Лукасевич М.И. (RU)
Изобретатель Лукасевич М.И. (RU) является автором следующих патентов:
![Способ изготовления самомасштабируемого полевого транзистора со структурой суперсамосовмещенного биполярного транзистора Способ изготовления самомасштабируемого полевого транзистора со структурой суперсамосовмещенного биполярного транзистора](/img/empty.gif)
Способ изготовления самомасштабируемого полевого транзистора со структурой суперсамосовмещенного биполярного транзистора
Использование: микроэлектроника, технология изготовления полевых транзисторов со структурой металл-окисел-полупроводник. Сущность изобретения: в способе изготовления транзистора создают первый диэлектрик, вытравливают окна в первом диэлектрике вертикальным травлением раздельно для области стока и области истока с перекрытием окнами “клюва” первого диэлектрика в сторону диэлектрика, получа...
2230392![Структура кремний-на-изоляторе для сбис Структура кремний-на-изоляторе для сбис](/img/empty.gif)
Структура кремний-на-изоляторе для сбис
Использование: при производстве СБИС, у которых на одном кристалле формируются как полевые, так и биполярные транзисторы. Сущность изобретения: структура кремний-на-изоляторе для СБИС содержит области кремния, изолированные первым слоем диэлектрика друг от друга и вторым слоем диэлектрика от кремниевой подложки, для размещения в них полевых и биполярных транзисторов. Над вторым слоем диэл...
2230393![Способ изготовления автомасштабируемого биполярного транзистора Способ изготовления автомасштабируемого биполярного транзистора](/img/empty.gif)
Способ изготовления автомасштабируемого биполярного транзистора
Использование: в микроэлектронике, в технологии изготовления интегральных схем высокой степени интеграции на биполярных транзисторах. Сущность изобретения: способ изготовления биполярного транзистора включает нанесение на подложку кремния первого слоя диэлектрика, формирование в нем травлением методом РИТ окон под базу, осаждение первого слоя поликристаллического кремния, легирование поли...
2234162![Способ создания структуры - кремний на изоляторе для сбис Способ создания структуры - кремний на изоляторе для сбис](/img/empty.gif)
Способ создания структуры - кремний на изоляторе для сбис
Использование: в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления структур кремний - на - изоляторе для СБИС. Техническим результатом изобретения является повышение качества структур кремний на изоляторе и процента выхода годных структур за счет создания сплошной границы между пластинами без образования полостей. Сущность изобретения: в способе создания структуры кремний - на - изолят...
2234164![Способ изготовления автомасштабируемой бикмоп структуры Способ изготовления автомасштабируемой бикмоп структуры](/img/empty.gif)
Способ изготовления автомасштабируемой бикмоп структуры
Использование: микроэлектроника, технология изготовления БиКМОП структур, включающих биполярные и полевые транзисторы с субмикронными размерами элементов. Сущность изобретения: в кремниевой подложке создают карманы первого и второго типа проводимости, первый слой диэлектрика, формируют тонкий окисел кремния, осаждают слой электродного поликристаллического кремния, легируют его в месте рас...
2234165![Способ изготовления комплементарных вертикальных биполярных транзисторов в составе интегральных схем Способ изготовления комплементарных вертикальных биполярных транзисторов в составе интегральных схем](https://img.patentdb.ru/i/200x200/7c720923d7027c984097d9884d5ecdd4.jpg)
Способ изготовления комплементарных вертикальных биполярных транзисторов в составе интегральных схем
Использование в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления интегральных схем (ИС) с использованием комплементарных биполярных транзисторов NPN и PNP с носителями разного типа проводимости. Сущность изобретения: способ изготовления комплементарных вертикальных биполярных транзисторов в составе интегральных схем по предлагаемому изобретению приводит к тому, что размеры эмиттера и базы тран...
2244985![Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты) Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)](https://img.patentdb.ru/i/200x200/fccfc1ad10902bc5af6eabf65eeced11.jpg)
Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)
Использование: в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике, используемых в производстве СБИС, в частности структур кремний-на-диэлектрике. Технический результат - повышение качества структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике за счет создания сплошной границы между пластинами без образования полост...
2248069![Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты) Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)](https://img.patentdb.ru/i/200x200/03c487b3b874a6d326ad60ffe0885481.jpg)
Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)
Использование: в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике, используемых в производстве СБИС, в частности структур кремний-на-диэлектрике. Техническим результатом изобретения является повышение качества структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике за счет выбора режимов имплантации, устойчиво препят...
2260874![Способ изготовления принтерной головки с тонкопленочным резистором и принтерная головка Способ изготовления принтерной головки с тонкопленочным резистором и принтерная головка](https://img.patentdb.ru/i/200x200/84d5a3a87ba28cc450a31f0a6898b7a9.jpg)
Способ изготовления принтерной головки с тонкопленочным резистором и принтерная головка
Использование: в производстве струйных принтеров, а именно печатающих головок для струйных принтеров, имеющих небольшие отверстия в головке, через которые по программе выбрасываются чернильные капельки. Сущность изобретения: в способе изготовления принтерной головки, включающем осаждение резистивного слоя и слоя проводника на изолированной подложке, формирование рисунков слоев, осажденных на изоли...
2261498![Способ изготовления биполярного транзистора Способ изготовления биполярного транзистора](https://img.patentdb.ru/i/200x200/54dbf842ed06d21717f247e7b4aa4732.jpg)
Способ изготовления биполярного транзистора
Использование: микроэлектроника, технология изготовления интегральных схем на биполярных транзисторах, изготовленных с использованием методов самосовмещенной технологии. Сущность изобретения: в способе изготовления биполярного транзистора, включающем нанесение на подложку кремния первого слоя окисла кремния и первого слоя поликристаллического кремния, легирование первого слоя поликристаллического...
2262774![Способ изготовления тонкопленочной структуры межсоединений принтерной головки с тонкопленочным резистором Способ изготовления тонкопленочной структуры межсоединений принтерной головки с тонкопленочным резистором](https://img.patentdb.ru/i/200x200/ca1f774b78a06185fc60ab84b07f4b50.jpg)
Способ изготовления тонкопленочной структуры межсоединений принтерной головки с тонкопленочным резистором
Использование: в производстве струйных принтеров, а именно печатающих головок для струйных принтеров, имеющих небольшие отверстия в головке, через которые по программе выбрасываются чернильные капельки. Сущность изобретения: в способе изготовления тонкопленочной структуры межсоединений принтерной головки, включающем осаждение резистивного слоя и слоя проводника на изолированной подложке, формирова...
2263998