ЭМБЕР Жан-Луи (FR)

Группа изобретений относится к литографии при помощи электронного пучка. Структура основания для слоя материала, предназначенного для селективной обработки по рисунку высокого разрешения, и приема электронно-чувствительного маскирующего слоя для определения рисунка содержит наслоение подложки и промежуточный слой из пористого материала с плотностью, по меньшей мере, в два раза меньшей, чем плотнос...