Геллер В.М.
Изобретатель Геллер В.М. является автором следующих патентов:
![Припой для низкотемпературной бесфлюсовой пайки Припой для низкотемпературной бесфлюсовой пайки](/img/empty.gif)
Припой для низкотемпературной бесфлюсовой пайки
Припой для низкотемпературной бесфлюсовой пайки, содержащий индий, висмут, олово, кадмий и медь, отличающийся тем, что, с целью повышения механической прочности и сопротивления износу, он дополнительно содержит карбид титана или сурьму при следующем соотношении компонентов, мас.%: Индий - 16,8 - 24,0 Висмут - 9,7 - 14,0 Олово - 7,4 - 10,5 Кадмий - 1,1 - 1,5 Карбид титана или сурьма - 5,0...
1466147![Устройство для обработки покрытия экрана электронно-лучевой трубки (элт) Устройство для обработки покрытия экрана электронно-лучевой трубки (элт)](/img/empty.gif)
Устройство для обработки покрытия экрана электронно-лучевой трубки (элт)
Использование: в технике и технологии вакуумно-физического приборостроения в качестве технологического оборудования в производстве крупногабаритных ЭЛТ и кинескопов. Сущность изобретения: в устройстве для обработки экранов крупногабаритных ЭЛП электромагнитная колебательная система состоит из резонатора коаксиального типа, выполненного в виде усеченной четырехгранной пирамиды и колбы ЭЛП,...
2052861![Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов](/img/empty.gif)
Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов
Изобретение относится к вакуумной технологии и может быть использовано в производстве твердотельных, вакуумных и газоразрядных приборов, а также для накачки газоразрядных лазеров. Техническим результатом является уменьшение стоимости, уменьшение потребления электроэнергии, а также повышение КПД. Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов содержит источник ВЧ энергии, п...
2175153![Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов](/img/empty.gif)
Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов
Изобретение относится к вакуумной технологии и может быть использовано в производстве твердотельных, вакуумных и газоразрядных приборов, а также для накачки газоразрядных лазеров. Техническим результатом является возможность конвейеризации технологических процессов, уменьшение стоимости установки, уменьшение потребления электроэнергии, повышение КПД устройства, а также улучшение качества...
2175171