Устройство для обработки покрытия экрана электронно-лучевой трубки (элт)

Устройство для обработки покрытия экрана электронно-лучевой трубки (элт)

Реферат

 

Использование: в технике и технологии вакуумно-физического приборостроения в качестве технологического оборудования в производстве крупногабаритных ЭЛТ и кинескопов. Сущность изобретения: в устройстве для обработки экранов крупногабаритных ЭЛП электромагнитная колебательная система состоит из резонатора коаксиального типа, выполненного в виде усеченной четырехгранной пирамиды и колбы ЭЛП, которая является реакторным объемом. Электромагнитная колебательная система соединена отрезком коаксиального кабеля через устройство электромагнитной связи с генератом электромагнитных колебаний. В процессе обработки экранов газообразные продукты реакций удаляются из объема колбы ЭЛП вакуумными средствами откачки. Изобретение позволяет повысить однородность обработки экранов и экономичность устройства при меньших поперечных устройствах. 2 ил.

Изобретение относится к электронному приборостроению, а именно к технологии изготовления люминесцентных экранов, и может быть использовано в производстве электронно-лучевых приборов (ЭЛП).

Известно устройство для обработки экранов ЭЛП, представляющее собой муфельную печь конвейерного типа, в которую для удаления органической пленки помещается колба ЭЛП с нанесенными последовательно на люминофор органической и алюминиевой пленками. Вследствие нагрева в печи происходит термическая деструкция полимера при температуре порядка (400420^оС). Однако указанное устройство имеет ряд недостатков: большой удельный энергорасход на единицу продукции при выжигании органической пленки, обусловленный необходимостью создания во всем рабочем объеме печи во время выжигания температурного поля с уровнем (400-420)^оС при малом пространственном градиенте температуры; низкие эффективность и качество процессов термодеструкции в атмосфере; ухудшение качества люминесцентного экрана вследствие температурного тушения центров люминесценции.

Известно устройство для обработки экранов ЭЛП, содержащее камеру для размещения колбы электронно-лучевой трубки, снабженную средствами откачки и напуска газа и узел источника высококачественных электромагнитных колебаний, закрепленных на поверхности камеры, при этом камера выполнена в виде цилиндра, с нижним основанием которого соосно соединен полый металлический корпус для размещения конической части колбы электронно-лучевой трубки, выполненный с возможностью установки поверхности экрана колбы на расстоянии d от верхнего основания цилиндра, при этом величина d выбирается из условия d h/8, где h высота цилиндра, см, а узел источника высокочастотных электромагнитных колебаний закреплен на боковой поверхности цилиндра.

Однако, указанное устройство имеет следующие недостатки: большие поперечные размеры устройства. Поскольку электромагнитная колебательная система выполнена из полого металлического цилиндра и при этом диаметр D (см) цилиндра связан с частотой f (Гц) электромагнитных колебаний генератора приближенным соотношением f C/2D, где С скорость света (см/с), то обработка в подобном устройстве колб крупногабаритных ЭЛП с размерами экранов L по диагонали порядка (30-60) см приведет к необходимости создавать цилиндрические резонаторы диаметром (100-200) см из-за необходимости выполнения условия D (3-3,5) L.

Кроме того, пространственная неоднородность обработки экрана обусловлена тем, что геометрия сечения резонатора не соответствует геометрии обрабатываемого экрана. Помещение колбы с экраном прямоугольной геометрии в цилиндрический резонатор приводит к нарушению однородности высокочастотного электромагнитного поля вдоль поверхности обрабатываемого экрана, а следовательно, и к неоднородности обработки.

Цилиндрическая конструкция камеры не позволяет реализовать эффект дополнительной трансформации в сторону увеличения амплитуды электромагнитного поля, что приводит к повышенным затратам СВЧ-энергии в питающем тракте и не обеспечивает экономичность устройства.

Цель изобретения уменьшение габаритов, повышение качества процесса обработки и экономичности устройства.

На фиг. 1 приведена структурная схема предлагаемого устройства; на фиг. 2 общий вид электромагнитной колебательной системы в разрезе.

Предлагаемое устройство для обработки покрытия экрана электронно-лучевой трубки содержит вакуумную камеру-резонатор 1, в которой размещен узел 5 источника высокочастотных электромагнитных колебаний 3, экран-держатель электронно-лучевой трубки 2, закрепленный верхним основанием на дне вакуумной камеры-резонатора. Экран-держатель и вакуумная камера-резонатор выполнены в виде усеченных четырехгранных пирамид, при этом диагональ большего основания вакуумной камеры-резонатора выбрана равной /8, где длина волны источника электромагнитных колебаний, а отношение угла наклона боковой грани вакуумной камеры-резонатора к углу наклона боковой грани экрана-держателя равно 1,2-1,3.

Устройство работает следующим образом.

В откаченный до рабочего давления реакторный объем напускается необходимый для проведения технологических операций газ (например, кислород, аргон). С помощью генератора электромагнитных колебаний 3 в колебательной системе 1,2 возбуждаются электромагнитные колебания продольной распределенности.

Такая конфигурация колебательной системы приводит к следующему: так как пространственное распределение поля, созданное в поперечном сечении четырехгранной пирамиды лучше сочетается с геометрией обрабатываемого объема (экраном ЭЛП), то повышается равномерность его обработки, т.е. качество процесса. Это можно подтвердить, исходя из анализа структур ЭМ поля в полости резонатора: структура поля в радиальном сечении цилиндрического резонатора описывается функцией Бесселя т.е. отличается резкой зависимостью амплитуды ВЧ-поля от радиуса резонатора, и достигать равномерности можно лишь всемерным увеличением радиального размера резонатора, а ВЧ-поле в плоскости большого основания коаксиального резонатора меняется по закону косину- са, охватывая малую долю его пространственного периода, примыкающего к оси резонатора, т.е. в высокой степени будет равномерным, что обеспечивает более равномерную обработку; так как геометрия обрабатываемого экрана согласована с геометрией камеры для размещения ЭЛП (колебательной системы), то это позволит снизить поперечные размеры камеры и добиться удельной экономии объема колебательной системы, что свидетельствует о снижении габаритов устройства.

Кроме того, поскольку камера выполнена усеченной, а боковые грани наклонены к основанию пирамид так, что отношение углов наклона внешней ₁ и внутренней ₂ боковых граней пирамид составляет ₁/₂ 1,2-1,3 (см.фиг.2), это способствует дополнительной трансформации высокочастотных амплитуд электромагнитного поля и следовательно приводит к экономии потребляемой энергии предлагаемым устройством, делая его более экономичным.

Формула изобретения

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОКРЫТИЯ ЭКРАНА ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКИ (ЭЛТ), содержащее вакуумную камеру-резонатор, в которой размещен источник высокочастотных электромагнитных колебаний, экран-держатель ЭЛТ, закрепленный верхним основанием на дне вакуумной камеры-резонатора, отличающееся тем, что экран-держатель и вакуумная камера-резонатор выполнены в виде усеченных четырехгранных пирамид, при этом диагональ большего основания вакуумной камеры-резонатора выбрана равной /8, где - длина волны источника электромагнитных колебаний, а отношение угла наклона боковой грани вакуумной камеры-резонатора к углу наклона боковой грани экрана-держателя равно 1,2 - 1,3.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2