PatentDB.ru — поиск по патентным документам

Левин Денис Дмитриевич (RU)

Изобретатель Левин Денис Дмитриевич (RU) является автором следующих патентов:

Биодеградируемый материал на основе молекул белков и волокон биополимеров для обеспечения ускоренного восстановления тканей и способ его получения

Биодеградируемый материал на основе молекул белков и волокон биополимеров для обеспечения ускоренного восстановления тканей и способ его получения

Изобретение относится к биологии и медицине и заключается в биодеградируемом материале на основе белков и волокон биополимеров, который используется как клеточный каркас для роста клеток. Белок является альбумином, представляющим собой связующее, волокна биополимера являются хитозаном с молекулярной массой 70-1000 кДа и степенью деацетелирования 50-100%. Волокна биополимера диаметром 20-500 нм...

2602775

Способ получения фоторезистивного слоя на различных подложках

Способ получения фоторезистивного слоя на различных подложках

Изобретение относится к области литографии и касается способа получения фоторезистивного слоя. Фоторезистивный слой получают аэрозольным распылением из раствора фоторезистивного материала. Одновременно с аэрозольным потоком, при расходе не более 0,3 мл/мин, над подложкой формируют поток газа, с расходом превышающим расход раствора не менее чем на 4 порядка. Нанесение раствора производят итерационн...

2654329

Способ функционализации поверхности изделий из полилактида

Способ функционализации поверхности изделий из полилактида

Изобретение относится к полимерной промышленности и может быть использовано для медицинских имплантов и культивирования клеток. Осуществляют модификацию поверхности изделий из полилактида путем функционализации гидроксильными группами посредством обработки высокочастотной плазмой разряда инертного газа. Обрабатываемые изделия перед воздействием плазмы выдерживают в парах воды по меньшей мере 5 час...

2664925

Способ формирования фоторезистивной пленки из раствора на поверхности подложки

Способ формирования фоторезистивной пленки из раствора на поверхности подложки

Изобретение может быть использовано для формирования фоторезистивных пленок, однородных по толщине и пригодных для проведения операций фотолитографии для формирования интегральных микросхем, МЭМС и СВЧ-структур на подложках, в том числе со сложным рельефом, где перепад высот существенно больше толщины формируемой пленки фоторезиста. Предложен способ получения пленки фоторезиста из раствора методом...

2666175