Способ изготовления пленочных резисторов печатных схем
Иллюстрации
Показать всеРеферат
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Союз Советских
Социалистических
Республик («)961169 ("9 ,!(=(61) Дополнительное к авт, свид-ву (22) Заявлено 06. 01. 81 (21) 3233028/18-21
Н 05 К 3/00 с присоединением заявки Мо (23) Приоритет
Государственный комитет
СССР по делам изобретений н открытий
1Я3) УДК 621. 396. .6. 049 (088. 8) Опубликовано 2309.82. Бюллетень Мо.35
Дата опубликования описания 23.09.82 (72) Авторы изобретения
ВСЕСМИЩЕ
26 ЕЙТН01ЯИ Н 1Ю
Л.Г.Лебедев и Г.С.Хижа (71) Заявитель (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ
РЕЗИСТОРОВ ПЕЧАТНЫХ СХЕМ
Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к способам
-изготовления пленочных резисторов °
Известен способ изготовления пленочных резисторов печатных схем, включающий создание на диэлектрической подложке полосков с реэистивным и проводящим слоями и слоем формирования контактных площадок и резисторов соответствующей конфигурации, причем подгонку сопротивления резисторов осуществляют анодным окислением проводящего слоя.
Способ позволяет получить резисторы с точным значением сопротивления (1).
Однако этот способ не может исключить влияния отклонения удельного сопротивления резистивной пленки от заданного значения и чистоты обработки поверхности на точность изготовления резисторов. Кроме того, он влечет за собой применение сложного технологического процесса окисления.
Наиболее близким к изобретению является способ изготовления пленочных резисторов печатных схем, включающий последовательное нанесение на диэлектрическую подложку резистивного и проводящего слоев, получе-. ние в. них полосков и формирование контактных площадок, с резистивной пленкой между ними, методом фотолитографии с последующей электрохимической подгонкой резисторов и измерением величины сопротивления полученного резистора, Известный способ повышает процент выхода годных печатных плат впоследствие индивидуальной подгонки ве- . личины сопротивления резисторов (2 ).
Однако известному способу присущи недостатки указанного выше и под гонка возможна только в сторону увеличения сопротивления. Кроме того, введение операции поочередной электрохимической подгснки резистора и измерения величины его сопфотивления20,очень сложный технологический процесс.
Ф
Цель изобретения — повышение точности изготовления пленочных резисторов и упрощение технологии их изготовления.
25 Поставлеьная цель достигается тем, что согласно способу изготовления пленочных резисторов, включающему последовательное нанесение на диэлектрическую подложку реэистивного и проводящего слоев, получение
961169 в них полосков и формирование контактных площадок и резисторов методом фотолитографии, формирование резисторов проводят путем дискретного удаления проводящего слоя на чередующихся участках одинаковой длины, измерения промежуточного значения величины изготовленной части резисторов и формирования недостающей части каждого резистора повторным удалением проводящего слоя на участках длиной ьд - 3„(— 1), (1) где ЬХ вЂ” удаленная часть проводящего слоя;
aR> — измеренная. величина изготовленной части резистораJ
Х вЂ” длина дискретных частей с удаленным проводящим слоем на полосках;
R — требуемая величина сопротинления N-ro резистора, причем получение полосков осуществляют в соответствии с соотношением — — const Ð, . (2) L g
Н, м где LN - длина части полоскав, используемая для формирования реэистивной пленки между контактными площадками N-го резисторар
Ю - 2 + Ю,, где Х 1 — длина полоска между дискрет ными частями резистора, 0 < const < 1;
S - ширина N-ro резистора, а дискретное удаление проводящего слоя на чередующихся участках одинаковой длины осуществляют в соответст вии с соотношениями
const пм н. м
< м Ss (4) пл1 Р лакс
Х ) ЕМ SN Х (5)
ПН УМИи где п — количество дискретных чисел
N-го рвзистора;
У мин отклонение величины удельр ного сопротивления резисмс кс тинного слоя. формирование пленочных резисторов с чередующимися участками в соответствии. с соотношениями (3) -(5) позволяет на первом этапе фотолитографии изготовить каждый резистор частично в ниде одинаковой относительной части, а затем по результатам промежуточного измерения изготовить недостаточную часть также с одинаковой относительной величиной. Таким образом исключается влияние веяичины удельного сопротивления на техно- логический процесс, а следовательно, не имеют значения и причины, вызывающие его отклонрние.
На фиг. 1 показана печатная пла5 та с ; на фиг. 2 — фотошаблон на фиг. 3 — печатная плата с резисторами, величина которых составляет часть заданного значения; на фиг. 4 — разрез A-A на фиг, 3; на
1О фиг. 5 — печатная плата при повторной фотолитографии со смещенным фотошаблоном по оси Х, на фиг. 6 то же, со смещенным фотошаблоном по оси Y.
Печатная плата (фиг.1) содержит диэлектрическую подложку 1 и полоски .2-4. Фотошаблон (фиг.2) содержит .элементы, определяющие, топологию резисторов, в виде дискретных частей 5-15 с одинаковым значением 3,, определяющим длину дискретной части резистора, и расстоянием между ними Р 1. Фотошаблон выполнен на стеклянной подложке 16. Печатная плата (фиг.3) изготовлена с использованием данного фотошаблона и содержит диэлектрическую подложку 17, резисторы 18-20, величина сопротивлений которых составляет часть заданного значения, -выполненные в виде дискретных частей 21-31 с проводящими площадками 32-45, Печатная плата (фиг.4) содержит диэлектрическую подложку 17, резистивные слои 46 и 47 и проводящие площадки 32-40, Печ:атная плата (фиг.5) содержит на подложке 17 резисторы 18-20 с дискретными частями 21-31 и 48-54.
Печатная плата (фиг.б) содержит
40 на подлбжке 17 резисторы 18-20 с дискретными частями 21-31, 48-58.
Полоски 2-4 на плате формируют в виде реэистивного и проводящего слоев согласно соотношению (2) . Часть полоска 2, предназначенная для изготовления резистинной пленки резистора между контактными площадками, имеет длину Е и ширину Я
Части полосков 3 и 4, предназначен.ные для изготовления реэистинных пленок резисторов между контактными площадками имеют, соответственно, длину Lg L4 и ширину S ю $4 °
Используя фотошаблон на полосках
2-4 печатной платы, осуществляют дискретное удаление у них проводящего покрытия методом фотолитографии на чередующихся участках одинаконой длины 21-31 (фиг. 3 и 4). При этом получают дискретные части резистора
21-31 с парными проводящими контактными площадками 32-45 на резисторном слое 46-47. Полученные дискретные части резистора с проводящими площадками и соответственные элементы
65 5-15 фотошаблона, определяющие то1
961169 — + 0,02, т.е. и
0,4167 0,2083 мм. — 0,725 мм;
Определяемые параметры
3 адан ные параметры параметры полосков
$, мм п
L| мм
Rg й1 пологию дискретных частей резисторов, формируют согласно соотношениям (2)-(5) . Затем проводят промежуточное измерение величины изготовленной части резистора, например резистора 18, по контактным площадкам 32 и 39 ° Смещают фотошаблон по оси Х и повторным удалением проводящего слоя путем селективной фотолитографии полосков, по длине совпадающих с осью Х, на участках длиной ь 2, согласно соотношению (1) формируют недостаточную часть каждого резистора в виде дискретных частей 48-54 (фиг.5) .
Смецают фотошаблоны по оси Y u на плате повторным удалением проводящего слоя путем селективной, фотолитографии полосков, по длине совпадаюцих с осью Y на участках одинаковой длины ьР согласно соотношению (1) формируют недостаточную часть каждого резистора в виде дискретных частей 55-58 (фиг.6). (Полученная плата (фиг.6) содержит резисторы с заданной величиной сопротивления. Резистор 18 .имеет ширину реэистивной пЛенки Б и контактные площадки 32 и 39.
Резистор 19 имеет ширину резистивной пленки S и контактные площадки
40 и 43. Резистор 20 имеет ширину резистивной пленки 54 и контактные площадки 44 и 45.
Дискретные части 48-58 длиной ьХ получены повторным удалением проводящего слоя, дискретные части 21-31 .получены фотолитографией полосков на чередуюцихся участках одинаковой длины дискретным удалением проводящего покрытия.
Пример. Требуется изготовить печатную плату с резисторами R< — 100 Ом 10Ъ; R g = 200 Ом +10%
R3 = 2500 Ом 10% и т.д.
На подложке с величиной удельного сопротивления резистивной пленки в пределах 9 „= 120 Ом/О, У м ин 80 Ом/и
Согласно соотношению (2), учитывая требования обеспечения оптимального электрического режима,;а также. конструктивные и технологические требования к изготавливаемым резис100 Ом 10% 0,725 0,5 1
200 Ом 10Ъ 0,725 0,5 торам, на диэлектрической подложке фотолитографией по нанесенным резистинному и проводящему слоям формируют полоски. Для резистора RÄ saдаются наименьшим возможным количе5 ством дискретных частей n = 1, определяют ширину полоски (резистора) S 0,5 мм, определяют по.соотношению (3) величину const.
1О const — + = 0,02. м Гм 0.5 ° 00
Для резистора R определяют S>, исходя из конструктивных и технологических требований так, что п1 равня15 ется целому числу пг
20 — д — уя7 О, 02 .
Следовательно, и 1 1; S g = 0,25 мм.
Для резистора R > аналогично
Sg = 02 мм; ng 10.
Используя соотношение (2), нахо25 дят
Для R„„
Й < = 0 4167 н кс
30 Находят 21 йм Ям 100 ° 0 5 ямим
Определяют длины полосков для резистивной пленки между контактными плоцадками изготавливаемых резисто-. ров
40 Ь1 const Х S„C„= const (2„+
+ Х1) Я.;К; 0,02 (0,4167 +
+ 0,2083) О, 5 100 = О, 725 мм;
L2 = const(I „+ 2 ) -S<.R>
0,02 0,725 0,25. 200
L> 0 02 0 725 0 2 2500
50 = 7,25 мм.
Полученные расчетные результаты приведены в таблице, параметры резисторов и фотошаблона
I 1 I I
n> n> Х„, мм 221 мм const
0,4167 0,2083 0,02
0,4167 0,2083 0,02 в
961169
Продолжение Таблицы.
Заданные параметры
Определяемые параметры параметры полоскон
,мм S,Mì й3 = 2500 Ом +103 0,7
0,2 - - 10 0,4167 0,2083 0,02 р м кс = 120 OM/ï р — 80 Ом/o
100 Ом.
С помощью фотолитографии на чередующихся участках одинаковой длины дискретно удаляют проводящие покрытия. Затем проводят измерение величины изготовленной части резистора.
Пусть aR „; — 80 Ом. Следовательно, согласно соотношению (1) повторным удалением проводящего слоя (при смещенном фотошаблоне) путем фотолитографии полосков на участках длиной
bl = Z (к — — 1) 04167 (-Км 100
Ц р 80
1) = 0,1.042 мм формируют недостающую часть каждого резистора в ниде дискретных частей. г Полученные величины сопротивлений резисторов соответствуют заданному значению, что подтверждается ниже следующим LR1 Р -, отсюда
1 р= г- — s„=. - -, = р,ssом)ц, ай 80.0 5
Следовательно, R1- =У95 99 0 4167 + 0 1042 1
0,5
В случае выполнения полосков с с 0,4167 мм и 2 1 ) 0,2083 мм необходимо учесть возможную величину отклонений элементов резистора и внести соответствующую поправку при следующих операциях согласно приведенных соотношений. При этом длина реэистинной пленки между контактными площадками увеличивается соответственно на величину
Ь Хц (Zg - 0,2083) ° и .
Точность изготовления резисторов
Rg 1103 обеспечивается точностью совмещения 10% относительно величины Х„ + ЬХ, Резисторы R R3 и т.д. получают аналогично в едином технологическом процессе.
Изобретение позволяет изготовить групповым способом тонкопленочные ре зисторы с заданной точностью, параметры резисторов и фотошаблона
1 1 1 п2 п 3 ьр 1 мм const
Практическое исключение влияния отклонения величины удельного сопротивления и точности обработки рабочей поверхности подложки от величины оптимального значения, а также исключение влияния равномерно распределенных дефектов (например, диффузия атомов металлов в резистинный слой при нанесении проводящего слоя, ( нытравливание отдельных компонентов реэистинного слоя или недотравлинание.их при селекти ном травлении) на точность изготовления резисторов позволяет изготовить резисторы пе1 чатной платы со стопроцентным выходом годных и упростить технологию изготовления печаиных плат вследствие снижения требонаний к технологическому режиму нанесения резистивной пленки, фотолитографии и точности обработки рабочей поверхности диэлектрической подложки, Исклк>чение операции измерения удельного сопротивления зондоным способом и необходимости дальнейшей
40 подгонки резисторов исключает использование сложной электронной аппаратуры.
Фдрмула изобретения ф5 Способ изготовления пленочных резисторон печатных схем, включающий последонательное нанесение на диэлектрическую подложку реэистинного и проводящего слоев, получение н них полоскон и формирование контактных площадок и реэнсторов методом фотолитографии, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью повышения точности изготовления резисторов и упрощения -технологии их изготовления, формирование резисторов проводят путем дискретнОго удаления проводящего слоя на чередующихся участках одинаковой длины, измерения промежуточного значения величины изготовленной части резисторов и формирования недостающей части каждого резистора повторным удалением проводящего слоя на участках длиной ь2 - Х„(- 1), Rg, вам
961169!
4мг 1 где а У - удаленная часть проводящего слоя;
URN - измеренная величина изготовленной части реэистора1
2 . - длина дискретных частей с удаленным проводящим слоем на полосках, RN - требуемая величина сопротивления N-ro резистора, причем получение полосков осуществляют в соответствии с соотношением в COI15t I
Ьн М и где ЕН вЂ” длина части полосков, используемая для формирования резистивной пленки между контактными площадками N-ro резистора, ю=z +, где 3,1 - длина полоска между дискретными частями резистора, О ° COI15t (1 р
gp - ширина N-го резистора, а дискретное удаление проводящего слоя на чередующихся участках одинаковой длины осуществляют в соответстВии с соотношениями
СОП5С пн и Й
R» 5в,> пу Pwaec пн РvuH где пн количество дискретных частей N-горезистора, р „ ир „ - отклонение величины мин удельного сопротивления реэистинного слоя.
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
20 1. Берри Р., Холл П. и Гаррис М.
Тонкопленочная технология . М., "Энергия", 1972, с. 152-161.
2. Патент Японии 9 47-31897, кл. 59 G 4, опублик. 1972 (прототип).
961169
Ф-Р
52 дд д4 М М 37 дВ И М
0 47 х а
Жа Ю
Составитель В.Милославская
Редактор Г.Безвершенко ТехредЛ.Пекарь Ко ектор A.Ãðèöåíêo рр
Заказ 7322/77 Тираж 862 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП "Патент", г ° Ужгород, ул. Проектная, 4