Устройство для непрерывной отливки полой металлической заготовки

Устройство для непрерывной отливки полой металлической заготовки

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

О П И С А Н И Е ÄÄ9 7322S

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социапистических

Республик (6l ) Дополнительное к авт. синд-ву (22)Заявлено 19.11.80 (21) 3005190/22-02 (51jМ. Кл.

В 22 D 11/14 с присоединением заявки ¹

Гооударствкниык комитет

СССР (2В) Приоритет (53) УДК 621. .74б.27 (088.8) по пепаи изобретений к открытий

Опубликовано 15. 11 ° 82. Бюллетень № 42

Дата опубликования описания 18 .1 1.82

В.А. Коняев, И.Е. Косматенко, A.H. Егоров."

С.И. Боровских, В.M. Федотов и Н.A. Зуба e (."- " ;и

-:Я)Щ ля . (. ;у., / "ГГ тЧРС,(,(0 /д (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ НЕПРЕРЫВНОЙ ОТЛИВКИ

ПОЛОЙ МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ЗАГОТОВКИ

Изобретение относится к литейному производству, .а именно к установкам для непрерывной разливки, и предназначено для применения при получении плакированных трубных заготовок с вытягиванием вверх.

Известно устройство для непрерывной отливки полой металлической заготовки с вытягиванием вверх, содержащее кристаллизатор, затравку и механизм вытягивания (1 ).

Недостатком этого устройства является невозможность получения. в нем плакированной заготовки.

Целью изобретения является получение плакированной заготовки.

Поставленная цель достигается тем, что устройство для непрерывной отливки полой металлической заготовки, содержащее кристаллизатор, затравку и механизм вытягивания, снабжено кольцевым индуктором, который установлен в рабочей полости кристаллиэатора и разделяет ее halo высоте на две сообщающиеся между собой камеры.

При этом индуктор либо примыкает своей боковой поверхностью к боковой поверхности кристаллизатора.

s Индуктор установлен с кольцевым зазором относительно боковой поверхности кристаллизатора.

Установка в рабочей полости кристаллизатора индуктора, который раз40 деляет ее по высоте на две сообщающиеся между собой камеры и примыкает своей боковой поверхностью к боковой поверхности кристаллизатора, позволяет при работе устройства за15 полнять верхнюю камеру металлом, отличающимся по химическому составу от металла, находящегося в нижней камере, и плакировать наружную поверхность заготовки, получаемой на дорне в нижней камере. При этом создаваемое индуктором электромагнитное поле при взаимодействии с жидким металлом, находящимся в верхней

ЗО

Механизм перемещения затравки, системы охлаждения дорна, затравки и элементон крепления индуктора не показаны.

Устройство содержит кристаллиза3.> тор 1 с днищем 2, затравку 3, кольцевой индуктор 4, установленный в рабочей полости кристаллизатора 1 и разделяющий ее на две камеры 5 и 6, и каналы 7 и 8 для подачи металла в

><О камеры 5 и 6 соответственно.

В варианте, изображенном на фиг.1 и 3, индуктор 4 примыкает своей наружной боковой поверхностью 9 к внутренней боковой поверхности 10 кристалg5 лизатора 1 и содержит установленный в днище 2 дорн 11 для формирования внутренней поверхности заготовки.

Центральная полость 12 индуктора 4 обеспечивает-проход затравки 3 в камеру 5 кристаллизатора 1.

В варианте, изображенном на фиг.2 и 4, индуктор 4 образует с. внутренней боковой поверхностью 10 кристаллизатора 1 кольцевой канал 13 для прохода затравки 3 и установлен на трубчатой стойке 14.

При необходимости плакирования наружной поверхности полой заготов50

3 97322 камере, создает силы, обеспечивающие отжатие жидкого металла от боковой (внутренней) поверхности индуктора, что исключает пролив жидкого металла в нижнюю камеру.

Установка индуктора в рабочей полости кристаллизатора с образованием с поверхностью кристаллизатора кольцевого зазора для прохода затравки позволяет плакировать внутреннюю поверхность полой заготовки. При этом создаваемое индуктором электромагнитное поле при взаимодействии с жидким металлом, находящимся в верхней камере, создает силы, обеспечивающие отжатие жидкого металла от боковой (наружной!. поверхности индуктора, что исключает пролив жидкого металла в нижнюю камеру.

На фиг. 1 представлено устройство ;О в варианте, обеспечивающем плакирование нарун<ной поверхности полой заготовки, общий вид; на фиг. 2 — устройство в варианте, обеспечивающем плакирование внутренней поверхности полай заготовки, общий вид; на фиг.3устройство по фиг. 1 в работе; на фиг. 4 — устройство по фиг. 2 в работе, 5 4 ки используют устройство, изображенное на фиг. 1 и 3.

Затравку 3 через полость 12 индуктора 4 вводят в камеру 5 до контакта с боковой поверхностью дорна

11, Затем жидкий металл через канал 7 в днище 2 подают в камеру 5.

После образования корочки металла вокруг дорна 11 и на затравке 3 заготовку 15 (фиг. 3) начинают вытягивать в камеру 6. Затем после включения индуктора 4 жидкий металла иного химического состава подают через канал в камеру 6, образованную индуктором 4, боковой поверхностью кристаллизатора 1 и заготовкой 15. При этом электромагнитное поле индуктора 4, взаимодействуя с >«идким металлом, находящимся в камере 6, создает силы, обеспечивающие отжатие жидкого металла от боковой (внутренней) поверхности индуктора 4, и исключает прилив его из камеры 6 в камеру 5.

По мере вытягивания заготовки 15 на ней кристаллизуется плакирующий слой

16, в результате чего получают двухслойную заготовку с наружным плакирующ>им слоем, При необходимости плакирования внутренней поверхности полой заготовки используют устройство, изображенное на фиг. 2 и 4, Затравку 3 в камеру 5 вводят через кольцевой канал 13. Жидкий металл в камеру 5 подают через канал 7.

После образования корочки металла на внутренней боковой поверхности 10 кристаллизатора 1 и на затравке 3 заготовку 17 (фиг. 4) начинают вытягивать в камеру 6. Затем после включения индуктора 4 жидкий металл иного химического состава подают в камеру 6 по каналу 8. Электромагнитное поле индуктора 4 при взаимодействии с жидким металлом в камере 6 создает силы, обеспечивающие отжатие жидкого металла от боковой (наружной) поверхности индуктора 4, исключая попадание жидкого металла из камеры 6 в кольцевой канал 13 и камеру 5. По мере вытягивания заготовки 17 жидкий металл, находящийся в ее полости, кристаллизуется на ней, образуя плакирующий слой 18, в результате чего получают двухслойную заготовку с внутренним плакирующим слоем.

Применение предлагаемого устройства позволяет при получении непрерывных полых заготовок с вытягиванием

973225

Формула изобретения

10 вверх плакировать их наружную или внутреннюю поверхности.

1. Устройство для непрерывной отливки полой металлической заготовки, содержащее кристаллизатор, затравку и механизм вытягивания, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью получения плакированной заготовки, оно снабжено кольцевым индуктором, который установлен в рабочей полости кристаллизатора и разделяет ее по высоте на две сообщающиеся между собой камеры.

2. Устройство по и. 1, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью плакирования наружной поверхности заготовки, индуктор примыкает своей

5 боковой поверхностью к боковой поверхности кристаллизатора.

3. Устройство по и. 1, о т л и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью плакирования внутренней поверхности заготовки, индуктор установлен с кольцевым зазором относительно бо-: ковой поверхности кристаллизатора.

Источники информации, 1 принятые во внимание при экспертизе

1. Авторское свидетельство CCCP

Ю 539667, кл. В 22 D 11/00, 1977.

973225

Тираж 852 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Заказ 8580/10

Филиал ППП "Патент", г, Ужгород, ул. Проектная, Составитель В. Сирота

Редактор С. Тимохина Техред Е.Харитончик Корректор М. Ыароши