Способ записи информации на фототермопластическом материале

Способ записи информации на фототермопластическом материале

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

Союз Советских

Социалистических

Республик

) г

Ф.

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 24.10. 80 (21) 3223133/28-12 (51) Ah Hn. с присоединением заявки. ¹

G 03 G 65/00

Государственный комитет

СССР по делам изобретений и открытий (23) Приоритет

Опубликовано 15,09.82 Бюллетень №34

Дата опубликования. описания 15. 09, 82

tS ) УДК771.5 (088. 8) (72) Авторы изобретения

П.А.Кондратенко и Л.Я.Танцюра (71) Заявитель

Киевский ордена Ленина государственны у р им. Т.Г.Шевченко (54) СПОСОБ ЗАПИСИ ИНФОРМАЦИИ НА ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКОМ

МАТЕРИАЛЕ

Изобретение относится к регистрации информации, а именно к способу записи информации на фототермопластическом материале (ФТПМ).

Известен способ записи информации на фототермопластическом материале (ФТПМ), в котором скрытое изображение создается в результате фотосенсибилизированного окисления абиетиновой кислоты в термопластической полимерной матрице при экспонировании видимым светом. Проявление скрытого иэображения осуществляется погружением экспонированного ФТПМ в петролейный эфир 1.11.

При таком способе записи квантовый выход фотосенсибилизированного окисления не превышает 0,13 для свежеприготовленного ФТМП и падает по мере хранения последнего из-за увеличения содержания продуктов окисления абиетиновой кислоты, что приводит к понижению чувствительности

ФТПМ. Кроме того, значительно возрастает время проявления скрытого иэображения (от 1-2 мин для свежеприготовленного ФТПМ до нескольких часов для ФТПМ, экспонированного на

8-10 день его хранения), т.е. при таком способе записи можно ра5отать г только на свежеприготонленном

ФТПМ.

Наиболее блиЭким к предлагаемому является способ записи информации на ФТПМ, в котором скрытое изображение формируется в результате фотосенсибилизированного окисления эргосте- . рина в термопластической полимерной матрице, протекающего при экспонировании ФТПМ видимым светом при ком-. натной температуре. Проявление скрытого изображения осуществляется .нагревом экспонированного ФТПМ до .температуры размягчения полимерной матрицы или в растворителях, например петролейном эфире (2). Чувствительность ФТПМ ограничена квантовым выходом фотосенсибилиэированного окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице. Для повышения чувствительности ФТПМ необкодимо увеличить квантовый выход фотоокисления.

Однако известный способ записи не позволяет получить квантовый выход фотоокисления эргостерина для оптимального соотношения компонентов более 25%.

Целью изобретения является повышение качества записи на ФТНМ за счет

959024 увеличения квантового выхода фотосенсибилизированного окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице.

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу записи 5 информации, в кУпоч ающему эк сп он иров ание фототермопластического, материала на основе винилового сополимера, эргостерина и сенсибилизатора видимым светом и проявление, экспонирование ведут при температуре на 2-10 выше

Температуры стеклования винилового аополимера.

При экспонировании ФТПМ видимым светом, поглощаемым сенсибилиэатором, 15

ЛРотекает реакция фотосенсибилизирс>ванного окисления эргостерина.

ПРи этом наблюдаются необратимые

Изменения в области собственного поГлощения эргостерина (УФ область

Спектра),.а именно понижается оптиЧеская плотность. Квантовый выход фотоокисления зависит от скорости изменения оптической плотности в области собственного поглощения эргостерина. 25 . Способ поясняется чертежом, где кривой 1 представлено изменение оптической плотности ФТПМ в максимуме поглощения эргостерина при Х = — 271 нм при сенсибилизированном метиленовым голубым окислении эргостерина в термопластической полимерной матрице от температуры, при которой ведется экспонирование. П оптическая плотность необлученного 35 образца при = 271 нм. Экспонирование проводится лампой ПРК-4 через стеклянный светофильтр ОС-11. Время экспонирования 1 мин, I = 10 вт/см

Темновое.разложение эргостерина в 40 исследуемом интервале температур незначительно (кривая 2) . Как видно из кривой 1, фотокисление идет наиболее интенсивно, если экспонирование проводить при T > T . Для исполь- ,эуемого в качестве матрицы термопластического полимера (сополимер винилбутилового эфира, бутилметакрилата и метакриловой кислоты) Т 57 С.

Из-за малой подвижности полимерной матрицы в стеклообраэном состоянии диффузия реагентов затруднена. При

Т Т энергия теплового движения возрастает настолько, что возникает воэможность движения отдельных сегментов молекул полимера. Увеличение подвижности матрицы приводит к ускорению диффузии реагентов и возрастанию скорости фотоокисления.

Предпочтительный интервал температур для экспонирования ФТПМ выше 60

Тс на 2-10 С. При дальнейшем повышенйи температуры скорость фотоокислеЭргостерин

Метиленовый голубой

Сополимер

Растворитель

1,0

0 5

10,0

Остальное

Экспонирование осуществляют монохроматическим светом г. = 630 нм.

Пять образцов экспонируют при t

На спектрофотометре измеряют изменение оптической плотности при

271 нм в результате фотосенсибилизированного метиленовым голубым окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице и определяют квантовый выход процесса, В табл. 1 представлено влияние температуры экспонирования на квантОвый выход сенсибилизированного метиленовым голубым окисления эргостерина в различных термопластических матрицах.

Как видно из табл. 1, экспонирование ФТПМ по предлагаемому способу приводит к возрастанию квантового выхода фотосенсибилизированного окисления эргостерина.

В табл. 2 приведены значения чувствительности ФТПМ при экспонировании известным и предлагаемыми способами.

Использование предлагаемого способа записи информации по сравнению с известным позволяет увеличить чувствительность ФТПМ за счет увеличения более чем вдвое квантового выхода фотосенсибилизированного окисления эргостерина в термопластической полимерной матрице, расширить температурные границы применения ФТПМ путем подбора термопластического полимера с ТС в интересующем интервале температур. ния не меняется, но несколько возрастает темповое разложение зргостерина.

Пример. Приготовление образцов ФТПМ осуществляется следующим образом, В 5,0% толуольный раствор сополимера винилбутилового эфира, бутилметакрилата и метакриловой кислоты (1:1,5:5 в молях) вводят рассчитанное количество эргостерина и сенсибилизатора (метиленовый голубой) . Полученный раствор наносят на кварцевую подложку в количестве, определяемом поверхностью подложки и толщиной слоя (5-6 мк) . Затем образцы сушат при комнатной температуре 10 мин и в сушильном шкафу 1 ч при 80 С.

Изготовлена партия образца ФТПМ (1Q шт.) co следующим содержанием компонентов, вес.Ъ:

959024 Т а б л и ц а

Способ

Предлагаемый

Известный

С1 кс

T 3,% Т „ „, С 3 Ь

42

43

24

52

50

23

46

23

25

40

20 20

41

20,Таблица 2

Т, ОС зког

Чувствительность на 3.= 632,8 нм при 1 = 1Ъ, Дж/см

Сополимер винилбутилового эфира, бу- 20 тилметакрилата и метакриловой кислоты (1:1,5:5 в молях), T = 57 гС 59

67

10 — 3

2 10 67

2 10

2.10

75.

75

Термопластическая матрица

Сополимер винилбутилового эфира бутилметакрилата и метакриловой кислоты (1:1,5г5 в молях), T©

57 С

Сополимер винилиденхлорида, акрилонитрила и метилметакрилата (1:1,5:5 B молях), Т 65 С

Сополимер винилбутилового эфира и бутилметакрилата (1:2 в молях), T = 73 С

Термопластическая матрица

Сополимер винилиденхлорида, .акрилонитрила и метилметакрилата (1:1,5:5 в молях), Т = 65 С

Сополимер винилбутилового эфира и бутилглетакрилата (1:2 в молях), Tс = 73 С

5-10

1,5 ° 10

1,5 ° 10

1,5 ° 10

6-10

2-10

2 10

959024

Формула изобретения

Составитель Л.Мальцева

Техред Т.фанта, Корректор E.Pîøêo

Редактор Л.Авраменко

Заказ 7013/63 Тираж 488 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4

Способ записи информации на фототермопластическом материале, включающий экспонирование фототермопластического материала на основе винилового сополимера, эргостерина и сен- . сибилиэатора видимым светом ипроявление,о т л и ч аю щи и с я тем,что, с целью повышения качества записи, экспонирование ведут при температуре на 2-10 С выше температуры стеклования винилового сополимера.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство СССР

9424499, кл, G 03 С 1/00, 1973.

2. Авторское свидетельство СССР

У594478, кл. G 03 с 1/00, 1975 (прототип),