Композиция защитного слоя фотографического материала

Композиция защитного слоя фотографического материала

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

Союз Советск из

Социаписткческкк

Респубпкк

ОП ИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

< 934438 (6I ) Дополнительное к авт. свнд-ву (22) Заявлено 23. 11. 79 (21) 2843207/23-04 с присоединением заявки РЙ (23) П риоритет

Опубликовано 07.06.82 ° Бюллетень М 21

«glата опубликования описания 07.06 (5! )М. Кл.

С 03 С 1/çã

6)оудорстеенные комитет

СССР

da денем изобретений н открытий (53) УДК 771.5 (088. 8) (72) Авторы изобретения

В.К.Ефимов, Н.Е.Трифонова, Л.В.Никонова и (7l ) Заявитель

Переславский химический завод (54) КОИПОЗИЦИЯ ЗАЩИТНОГО СЛОЯ ФОТОГРАФИЧЕСКОГО

MATEРИАЛА

Изобретение îfíîñèòñÿ к изгoToB лению фотографических материалов и может найти применение при получении этих материалов с матовой поверхностью.

Известна композиция защитного слоя фотографического материала, включающая желатину, полиалкилмет— акрилат, например, полибутилметакрилат и антистатик — производное морфолина (1), Указанная композиция наносится на эмульсионный слой фотоматериалов из водного раствора.

Недостатком указанной композиции является то, что при использовании ее для изготовления документальных фотобумаг получаемое на таких фотобумагах изображение обладает неудовлетворительно высоким лоском и низкой максимальной оптической плотностью.

Цель изобретения — снижение лоска и повышение максимальной оптической плотности изображения.

Поставленная цель достигается тем, что композиция защитного слоя фотографического материала, включающая желатину и полиалкилметакрилат, дополнительно содержит щелочную соль сульфата целлюлозы или щелочную соль сополимера стирола с малеиновым ангидридом общей формулы

СН СН вЂ” С11-СЦ ! 1

СООИ СООТГ С Н5 где М=йа или К

n=600-1000, при следующем соотношении компонентов г/г желатины:

Полиалкилметакрилат 1,5-2,0

Указанная щелочная соль 0,05-0,1

Предлагаемая композиция содержит выпускаемые промышленностью соединения. В качестве полйалкилметакри3 93 лата она может содержать полиметилметакрилат или полибутилметакрилат, или их смесь в соотношении 1: l.

Так, например, паста полиметилметакрилата выпускается по ТУ 6-17372 П-77, натриевая соль сополи\ мера стирола с малеиновым ангидридом выпускается по ТУ 6-17-374 H-77.

П р и .и е р 1. Композицию для защитного слоя готовят следующим образом: готовят водный раствор желатины — в течение 30 мин набухание желатины при комнатной температуре, затем ее растворяют при 40-45оС, отдельно готовят 10Х-ную водную суспензию попиметилметакрилата.

Полиметилметакрилат вводят в состав композиции для защитного слоя в количестве 1,5 r/ã желатины. Оба раствора смешивают при 40-45оС, затем диспергируют в течение 2-3 мин и вводят студнеобразователь — натриевую соль сульфата целлюлозы в количестве 0,05 r/ã желатины в виде 47-но го водного раствора. Полученную дисперсию фильтруют и наносят на светочувстгительный спой одним из известных методов полива, например, экструзионным, с последующим атуденением и сушкой фотографического материала.

Композиция для защитного слоя может храниться до момента использования при +2 -7оС в течение 10 сут.

Пример 2. Композицию для защитного слоя готовят и наносят на светочувствительный слой аналогич- но примеру 1, только в состав композиции вводят полибутилметакрилат в количестве 1,75 г/г желатины и студнеобразоватепь — натриевую соль суль фата целлюпозы в количестве 0,075 r/r желатины.

П р и и е р 3. Композицию для защитного слоя готовят и наносят на светочувствительный слой аналогичО,О!

0,01

0,01 1,42

О

0,02

1,45

0,01-1,00 1,47

1,45

0,01

0,01

4438 4 но примеру 1 и 2, только в состав композиции вводят полибутилметакрилат + полиметилметакрилат в соотношении 1:1 в количестве 2 г/r желатины и студнеобразователь — калиевую соль сульфата целлюлозы в количестве 0, г/г жепатины.

Пример 4 ° Композицию для защитного сЛоя готовят и наносят на щ светочувствительный слой аналогично примеру 1-3, только в состав композиции вводят полиметилметакрилат в количестве 1,5 г/г желатины и студнеобраэователь — натриевую соль сополимера стирола с малеиновым ангидридом в количестве 0,05 г/г желатины.

Hp и и е р 5. Композицию для защитиога слоя готовят и наносят о на светочувствительный слой аналогично примеру I-4, только в состав композиции вводят попиметилметакрилат в количестве 1,75 r/r желатины и студнеобразователь — калиевую соль сополимера стирола с мапеиновым ангидридом в количестве 0,075 r/ã желатины.

П р и и е р б. Композицию для защитного слоя готовят и наносят на светочувствительный слой аналогично примеру 1-5, только в состав композиции вводят полибутилметакрилат в количестве 2 r/г желатины и студнеобразователь - натриевую соль сополимера стирола с малеиновым ангид3S ридом в количестве 0,1 г/г желатины.

Пример 7 (по Г1 ) . Композицию для защитного слоя готовят и наносят на светочувствительный слой аналогично примеру 1-6, только в сос— 4© тав композиции вводят полибутилметакрилат в количестве 0,05 г/r желатины и антистатик - гидрохлорид морфолина в количестве 1,5 г/r желатцны.

Сравнительные данные примеров све цены в таблицу.

934438 6

Продолжение таблицы

6 0,02 1,45

7 (по (Ц) О 25 1 40

0,01

Формула изобретения

Составитель А. Круглов

Редактор Е.Папп Техред N.Надь Корректор О.Билак

Заказ 3933 43 Тираж 488 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Прототип изготовлен и испытан на заводе в центральной заводской лаборатории. б

Из таблицы видно, что предлага- максимальной оптической плотности емая композиция для защитного слоя иэображения, она дополнительно софотографического материала позвопя- держит щелочную соль сульфата целет снизить лоск и повысить макси- 15 люлозы или щелочную соль сополимера мальную оптическую плотность изоб- стирола с маленковым ангидридом ражения, получить глубокоматирован- общей формулы

I ную документную фотобумагу. Сн Ся Сн ен

Предлагаемая композиция для за-! и щитного слоя фотографического мате- 20 б 5 риала может быть использована для где M - Йа+ или К получения фотографических матери- л=600- !000, алов с матовой поверхностью. при следующем соотношении компонентов, r/ã желатины: у Полиалкилметакрилат !,5-2,0

Указанная щелочная сонь 0,05-0,1

Композиция защитного слоя фото- Источники информации, графического материала, включающая принятые во внимание при. экспертизе желатину и полиалкилметакрилат, Зо l. Авторское свидетельство СССР отличающаяся тем, что по заявке Ф 2733235/23-04, с целью снижения лоска и повышения кл. G 03 С 1/82, 2601, 79 (прототип),