Зеленцов Сергей Васильевич (RU)

Группа изобретений относится к способам, предназначенным для изготовления полупроводниковых приборов на твердом теле с использованием светочувствительных составов, например фоторезистов, содержащих диазосоединения в качестве светочувствительных веществ, а именно к способам формирования фоторезистной маски позитивного типа, которые могут найти применение в области микроэлектроники для получения и...

Группа изобретений относится к области составов для ухода за полостью рта и может быть использовано в парфюмерно-косметической промышленности для производства указанных составов. Предлагается применение соли цинка или меди (II) общей формулы , где M - Zn или Cu, R1 - водород или метил, R2 выбран из группы, включающей водород, замещенный или незамещенный алкил, алкенил, алкадиенил, замещенный или...

Изобретение относится к технологии изготовления резистных масок в производстве микросхем, в частности изготовления резистных масок с расширенным диапазоном разрешения изображений. Технический результат изобретения - разработка способа изготовления резистной маски позитивного типа с расширенным диапазоном разрешения изображения. Для достижения указанного технического результата в способе изготовлен...

Изобретение относится к взрывной фотолитографической технологии и может быть использовано, когда получение рабочего рисунка из активного материала (металла или полупроводника) методами избирательного химического или плазмохимического травления через фоторезистную маску затруднено или нецелесообразно в связи с повышенной химической стойкостью к травлению активного материала. Предложен способ взрывн...