;

872952

Составитель О. Фомин

Редактор Л. Копецкая Техред И .Ъадь Корректор М. Коста

Заказ 9013/62 Тираж 645 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал 111III. ".Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

К. — накопленная погрешность i-ro

% участка матрицы;

t — величина зазора, Сущность способа заключается в следующем. 5

Всю матрицу разбивают на некоторое количество участков, измеряют среднюю величину накопленной погрешности К на каждом i-ом участке матрицы, считая среднюю накопленную пог- 1ь решность К первого участка равной нулю. Затем устанавливают матрицу и .заготовку с некоторым зазором t друг относительно друга. Экспонирование эат готовки осуществляют коллимированным пучком света со стороны матрицы, начиная с первого участка. При этом угол падения пучка света на первый участок матрицы устанавлиют равным с1g. Затем последовательно экспонируют остальные 20 участки матрицы, устанавливая угол падения < колимированного пучка света на каждый 1"ый участок матрицы равным величине

41 arctg (- -+ tg d.„ ). (1) 25.

При этом накопленные ошибки i-го участка фотошаблона меньше накопленных ошибок 1-го участка матрицы на величину К (среднюю величину накопленной погрешности i-го. участка матрицы), 30

Когда ф „О, т.е. когда экспонирование заготовки на первом участке осуществляется пучком, падающим по нормалям к матрице, выражение для угла падения пучка света а(.„ на i-ый участок матрицы упрощается и принимает вид

<л а гс 9 -- -

Таким образом, экспонирование заготовкии участками с изменением угла падения коллимированного пучка света на 1-ый участок матрицы в соответствии с выражением (1) позволяет повы- . сить точность изготовления фотошаблонов растровых мер.

Формула изобретения

Способ изготовления фотошаблонов растровых мер, заключающийся в том, что эаготову фотошаблона и матрицу устанавливают с равномерным зазором друг относительно друга н экспонируют заготовку со стороны матрицы коллимированным пучком света, о т л и ч а юшийся тем, что, с целью повышения точности изготовления фотошаблонов, экспонирование заготовки осуществляют участками, а угол падения с1,„ коллимированного пучка света на 1"ый участок матрицы устанавливают равным

Ц

3,;= arctg(+ tg*„), где 6. - угол падения пучка на первый участок матрицы;

К„.- накопленная погрешность i-ro участка матрицы;

t - величина зазора.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Фотоэлектрические преобразователи информации. Под.ред. Л.Н.Преснухина. М., "Машиностроение", 1974, с. 316-320.

2. Введение в фотолитографию. Под ред. В. П. Лаврищева. М., "сергия", 1977, с. 184 (прототип) .