Способ очистки внутренней поверхности труб
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Союз Советскни
Социалистических
Республик
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 10.07 78 (21) 2642884/29-12 с присоелинением заявки М (23) Приоритет
Опубликовано 15. 06 ° 82 Бюллетень М 22
Дата опубликования описания 15 . 06. 82 (51)М. Кл.
F 28 G 7/00//, В 08 В 9/04
Гапударстваииый коиитвт
СССР по аелаи изабретеиий и открытий (53) УДК 621.646 °.978(088. 8) (72) Авторы изобретения
В.М.Дунаевский и Л.М.Дунаевский (7I) Заявитель (54) СПОСОБ ОЧИСТКИ ВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ
ТРУБ
Изобретение относится к технике очистки внутренней поверхности труб от отложений и может быть использовано при очистке труб в химической, нефтяной и теплоэнергетической промышленностях, а также водопроводной и канализационной сетях.
Известен способ очистки внутренней поверхности труб путем воздействия на ее стенки импульсами давления воспламеняемого взрывчатого вещества (1j.
Недостатком известного способа является постепенное снижение ударного импульса при распространении взрывной волны вдоль стенок трубы от одного из ее концов, где размещено твердое взрывчатое вещество.
:Целью изобретения является интенсификация процесса очистки, Указанная цель достигается тем, что согласно способу очистки внутренней поверхности труб путем воздействия на стенки очищаемой трубы импульсами давления воспламеняемого взрывчатого вещества, очищаемую трубу заполняют взрывчатым веществом, а в качестве последнего используют смесь детонирующих газов.
В результате известного эффектаускоренного самопроизвольного перехода в длинных шероховатых трубах медленного горения в детонациюимпульс давления возникает вскоре то после воспламенения и при этом, распространяясь с постоянной скоростью и давлением вдоль очищаемой трубы на сколь угодно длинном пути, не ослабевает с расстоянием, так как
1S по мере продвижения ударной волны в процессе горения постоянно вовлекаются все новые порции смеси детонирующих газов.
Кроме того, существенным фактором, интенсифицирующим процесс очистки внутренней поверхности труб, является образование дополнительной ретопозионной волны внутри трубы в мес935697 4 кроме того, интенсифицируется процесс очистки труб без ограничения их длины. те возникновения детонации, резко повышающей давление в импульсе. Регулировать давление в трубе можно, изменяя состав детонирующих газов, а также помещая на пути движения S импульса давления заслонки диафрагмы, в результате чего можно добиваться пяти-шестикратного увеличения давления.
Предложенный способ позволяет to использовать также самопроизвольное увеличение импульсов давления вследствие отражения их от выступов за-! грязнений и тем самым активнее воздействовать на наиболее загрязненные 1s участки.
Формула изобретения
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе щ 1. Авторское свидетельство СССР
N 709200, кл. B 08 В 9/04, 1972 °
Составитель В.Датько
Техред 3.фанта
Редактор С.Тимохина
Корректор И.Муска
Заказ 4189/39 Тираж 685 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, N-35, Раушская наб., д. 4/5 филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4
Использование предлагаемого способа позволяет упростить технологию очистки труб, не требует сложных устройств для его осуществления, Способ очистки внутренней поверхности труб путем воздействия на стенки. трубы импульсами давления воспламеняемого взрывчатого вещества, отличающийся тем, что, с целью интенсификации. процесса очистки, очищаемую трубу заполняют взрывчатым веществом, а;,в качестве последнего используют смесь детонирующих газов.