ЯМАЗАКИ Икуси (JP)

Способ включает этапы одновременного формирования электрода (41) затвора TFT (40) и нижнего слоя (51) маркировочной площадки (50), одновременного формирования изолирующей пленки (42) затвора TFT (40) и защитной изолирующей пленки (52), покрывающей нижний слой (51), выполнения различных процессов осаждения пленки и процессов нанесения рисунка. Нижний слой (51) покрывается защитной изолирующей пле...

Способ изготовления жидкокристаллической панели включает в себя этапы подготовки разметочной площадки (50), включающей в себя область разметки, сформированную из стопки, состоящей только из металлической пленки, служащей нижним слоем (51), и пленки ITO (56), служащей верхним слоем, на главной поверхности (11а) стеклянной подложки (11), связывания стеклянной подложки (21) со стеклянной подложкой...