Кислов Н.А.

 Способ изготовления элементов коррекции интенсивности электромагнитного излучения, включающий формирование на прозрачной подложке корректирующего поглощающего слоя путем воздействия на подложку корректируемого электромагнитного излучения, отличающийся тем, что, с целью повышения точности коррекции интенсивности электромагнитного излучения в ультрафиолетовом и видимом диапазонах, в том чис...

 Сверхпроводящая планарная структура, содержащая две сверхпроводящие пленки, разделенные субмикронным зазором и расположенные на проводящей подложке, отличающаяся тем, что, с целью увеличения критической плотности тока при большой ширине зазора, подложка выполнена или из массивных кристаллов или из кристаллической пленки сплава висмута и сурьмы при следующем соотношении компонентов, ат.%:...