Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕИИЯ

Н АВТОРСНОМУ СВМДСТЕЯЬСТВУ

Союз Советски к

Соцналистнческии республик

<1907085 (6l ) ???????????????????????????? ?? ??????. ????????-????????” (22)???????????????? 09.11.78 (21) 2681776>

С 23 С 13/12,.

РжударатаеииыИ канитет ссаа аа делен изобретений и открытий

Опубликовано 23.02,82. Ьвллетень М 7

Дата опубликования описания 23 ° 02 ° 82 (З) ЛК 621.793. .14(088.81 (72) Авторы изобретения

В.Х.Тесленко, В.А.Коноводченко, Т.Д. ВыстроЪа", Н.П.Аргудяев и Н.Т.Коваленко (71) Заявитель

Физико-технический институт низких темпера1гур

АН Украинской CCP (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ

В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к нанесению покрытий и тонких пленок в вакууме и может быть использовано в электронной, радиотехнической промышленности и других областях науки и техники.

Известны устройства для нанесения покрытий и тонких пленок с пог. ч мощью резнстивных испарителей (1 ).

Однако вследствие отсутствия заряженных частиц покрытие обладает низкими адгезионнымн свойствами.

Наиболее близким к предлагаемому является устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее резистивный испаритель, подложкодержатель и ускоряющий электрод, размещенный между испгрителем и подложкодержателем и соединенный с положительным полюсом источника постоянного напряжения (2).

Недостатком известного устройства является низкая степень ионизации испаряемого вещества, обуславливающая невысокие адгезионные свойства получаемых покрытий, что снижает качество покрытий.

Цель изобретения — улучшение качества покрытий.

Цель достигается тем,что устройS ство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее резистивный испари" тель, подложкодержатель и ускоряющий электрод, размещенный между испари"

10 телем и подложкодержателем и соединенный с положительным полюсом источника постоянного напряжения, снабжено источником переменного напряжения, а ускоряющий электрод выполнен

15 в виде двух полуколец, подсоединенных к дополнительному источнику переменного напряжения, причем резистивный испаритель снабжен экраном с отверстием, расположенным соосно

20 полукольцам ускоряющего электрода.

На чертеже схематично изображено предлагаемое устройство.

Устро ство состоит из резистивного испарителя 1 с испаряемым мате907085

3 риалом 2, подложкодержателя 3 и ускоряющего электрода, соединенного с положительным полюсом источника

4 постоянного напряжения и выполненного в виде двух полуколец 5 и б,. подсоединенных к дополнительному источнику 7 переменного напряжения.

Испаритель снабжен экраном 8 с отверстием 9, расположенным соосно полукольцам 5 и 6 ускоряющего элект- 1я рода.

Устройство для нанесения покрытий работает следующим образом.

После достижения разрежейия ниже 10 Па в технологическом объеме, где размещено устройство, осуществляется разогрев резистивного испарителя l,который является источником паров наносимого материала 2 и электронов. Поток пара испаряемого материала коллимируется экраном 8, а электроны с энергией, определяемой напряжением источника 4, движутся в сторону ускоряющего электрода, состоящего из двух полуколец 5 и 6.

С помощью источника переменного напряжения, подключенного к полукольцам 5 и 6, осуществляется периодическая ионизация паров наносимого материала. Образующиеся ионы вместе с нейтральными атомами испаряющегося материала конденсируются на подложкедержателе 3 ° Взаимодействие заряженных частиц с конденсатом оказывает сильное влияние на про3$ цессы зарождения и роста пленок и покрытий, Сплошность пленок наступает при гораздо меньших толщинах, чем при термическом испарении в вакууме. Облучение потока конденсируемого пара потоком заряженных частиц, количество которых регулируется изменением ускоряющего напряжения,повышает адгезионные свойства покрытий и улучшает их качество. формула изобретения

Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее резистивный испаритель, подложкодержатеЛь и ускоряющий электрод, размещенный между испарителем и подложкодержателем и соединенный с положительным полюсом источника постоянного напряжения, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью улучшения качества покрытий, устройство снабжено источни-! ком переменного напряжения, а ускоряющий электрод выполнен в виде двух полуколец, подсоединенных к дополнительному источнику переменного напряжения, причем резистивный испаритель снабжен экраном с отверстием, расположенным соосно полукольцам ускоряющего электрода.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

Технология тонких пленок. Справочник. Под ред. Л.Иайссела и р.1 лэнга. M., "Советское радио", 1977, с. 56;

2. Симс P,À. Ионное покрытие-процесс и его применение, Перевод ГПНТБ

Р 77/42634, 1977 (прототип).

ВНИИПИ Заказ 523/35 Тираж 1049 Подписное филиал ППП Патент, r. Ужгород, ул. Проектная,