ЦИУЛЯНУ Р.Л.
Изобретатель ЦИУЛЯНУ Р.Л. является автором следующих патентов:
Способ осаждения слоев теллурида цинка
1. СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ТЕЛЛУРИДА ЦИНКА'из раствора-расплава методом жидкостной эпитаксии в закрытой откачанной качающейся ампуле, включающий загрузку в ампулу подложки и вещества, 'из расплава которого производят осаждение, откачку и отпайку ампулы, нагрев ее до температуры растворения и вьщержку при постоянной температуре, последующую эпитаксию в процессе понижения температуры...
625509