PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Исянова Е.Д.

Изобретатель Исянова Е.Д. является автором следующих патентов:

Способ изготовления активного элемента твердотельного лазера

Способ изготовления активного элемента твердотельного лазера

 Способ изготовления активного элемента твердотельного лазера на основе монокристалла фторида лития с F2-центрами окраски, включающий облучение ионизирующим излучением, отличающийся тем, что, с целью увеличения срока службы активного элемента в непрерывном режиме за счет повышения оптической устойчивости центров окраски, монокристалл после облучения ионизирующим излучением дополнительно по...

990052

Способ изготовления оптических элементов для лазеров

Способ изготовления оптических элементов для лазеров

 (19)SU(11)1028100(13)A1(51)  МПК 6    C30B17/00, H01S3/16(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 27.12.2012 - прекратил действиеПошлина: (54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ ДЛЯ ЛАЗЕРОВ Изобретение относится к области квантовой электроники, к способам изготовления оптических элементов лазеров (пассивных модуляторов доб...

1028100

Пассивный модулятор добротности резонатора лазера и способ его изготовления

Пассивный модулятор добротности резонатора лазера и способ его изготовления

 1. Пассивный модулятор добротности резонатора лазера на основе монокристалла фторида лития, отличающийся тем, что, с целью повышения энергии моноимпульса, формируемого модулятором, монокристалл содержит свободные ОН--ионы и Mg ++OH-OH-Vc--комплексы, где Vc- катионная вакансия.2. Способ изготовления пассивного модулятора добротности резонатора лазера, включающий облучение монокристалла ион...

1037818

Материал для активных элементов лазеров, пассивных лазерных затворов и аподизирующих диафрагм

Материал для активных элементов лазеров, пассивных лазерных затворов и аподизирующих диафрагм

 (19)SU(11)1123499(13)A1(51)  МПК 6    H01S3/16(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯк авторскому свидетельствуСтатус: по данным на 10.01.2013 - прекратил действиеПошлина: (54) МАТЕРИАЛ ДЛЯ АКТИВНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ЛАЗЕРОВ, ПАССИВНЫХ ЛАЗЕРНЫХ ЗАТВОРОВ И АПОДИЗИРУЮЩИХ ДИАФРАГМ Изобретение относится к квантовой электронике, к активным средам оптических квантовых устройств, и может...

1123499

Способ создания лазерноактивных f2 --центров окраски в монокристалле фторида лития

Способ создания лазерноактивных f2 --центров окраски в монокристалле фторида лития

 Способ создания лазерноактивных -центров окраски в монокристалле фторида лития, включающий охлаждение и облучение монокристалла ионизирующим излучением, отличающийся тем, что, с целью снижения величины поглощения неактивных центров окраски при одновременном упрощении создания -центров окраски, перед охлаждением монокристалл облучают при комнатной температуре в интервале доз 5·108 - 5...

1261534


Активный элемент твердотельного лазера

Активный элемент твердотельного лазера

 Активный элемент твердотельного лазера на основе монокристалла фторида лития с F2-центрами окраски, отличающийся тем, что, с целью увеличения срока службы активного элемента при одновременном повышении частоты следования импульсов генерации, монокристалл фторида лития дополнительно содержит Mg++ O---комплексы.

1264795

Способ получения монокристаллов фтористого натрия

Способ получения монокристаллов фтористого натрия

 Способ получения монокристаллов фтористого натрия, содержащих лазерноактивные -центры окраски, включающий вытягивание исходного вещества с добавкой гидроокиси натрия на вращающуюся затравку, остающуюся в расплаве, и облучение ионизирующим излучением, отличающийся тем, что, с целью повышения оптической однородности монокристаллов и термической устойчивости -центров, в расплав дополнительно...

1319645

Способ получения фтористого лития

Способ получения фтористого лития

 Способ получения фтористого лития, используемого для выращивания монокристаллов, включающий взаимодействие растворов гидроксида лития и фтористоводородной кислоты в присутствии добавки, отличающийся тем, что, с целью получения продукта, обеспечивающего высокую степень поглощения инфракрасного излучения в области спектра m=3720 см-1, в качестве добавки вводят гидроксид натрия в количестве...

1380162

Способ создания лазерноактивных f-2-центров в кристаллах фторида лития

Способ создания лазерноактивных f-2-центров в кристаллах фторида лития

 Способ создания лазерноактивных F-2-центров в кристаллах фторида лития, включающий облучение -излучением дозой до 2 -108P и термообработку, отличающийся тем, что, с целью повышения селективности создания F-2-центров и их устойчивости, термообработку проводят в процессе облучения при 230 - 240oС.

1443496