ДИ ПЬЕТРО Ричард Энтони (US)

 Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции. Описывается фоторезистная композиция, содержащая кислотный фотоинициатор, необязательно ингибитор растворения и сополимер, который содержит, по крайней мере, два вида повторяющихся полициклических звеньев, один из которых содержит боковую кислотно-лабильную группу, а другой содержит боковую полярную функциональну...