НИСИКИ Хирохико (JP)
Изобретатель НИСИКИ Хирохико (JP) является автором следующих патентов:
Способ изготовления подложки со структурой тонкопленочных транзисторов
Изобретение относится к способам изготовления подложек со структурой тонкопленочных транзисторов для применения в панелях отображений. Сущность изобретения: способ изготовления подложки со структурой тонкопленочных транзисторов предусматривает этап, на котором формируют электрод затвора и первое соединение на подложке, этап, на котором формируют изолирующую пленку затвора, которая имеет контактн...
2491678Полупроводниковое устройство и способ его изготовления
Изобретение относится к полупроводниковым устройствам. Полупроводниковое устройство содержит тонкопленочный транзистор, содержащий шину затвора, первую изолирующую пленку, оксидно-полупроводниковый слой в форме островка, вторую изолирующую пленку, шину истока, электрод стока и пассивирующую пленку, а также контактную площадку, содержащую первый соединительный элемент, изготовленный из той же про...
2503085