Устройство для нанесения резистивной пленки

Устройство для нанесения резистивной пленки

Иллюстрации

Показать все

Реферат

 

(72) Автор изобретения

Н. Ф. Петунов (7l ) Заявитель

Специальное конструкторское бюро при Псковском заводе радиодеталей (54} УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ

РЕЗИСТИВНОЙ ПЛЕНКИ

Изобретение относится к радиоэлектр нике и может быть использовано при производстве металлоокисных резисторов.

Известен способ изготовления ниточ ных резисторов диаметром до 1 мм, оонованный на испарении резистивного состава из скрученной стеклянной нити, которую располагают непосредственно под подложкой и одновременно с ней помешают через нагретую печь (1 ) .

Однако при этом не обеспечивается качество нанесения резистивной пленки.

Известно устройство для изготовления резисторов, содержащее печь с реакционной камерой с входным и. выходным каналами для подложки и нитевидным испарителем, расположенным нецосредственно под подложкой и одновременно с ней перемещаемым через нагретую лечь, В реакционной камере печи происходит испарение исходных растворов из скрученай стеклянной нити, термохимическое раэложение продуктов испарения, и восходаший поток паров образует пленку на подложке 523 .

Однако интенсивность испарения и нанесение пленки в известном устройстве убывают при движении от начала камеры к ее концу вследствие снижения концентрации раствора в испарителе, что приводит к уменьшению активной зоны нанесения пленки, снижению производительности нанесения и увеличению неоднородно ности строения пленки по ее толщине.

Кроме этого, образование реэистивной пленки наиболее интенсивно на поверхности подложки, обращенной к нити- испари15 телю, при увеличении диаметра подлож-. ки увеличивается неравномерность толщины пленки.

Цель изобретения — повышение производительности и улучшение качества ре= зистивной пленки.

Бель достигается тем, что в устройс1 ве для нанесения резистивной пленки преимущественно при изготовлении резисторов, содержащем печь, в которой

36

ЫО

3. 974 расположена горизонтально относительно ее основания цилиндрическая реакционная.камера с входным и выходным кана лами для подложки, выполненными по оси камеры, снабженной нитевидным испарителем, печь снабжена теплообменником и напорным соплом, расположенным во входном канале реакционной камеры и соединенным с теплообменником,, а нитевидный испаритель расположен сбоку сп подложки.

На фиг. 1 показано устройство, продольный разрез; на фиг. 2 — то же, поперечный разрез.

Устройство имеет печь 1 с цилиндрической реакционной камерой 2, входным

3 и выходным 4 каналами для подложки

5, соосными реакционной камере, и нитевидным испарителем 6. Входной напал

3 снабжен соплом 7 для подачи горячего воздуха в реакционную камеру, соосным подложке 5 и соединенным с теплообменником R, Работает устройство следующим образом.

В реакционной камере 2 нагретой печи 1 вокруг нитевидного исцарителя 6 при его непрерывном перемещении образуется охлажденная зона и возникает конвекционная вихреобразная циркуляция продуктов испарения вокруг подложки в направлении, указанном стрелкой на фиг. 2. Воздух, необходимый для реакции термохимического разложения продуктов испарения, проходит через теплообменник 8, нагревается до температуры печи 1, поступает в сопло 7 и на выходе из него образует струю, направленную вдоль подложки 5, эжектирующую вихре образно циркулирующие продукты испарения, при этом вокруг подложки обра420 4 зуется равномерный по всей длине реакционной камеры поток пленкообразуюших паров, которые оседают на подложке равномерным слоем.

Создание в реакционной камере вокруг подложки равномерного по всей ее длине потока пленкообразуюших паров позволяет увеличить интенсивность нанесения пленки и скорость перемещения подложки, улучшить качество резисторов. Испытания устрофства показывают, что его произ- водительность увеличивается в 3 раза по сравнению с известным.

Формула изобретения

Устройство для нанесения реэистивной пленки преимущественно при изготовлении резисторов, содержащее печь, в которой расположена горизонтально относительно ее основания цилиндрическая реакционная камера с входным и выходным каналами для подложки, выполненными по оси камеры, снабженной нитевидным испарителем, отличаю шее с я тем, что, с целью повышения производительности и улучшения качества резистивной пленки, печь снабжена теплообменником и напорным соплом, расположенным во входном канале реакционной камеры и соединенным с теплообменником, а нитевидный испаритель расположен сбоку от подложки.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

l. Авторское свидетельство СССР № 262226, кл. Н 01 С 17/00, 1968.

2. Авторское свидетельство СССР № 394856, кл. Н 01 С 17/00, 23.07.70.

:974420

1иг. 3

Составитель 3. Яшина

Редактор К, Волошук Техред Е,баритончик Корректор В. Бутяга

Заказ 8714/69 Тираж 761 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 филиал ППП Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4