PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Лукасевич М.И. (RU)

Изобретатель Лукасевич М.И. (RU) является автором следующих патентов:

Способ изготовления самомасштабируемого полевого транзистора со структурой суперсамосовмещенного биполярного транзистора

Способ изготовления самомасштабируемого полевого транзистора со структурой суперсамосовмещенного биполярного транзистора

 Использование: микроэлектроника, технология изготовления полевых транзисторов со структурой металл-окисел-полупроводник. Сущность изобретения: в способе изготовления транзистора создают первый диэлектрик, вытравливают окна в первом диэлектрике вертикальным травлением раздельно для области стока и области истока с перекрытием окнами “клюва” первого диэлектрика в сторону диэлектрика, получа...

2230392

Структура кремний-на-изоляторе для сбис

Структура кремний-на-изоляторе для сбис

 Использование: при производстве СБИС, у которых на одном кристалле формируются как полевые, так и биполярные транзисторы. Сущность изобретения: структура кремний-на-изоляторе для СБИС содержит области кремния, изолированные первым слоем диэлектрика друг от друга и вторым слоем диэлектрика от кремниевой подложки, для размещения в них полевых и биполярных транзисторов. Над вторым слоем диэл...

2230393

Способ изготовления автомасштабируемого биполярного транзистора

Способ изготовления автомасштабируемого биполярного транзистора

 Использование: в микроэлектронике, в технологии изготовления интегральных схем высокой степени интеграции на биполярных транзисторах. Сущность изобретения: способ изготовления биполярного транзистора включает нанесение на подложку кремния первого слоя диэлектрика, формирование в нем травлением методом РИТ окон под базу, осаждение первого слоя поликристаллического кремния, легирование поли...

2234162

Способ создания структуры - кремний на изоляторе для сбис

Способ создания структуры - кремний на изоляторе для сбис

 Использование: в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления структур кремний - на - изоляторе для СБИС. Техническим результатом изобретения является повышение качества структур кремний на изоляторе и процента выхода годных структур за счет создания сплошной границы между пластинами без образования полостей. Сущность изобретения: в способе создания структуры кремний - на - изолят...

2234164

Способ изготовления автомасштабируемой бикмоп структуры

Способ изготовления автомасштабируемой бикмоп структуры

 Использование: микроэлектроника, технология изготовления БиКМОП структур, включающих биполярные и полевые транзисторы с субмикронными размерами элементов. Сущность изобретения: в кремниевой подложке создают карманы первого и второго типа проводимости, первый слой диэлектрика, формируют тонкий окисел кремния, осаждают слой электродного поликристаллического кремния, легируют его в месте рас...

2234165


Способ изготовления комплементарных вертикальных биполярных транзисторов в составе интегральных схем

Способ изготовления комплементарных вертикальных биполярных транзисторов в составе интегральных схем

Использование в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления интегральных схем (ИС) с использованием комплементарных биполярных транзисторов NPN и PNP с носителями разного типа проводимости. Сущность изобретения: способ изготовления комплементарных вертикальных биполярных транзисторов в составе интегральных схем по предлагаемому изобретению приводит к тому, что размеры эмиттера и базы тран...

2244985

Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)

Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)

Использование: в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике, используемых в производстве СБИС, в частности структур кремний-на-диэлектрике. Технический результат - повышение качества структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике за счет создания сплошной границы между пластинами без образования полост...

2248069

Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)

Способ изготовления тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике (варианты)

Использование: в микроэлектронике, а именно в технологии изготовления структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике, используемых в производстве СБИС, в частности структур кремний-на-диэлектрике. Техническим результатом изобретения является повышение качества структур тонких пленок полупроводникового материала на диэлектрике за счет выбора режимов имплантации, устойчиво препят...

2260874

Способ изготовления принтерной головки с тонкопленочным резистором и принтерная головка

Способ изготовления принтерной головки с тонкопленочным резистором и принтерная головка

Использование: в производстве струйных принтеров, а именно печатающих головок для струйных принтеров, имеющих небольшие отверстия в головке, через которые по программе выбрасываются чернильные капельки. Сущность изобретения: в способе изготовления принтерной головки, включающем осаждение резистивного слоя и слоя проводника на изолированной подложке, формирование рисунков слоев, осажденных на изоли...

2261498

Способ изготовления биполярного транзистора

Способ изготовления биполярного транзистора

Использование: микроэлектроника, технология изготовления интегральных схем на биполярных транзисторах, изготовленных с использованием методов самосовмещенной технологии. Сущность изобретения: в способе изготовления биполярного транзистора, включающем нанесение на подложку кремния первого слоя окисла кремния и первого слоя поликристаллического кремния, легирование первого слоя поликристаллического...

2262774


Способ изготовления тонкопленочной структуры межсоединений принтерной головки с тонкопленочным резистором

Способ изготовления тонкопленочной структуры межсоединений принтерной головки с тонкопленочным резистором

Использование: в производстве струйных принтеров, а именно печатающих головок для струйных принтеров, имеющих небольшие отверстия в головке, через которые по программе выбрасываются чернильные капельки. Сущность изобретения: в способе изготовления тонкопленочной структуры межсоединений принтерной головки, включающем осаждение резистивного слоя и слоя проводника на изолированной подложке, формирова...

2263998