Бротиковский О.И.
Изобретатель Бротиковский О.И. является автором следующих патентов:
![Способ изготовления защитных свинцово-силикатных пленок на поверхности кремния Способ изготовления защитных свинцово-силикатных пленок на поверхности кремния](/img/empty.gif)
Способ изготовления защитных свинцово-силикатных пленок на поверхности кремния
Способ изготовления защитных свинцово-силикатных пленок на поверхности кремния, включающий нанесение на поверхность кремния слоя порошка окиси свинца, оплавление порошка и последующий отжиг пленки при 500oC, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности свойств пленок путем управления их составом, порошок окиси свинца наносят слоем толщиной 0,06 - 0,5 мм, а оплавление проводят при 7...
1056815![Способ изготовления полупроводниковых меза-структур Способ изготовления полупроводниковых меза-структур](/img/empty.gif)
Способ изготовления полупроводниковых меза-структур
Способ изготовления полупроводниковых меза-структур, включающий проведение фотолитографии и химического изотропного травления на глубину h, создающих выпрямительные меза-элементы, и защиту меза-элементов стекловидными пленками, отличающийся тем, что, с целью повышения пробивных напряжений меза-элементов, операцию фотолитографии проводят с использованием фотошаблона, рисунок которого предс...
1085442![Способ никелирования кремниевых полупроводниковых структур, участки поверхности которых защищены свинцово-силикатными стеклами Способ никелирования кремниевых полупроводниковых структур, участки поверхности которых защищены свинцово-силикатными стеклами](/img/empty.gif)
Способ никелирования кремниевых полупроводниковых структур, участки поверхности которых защищены свинцово-силикатными стеклами
Способ никелирования кремниевых полупроводниковых структур, участки поверхности которых защищены свинцово-силикатными стеклами, включающий селективное травление поверхности структур через защитную маску, промывку в деионизированной воде, активацию поверхности в золотосодержащем растворе и химическое осаждение никеля, отличающийся тем, что, с целью повышения процента выхода годных приборов...
1200778![Способ получения исходного материала для изготовления низкотемпературных стекловидных покрытий для защиты поверхности полупроводниковых приборов Способ получения исходного материала для изготовления низкотемпературных стекловидных покрытий для защиты поверхности полупроводниковых приборов](/img/empty.gif)
Способ получения исходного материала для изготовления низкотемпературных стекловидных покрытий для защиты поверхности полупроводниковых приборов
Способ получения исходного материала для изготовления низкотемпературных стекловидных покрытий для защиты поверхности полупроводниковых приборов, включающий приготовление водного раствора азотнокислых солей стеклообразующих элементов, введение в раствор двуокиси кремния, приливание водного раствора аммиака до получения осадка гидроокисей, просушивание и растирание осадка, отличающийся тем...
1316501![Способ никелирования мезаструктур, защищенных свинцово- силикатными стекловидными пленками Способ никелирования мезаструктур, защищенных свинцово- силикатными стекловидными пленками](/img/empty.gif)
Способ никелирования мезаструктур, защищенных свинцово- силикатными стекловидными пленками
Способ никелирования мезаструктур, защищенных свинцово-силикатными стекловидными пленками, включающий активацию поверхности структур в золотосодержащем активаторе и химическое осаждение никеля, отличающийся тем, что, с целью уменьшения себестоимости приборов, после активации мезаструктуры обрабатывают в кипящей азотной кислоте.
1340484![Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий](/img/empty.gif)
Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий
Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий для защиты полупроводниковых приборов, включающий приготовление водных растворов азотнокислых солей стеклообразующих компонентов кремниевой кислоты, аммиака, сливание растворов, просушивание и растирание образующегося осадка в порошок, нанесение и оплавление слоя порошка на поверхности полупроводниковых приборов, отличающийся тем,...
1384112![Способ получения исходного материала для изготовления свинцово-силикатных стекловидных покрытий для защиты полупроводниковых приборов Способ получения исходного материала для изготовления свинцово-силикатных стекловидных покрытий для защиты полупроводниковых приборов](/img/empty.gif)
Способ получения исходного материала для изготовления свинцово-силикатных стекловидных покрытий для защиты полупроводниковых приборов
Способ получения исходного материала для изготовления свинцово-силикатных стекловидных покрытий для защиты полупроводниковых приборов, включающий приготовление водного раствора солей стеклообразующих компонент, основным из которых является свинец, и кремниевой кислоты, осаждение водным раствором аммиака гидрооксидов, просушивание и растирание осадка, отличающийся тем, что, с целью улучшен...
1410776![Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий](/img/empty.gif)
Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий
Способ получения низкотемпературных стекловидных покрытий путем приготовления водного раствора солей стеклообразующих компонентов и кремниевой кислоты, осаждения гидрооксидов раствором аммиака, просушивания полученного осадка, растирания, нанесения покрытия и оплавления, отличающийся тем, что, с целью повышения защитно-пассивационных характеристик, в качестве солей стеклообразующих компон...
1436429![Способ формирования мезаструктур при изготовлении кремниевых высоковольтных диодов Способ формирования мезаструктур при изготовлении кремниевых высоковольтных диодов](/img/empty.gif)
Способ формирования мезаструктур при изготовлении кремниевых высоковольтных диодов
Способ формирования мезаструктур при изготовлении кремниевых высоковольтных диодов, включающий изготовление на полупроводниковой пластине диффузионной структуры с р-n переходом контактов, нанесение защитной маски, формирование мезаструктур путем надрезания пластины алмазным диском с последующим химическим травлением по образованным надрезам, отличающийся тем, что, с целью увеличения выход...
1535272