СЕМЕНОВА ЛИДИЯ АЛЕКСАНДРОВНА
Изобретатель СЕМЕНОВА ЛИДИЯ АЛЕКСАНДРОВНА является автором следующих патентов:
Суховальцованная паста для электропроводящих лакокрасочных композиций
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ 1 11 65466 I Союз Советских Социалистических Республик 1 1 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 04.01.77 (21) 2446717/23-05 с присоединением заявки ¹ (23) Приоритет (43) Опубликовано 30,03.79. Бюллетень № 12 (45) Дата опубликования описания 30.03.79 (51) М. Кл.2 С 09D 17/00 С 09К 3/16 Государственный комитет по делам изобретений и открытий...
654661
Композиция адгезионного слоя основы кинофотоматериалов
Союз Советских Социалистических Республик ОП И(".АНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ «>710014 Ф C (61) Дополнительное к авт. свид-ву Р1 М (2 (22) Заявлено 2301,78 (21) 2570528/23-04 с присоединением заявки N (23) Приоритет G 03 С 1/00 Государствеииый комитет СССР по делам изобре;еиий и открытий Опубликовано 150 1,80. Бюллетень ¹ 2 г Дата опубликования описания 1501.8...
710014![Композиция для адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной подложки кинофотоматериалов1изобретение относится к композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, ак' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - naoh, haj^coa, nahcoj, и имеющая рн 9,5 и выше fl].недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рн<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, подспсу- ъроввяной данной композицией.известны композш1вв для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: x — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2j.адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм. увеличение толщины подложки до 100 мкм и более приводит к ухудшению адгезионных подслоя из указанных композиций. а а>& гезионная прочность эмульсионного слоя не— ' сколько улучшается при нанесении композв— ций на предварительно обработаннугокоронным разрядом поверхность подложки. но ввв— ду того, что получаемый из этой компоэвдни подслой состоит из двух слоев, улучшается только адгезионная прочность промежуточного слоя к подложке, а межоу промежуточным и желатяносодержашвм, а также желатинсодержашвм и эмульсвоя» ными слоями она остается нёудовлетворв»! «тельной.наиболее .'близкой к предлагаемой - лается композиция для подсловрованвя по](https://img.patentdb.ru/i/200x200/6c1071ce092b73e8363b0ec3e7ceed68.jpg "Композиция для адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной подложки кинофотоматериалов1изобретение относится к композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, ак' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - naoh, haj^coa, nahcoj, и имеющая рн 9,5 и выше fl].недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рн<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, подспсу- ъроввяной данной композицией.известны композш1вв для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: x — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2j.адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм. увеличение толщины подложки до 100 мкм и более приводит к ухудшению адгезионных подслоя из указанных композиций. а а>& гезионная прочность эмульсионного слоя не— ' сколько улучшается при нанесении композв— ций на предварительно обработаннугокоронным разрядом поверхность подложки. но ввв— ду того, что получаемый из этой компоэвдни подслой состоит из двух слоев, улучшается только адгезионная прочность промежуточного слоя к подложке, а межоу промежуточным и желатяносодержашвм, а также желатинсодержашвм и эмульсвоя» ными слоями она остается нёудовлетворв»! «тельной.наиболее .'близкой к предлагаемой - лается композиция для подсловрованвя по")
Композиция для адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной подложки кинофотоматериалов1изобретение относится к композициям для адгезионного подслоя кинофотоматери— алов и может быть использовано в химико-фотографической промышленности.известна композиция для подслоирования полиэтилентерефталатной подложки, ак' тивированной коронным разрядом, включающая желатину, органические растворители и гидрофильные основания - naoh, haj^coa, nahcoj, и имеющая рн 9,5 и выше fl].недостатком известной композиции яв— пяеочзя то, что эмульсии с рн<9 после нанесения имеют неудовлетворительную адгезионную прочность к подпожке, подспсу- ъроввяной данной композицией.известны композш1вв для подслоирова— ння, полиэтилентерефталатной двухосноори— ентированной подложки кинофотопленок, используемые для по^^чения адгезионных слоев путем последовательного нанесения, включаклдне: x — сополимер терефтапевой кислоты с диэтиленгликолем и этиленглнколем; н - желатину', нитроцеллюлозу.^ 5to1520салициловую кислоту, метанол, воду и формальдегид [2j.адгезионные слои, полученные из этих композиций,' имеют удовлетворительное держание эмульсионного слоя к подложке^ толщина которой не превышает 75 мкм. увеличение толщины подложки до 100 мкм и более приводит к ухудшению адгезионных подслоя из указанных композиций. а а>& гезионная прочность эмульсионного слоя не— ' сколько улучшается при нанесении композв— ций на предварительно обработаннугокоронным разрядом поверхность подложки. но ввв— ду того, что получаемый из этой компоэвдни подслой состоит из двух слоев, улучшается только адгезионная прочность промежуточного слоя к подложке, а межоу промежуточным и желатяносодержашвм, а также желатинсодержашвм и эмульсвоя» ными слоями она остается нёудовлетворв»! «тельной.наиболее .'близкой к предлагаемой - лается композиция для подсловрованвя по
ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕН ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советски к Социалнстнчесиик Республик „i826261 (6! ) Дополнительное к авт. санд-ву (22)Заявлено28.08.79 (2!)2657930/23-04 с присоединением заявки М— (23)Приоритет Опубликовано 30.04.81. Бюллетень М 16 Дата опубликования описания 30.04.81 (5l)M. Кд. G 03 С 1/80 ВоударотевиныХ комитет CCCP до делам изобретеииХ и еткр...
826261
Способ измерения частоты
Союз Советских Социалистических Ресвубпнк ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВ ВПЛЬСТВУ (1)868614 (61) Дополнительное к авт. саид-ву {51)М. Кл.з (22) Заявлено 290180 (21) 2875956/18-21 с присоединением заявки йо (23) Приоритет 6 01 и 23/00 ГосударствеинмА комитет СССР ио делам изобретеииА и открытиА Опубликовано 30098f.áþëëåòåíü Й9 36 . Дата опубликования описания 300%81 {...
868614
Способ изготовления подложки,преимущественно для кинофотоматериалов
Союз Советских Социалистических Респубики O П И С А Н И Е 933670 И ЗОБ РИТЕ Н ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (6l ) Дополнительное к авт. саид-ву (22)Заявлено 15.07 ° 80 (21) 2957471/23-05 с присоединением заявки М— (23) Приоритет— Опубликовано 07. 06.82. Бюллетень .% 21 Дата опубликования описания 07. 06. 82 (51)М. Кл. С 08 Ю 5/18 С 08 L 27/08 С 03 С 1/76 1Ъаударств...
933670
Измеритель частоты
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических Республик 935806 (61) Дополнительное к авт. свид-ву (22) Заявлено 14.10.80 (21) 2995203/18-21 с присоединением заявки ¹ 51)М Кл G 01 R 23/00 Государственный комитет СССР по делам изобретений и открытий (23) Приоритет (531УДК 621.371 (088. 8) Опубликовано 1506.82. Бюллетень ¹22 Дата опубликова...
935806
Измеритель частоты
.ИЗМЕРИТЕЛЬ ЧАСТОТЫ, содержгщий N-отводную линию задержки, ;вход Kotopofl соединен с входом устройства и -с первыми входами М фазовшс детекторов, вторыевходы N фазовьос детекторов соединены с отводами N-отводной линии задержки, а выходы всех фазовых детекторов соединены через пороговые элементы с входами регистратора, отличающий-, с я тем, что, с цельюулучиюни метрологических, ха...
1012152
Фазометр
ФАЗОМЕТР, содержащий дискретный фазовращатель, три перемножителя напряжений и три компаратора, отличающийся тем, что, с целью улучшения метрологических характеристик путем уменьшения разрядности кода выходного сигнала при сохранении точности, в него дополнительно введены удвоитель частоты, смеситель и фильтр, причем к первому входу фазометра подключены объединенные первый вход пе...
1114972
Генератор импульсов
Изобретение отно.сится к электронным схемам общего назначения и может быть использовано для автоматического генерирования последовательности коротких иьшульсов со стабильной частотой следования. Цель изобретения - расширение диапазона частот следования и fflyльcoв, Устройство содержит источник 1 постоянного напряжения, йакопительную линию 2 коммутатор 3, многоотводную линию 4 зад...
1208598
Измеритель частоты
Изобретение относится к радиотехническим измерениям и предназначено для измерения частот двух сигналов , одновременно поступающих на вход измерителя. Цель изобретения - расширение функциональных возможностей устройства. Измеритель частоты содер СОЮЗ СОВЕТСКИХ СОЦИМИСТИЧЕСНИХ РЕСПУБЛИК (le (11) А2 (50 4 С 01 R 23/00 5KC." OllH0AHHE HSOEPETEHMR К АВТОРСКОМ/ СВИДЕТЕЛЬСТВУ ГОС...
1420542