БАЙНОВ ВИКТОР АЛЕКСАНДРОВИЧ
Изобретатель БАЙНОВ ВИКТОР АЛЕКСАНДРОВИЧ является автором следующих патентов:

Способ измерения удлинения изделия и устройство для его осуществления
Союз Советск ик Социалистичвскик Республик ОП ИСАКИЯ И ЗОВРЕТЕ Н ИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ < 922496 (6! ) Дополнительное к авт. свид-ву— (22) Заявлено 2401.80 (2! ) 2873670/18-28 (5f)М. Кд. О 01 В 07)04 с присоединением заявки Меооуйаротинный кюмнтет СССР ао демам нэобретений в открытнй (23) Приоритет )58) УЙК 531 ° 71 (088.8) Опубликовано 230482. Бюллетень № 15 Да...
922496
Устройство для приготовления жидких неоднородных сред
Изобретение касается приготовления жидких неоднородных средств, в частности шликерных масс, и может быть использовано в химической промышленности, порошковой металлургии и электротехнической промышленности. Оно обеспечивает повышение качества приготовляемой среды и производительности процесса. Устройство для приготовления жидких неоднородных сред содержит вакуумируемый корпус 1 с...
1533747
Способ приготовления жидких неоднородных сред и устройство для его осуществления
Изобретение относится к способам и устройствам приготовления жидких неоднородных сред и позволяет повысить производительность и качество готового продукта. Способ включает обработку слоя среды, прилегающего к ее поверхности, ультразвуковыми колебаниями и вакуумирование среды. В устройстве излучатель размещен в слое, прилегающем к поверхности обрабатываемой среды. 2 с. и 3 з.п. ф-л...
1611432