Способ приготовления жидких неоднородных сред и устройство для его осуществления
Иллюстрации
Показать всеРеферат
Изобретение относится к способам и устройствам приготовления жидких неоднородных сред и позволяет повысить производительность и качество готового продукта. Способ включает обработку слоя среды, прилегающего к ее поверхности, ультразвуковыми колебаниями и вакуумирование среды. В устройстве излучатель размещен в слое, прилегающем к поверхности обрабатываемой среды. 2 с. и 3 з.п. ф-лы, 1 табл., 3 ил.
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ
РЕСПУБЛИН (1В (И) (Si)5 .В 01 Р 11/02
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Н АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМ
ПРИ ГКНТ СССР (21) 4322956/31-26 (22) 02.1 1.87 (46) 07.12i90. Бюл. № 45 (71) Специальное конструкторское бюро научного приборостроения Уральского отделения АН СССР и Институт электрохимии Уральского отделения .АН СССР (72) Р,П.Почтарев, В.А.Байнов, А.Д.Неуймин и В.А.Аржанников (53) 66.063(088,8) (56) Агранат Б.А. и др. Ультразвук в порошковой металлургии. — M.: Металлургия, 1986, с.126.
Изобретение относится к области приготовления жидких неопноролных масс, в частности иликерных масс.
Цель изобретения — говышение производительности и качества продукта.
На фиг.l изображено устройство, реализующее способ приготовления жидких неоднородных сред, общий вид; на фиг.2 - разрез А-А на фиг.1; на фиг.3 - разрез Б-Б на фиг.l.
Устройство для приготовления жидких неоднородных сред состоит из цилиндрического корпуса 1 с рубашкой для обогрева (не показана), мешалки
2, вращающейся на вертикальном валу
3 посредством привода 4. Корпус 1 имеет вакуумный штуцер 5. Снаружи корпуса размещен источник 6 ультразвука с концентратором, соединенный посредством волновода 7 с излучателем 8 колебаний в виде плоской пластины, размещенйой в слое, прилегаю2 (54) СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ ЖИДКИХ НЕОДНОРОДНЬ1Х СРЕД И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО
ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (57) Изобретение относится к способам и устройствам приготовления жидких неоднородных сред и позволяет повысить производительность и качество готового продукта. Способ включает обработку слоя среды, прилегающего к ее поверхности, ультразвуковыми колебаниями и вакуумирование среды.
В устройстве излучатель размещен в слое, прилегающем к поверхности обрабатываемой среды. 2 с. и 3 з.п. ф-mt, 1 табл., 3 ил. щем к поверхности обрабатываемой среды на расстоянии от нее, равном
L = (0,075 Я вЂ” 0,42 А) + п где А — длина волны ультразвуковых колебаний, мм;
n-=0, 1, 2, Зили 4.
Излучатель установлен с возможностью поворота вокруг своей горизонтальной оси, проходящей через стенку корпуса.
Корпус 1 имеет загрузочное устройство 9 и сливной клапан 10.
Способ приготовления жидких неоднородных сред осуществляют следующим образом.
В корпус 1 через загрузочное устройство 9 загружают пластификатор и.порошок в необходимой пропорции дпя приготовления шликера. Затем включают привод 4 мешалки 2 и производят перемешивание массы. Одновремен1611432
«по с включением привода мешалки вклю- ., ««ают,-.источник 6 ультразвука и вакуу»
Мйруют внутреннюю полость корпуса че-. рез штуцер 5 посредством вакуумного
9асоса (не показан).
Во время перемешивания порошка ф: ««ластификатором частицы массы совершают сложное движение — вращательное, радиальное и в вертикальной 10 йлоскости. При перемещении масса обтекает излучатель с двух сторон, С нижней стороны ппастины производится
1олько диспергирование. С верхней тороны в слое толщиной L происхо- 15 т диспергирование и вакуумирование
««ассы.
Глубина погружения плоской пласти1ты излучателя 8 определяе-ся длиной олны ультразвуковых колебаний, кото- 20 ая в свою очередь выбирается в зави «имости от реологических характеристик приготовляемой массы (в частности, вязкости).
Максимальные напряжения сдвига в 25 озвучиваемой массе„ обеспечивающие
-.„ -интенсивную ее проработку, возника«от в зонах кавитации, расстояния между которыми равны половины длины волны (Я/2) колебания. При использовании 30 в качестве источников колебаний генераторов типа МПС-15А-18 с частотами !
8-20 кГц первая зона кавитации находится на расстоянии примерно 3-4 мм от поверхности излучателя. Размещение 35 этой зоны на границе раздела приготовляемой массы с вакуумируемь«м пространством обеспечивает возможность максимального удаления газовых включений. 40
При этом на поверхности, находящейся на излучателе массы, создается как бы "кипящий слой". Кавитационные зоны повторяются с интервалом Я /2, однако по мере удаления от излучателя интенсивность колебаний в массе уменьшается. Поэтому максимальное диспергирование происходит в первой зоне кавитации на расстоянии ф/4 от излучателя, Вакуумирование массы наиболее эффективно происходит в ее поверхностном слое.
Совмещение первой наиболее эффективной эоны кавитации с вакуумируемым поверхностным слоем обеспечивается при погружении излучателя на глубину L = Я /4 . Эффек тивн ая ширин а з оны кавитации равна 0,37, «по уровню
0,7 максимальной мощности облучения.
Следовательно, излучатель может находиться на расстоянии от поверхности массы (первый интервал, n = О)
L=03 — --17"-- =0075«4 4 *
- 0,429 .
При этом обеспечивается максимальная эффективность процесса одно- временного диснергирования и вакуумирования приготовляемой массы. При других интервалах глубин погружения излучателя 8, расстояние между которыми равно Я/2, процесс одновременного диспергирования и вакуумирования на поверхности массы имеет место, Но с меньшей эффективностью вследствие затухания колебаний.
В таблице приведены расчетные данные толщины слоя массы над излучателем для различных вариантов осуществления предлагаемого способа (расчеты приведены для жидкой среды типа глицерина).
Использование кавитацнонных зон ««ри значениях п 5 пе обеспечивает эффективности процесса р. вязких.жид-. костях, так как вследствие затихания ,колебаний при увеличении расстояния от излучателя мощность колебаний
«з этих зонах составляет менее 1О от максимальной.
Обеспечение поворота излучателя
8 вокруг его горизонтальной оси дает возможность изменять толщину обрабатываемого на пластине слоя массы с целью оптимизации процесса для сред с различ««ой степенью вязкости. В корпусе 1 устройства может быть размещено несколько излучателей 8, При использовании изобретения обеспечивается диспергирование и вакуумирование массы в тонком слое, что повьппает качество продукта и производительность его получения.
Формула изобретения
1.Способ приготовления жидких
«еоднородных сред, преимущественно шликерных масс, включающий обработку среды ультразвуковыми колебаниями и ее вакуумирование, о т л и ч а ю— шийся тем, что, с целью повьппе«жя производительности и качества готового продукта, обработке ультразвуко.- подвергают слой среды, прилега«ощ««й к ее поверхности.
Частота 20 кГц
Q 10 мм
Значения и (для первых пяти интер валов) Частота 40 кГц
Я=5мм
Толщина слоя массы, мм т .0 42Я 0 075Я 0
075Я,42
0,75
5,75
l 0, 75
15,75
20, 75
4,2
9,2
14,2
19,2
24,2
0,375 2,1
2,875 4,б
5,375 7,1
7,875 9,6
l0,375 12,!
5 161143
2.Способ по п.1, о т л и ч а юшийся тем, что толщину обрабатываемого слоя среды выбирают из условия
5 (0,075 Я вЂ” 0,42 9 ) + и
% где L — - толщина слоя среды, мм; ф - длина волны ультразвуковых колебаний, мм; 10 и О, 1, 2, 3 или 4.
З.Устройство для приготовления жидких неоднородных сред, преимущественно шликерных масс> содержащее корпус с мешалкой, вращающейся вокруг 15 вертикальной оси, и вакуумным штуцером, размещенный снаружи корпуса источник ультразвука с концентратором и излучатель колебаний в виде пластины, контактирующей с обрабатываемой средой, отличающееся
2 ° - . 6 тем, что, с целью повышения производительности и качества готового про-: дукта, излучатель размещен в слое, прилегающем к поверхности обрабатываемой среды,.
4.Устройство по п.З, о т л ич а ю щ е е с я тем, что излучатель размещен на расстоянии от поверхности среды, равном
L = (0,075 ф- 0,42ф + n A где L - расстояние от поверхности среды до поверхности излучателя, мм.
5.Устройство по пп.3 и 4, о т л ич а ю щ e e с я тем, что излучатель установлен возможностью поворота вокруг своей горизонтальной оси, проходящей через стенку корпуса.
1611432
Редактор С.Пекарь
Подписное
Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул, Гагарина, 101
Заказ 3788
ВНИИПИ Государственного
113035, Составитель Н. Федорова
ТехредЛ.Сердюкова Корректор Л.Патай
Тираж 510 комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР
Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5