Белых Ю.Г.

 Изобретение может быть использовано на литографических операциях при изготовлении приборов на поверхностных акустических волнах. Цель изобретения - повышение точностных параметров маски за счет устранения отражения экспонирующего излучения от обратной стороны подложки (П). На обратную шлифованную поверхность (П) LiNBO3 наносится, например, вакуумным термическим напылением слой Cu. Толщина...

 Изобретение относится к микроэлектронике. Цель изобретения - увеличение процента выхода годных за счет получения в слое фоторезиста при "обратной" фотолитографии профиля с отрицательным углом наклона. На подложку наносят слой позитивного фоторезиста. Проводят его селективное экспонирование через фотошаблон. В проявитель добавляют 1 - 5 об. % растворителя фоторезиста, например ацетона или...

 Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при изготовлении твердотельных приборов и интегральных схем. Цель изобретения - повышение качества обрабатываемой структуры за счет исключения возможности образования на поверхности полупроводника нарушенного слоя при одновременном повышении плазмостойкости защитной маски. Поставленная цель достигается тем, что после созда...